JP6289318B2 - 現像方法、現像装置及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記液溜りを基板の全面に広げる工程は、前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に拡散部材を接触させながら当該拡散部材を前記接触部と共に移動させる工程であることを特徴とする。
本発明の他の現像方法は、露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記液溜りを基板の全面に広げる工程は、前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に補助ノズルから現像液を供給しながら、当該補助ノズルを前記接触部と共に移動させる工程であることを特徴とする。
本発明のさらに他の現像方法は、露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記接触部が現像液と接触する外縁の外形については、平面で見て、進行方向側の外縁が進行方向側に膨らむ曲線をなし、前記進行方向側の外縁に連続する左右の各外縁が前記曲線の曲率よりも大きい曲率の曲線または角部をなしていることを特徴とする。
本発明の現像装置は、露光後の基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転機構と、
現像液の吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成された接触部と、を備えた現像液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板上を、当該基板の中央部から周縁部へ向けて前記現像液ノズルを移動させる移動機構と、
前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させるステップと、続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成するステップと、前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、
前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に接触しながら、前記接触部と共に前記基板の中央部から周縁部へ移動する拡散部材と、
を備えることを特徴とする。
本発明の他の現像装置は、露光後の基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転機構と、
現像液の吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成された接触部と、を備えた現像液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板上を、当該基板の中央部から周縁部へ向けて前記現像液ノズルを移動させる移動機構と、
前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させるステップと、続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成するステップと、前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、
前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に現像液を供給しながら前記接触部と共に前記基板の中央部から周縁部へ移動する補助ノズルと、
を備えることを特徴とする。
本発明の記憶媒体は、露光後の基板を現像する現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上記の現像方法を実施することを特徴とする。
本発明の第1の実施形態に係る現像装置1について図1、図2を参照しながら説明する。図1は現像装置1の概略構成を示す斜視図であり、図2は現像装置1の縦断側面図である。現像装置1は、図示しない搬送機構によって搬送されるウエハWを現像処理する装置であり、前記ウエハWの表面には、例えばネガ型レジストが塗布されており、所定のパターンに沿って露光されている。現像装置1は、基板保持部であるスピンチャック11と、液受け用のカップ体2と、現像液ノズル3と、洗浄液ノズル51と、を備えている。スピンチャック11は、ウエハWの裏面中央部を吸着して、ウエハWを水平に保持するものであり、回転軸12を介して回転機構13により鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。
続いて、第1の実施形態における第1の変形例について図13を参照して説明する。この第1の変形例では、現像液ノズル3の代わりに現像液ノズル3と形状のみ異なる現像液ノズル5を用いて、現像処理が行われる。現像液ノズル5は、平面視楕円形に構成されており、従って接触部32も楕円形に構成されている。楕円形の接触部32の中心に、吐出口31が開口している。この現像液ノズル5は、現像処理中、楕円の短軸方向に沿って水平に移動する。即ち、現像液ノズル5を平面で見ると、進行方向側の外縁が進行方向側に膨らむ曲線をなし、前記進行方向側の外縁に連続する左右の各外縁が、前記進行方向側の外縁がなす曲線の曲率よりも大きい曲率の曲線をなしている。
続いて、第1の実施形態における第2の変形例について説明する。図15は、この第2の変形例において用いられる現像液ノズル3の斜視図であり、図16、図17は、当該現像液ノズル3を用いて行われる現像処理を示す説明図である。この現像液ノズル3には、現像液ノズル3の接触部32の側方から、板状の拡散部材61が水平に伸び出しており、この拡散部材61の下面は、例えば接触部32と同じ高さに位置している。また、拡散部材61は、現像液ノズル3の進行方向側に設けられており、平面視、ウエハWの回転方向上流側へ向けて円弧を描くように延び出している。
図18には、現像装置1のさらに他の変形例を示している。この例では、アーム41に不活性ガスであるN2(窒素)ガスを供給するガスノズル62が設けられている。このガスノズル62は、現像液ノズル3の進行方向に向かって斜め下方にN2ガスを吐出する。当該ガスノズル62を設けた場合の現像処理について説明すると、上記のようにウエハWの中央部上に、その外縁が接触部32の外縁の外側に位置するように液溜まり30を形成する。その後、ガスノズル62からN2ガスの吐出を開始し、液溜まり30の周縁部は、当該N2ガスによりウエハWの外側へ向けて押し広げられる。然る後、アーム41を移動させ、N2ガスを吐出した状態のガスノズル62と現像液を吐出した状態の現像液ノズル3とを、ウエハWの周縁部に向けて移動させる。このように移動中にN2ガスを吐出することによって、液溜まり30の縁部が現像液ノズル3の進行方向に押し広げられ、現像液ノズル3の進行方向において、液溜まりの縁と現像液ノズル3の縁とが重なることが、より確実に抑えられる。
続いて、第2の実施形態の現像装置7について、第1の実施形態の現像装置1との差異点を中心に、図19を参照しながら説明する。この現像装置7においては、アーム41に現像液ノズル3と、補助ノズルである現像液ノズル71と、が設けられており、現像液ノズル71は、現像液ノズル3と共にウエハWの表面上をウエハWの径方向に沿って移動することができる。現像液ノズル71は垂直な円筒状に構成され、その下端は現像液ノズル3の接触部32よりも高い位置に設けられている。従って、現像液ノズル71は、現像液ノズル3が行うような現像液の撹拌を行わない。現像液ノズル71は、ウエハWの表面において現像液ノズル3の接触部32に対向する領域の外側領域に現像液を供給し、この外側領域は、前記接触部32に対向する領域に対して、現像処理時における現像液ノズル71及び現像液ノズル3の移動方向側に位置している。
1 現像装置
11 スピンチャック
3 現像液ノズル
30 液溜まり
31 吐出口
32 接触部
42 移動機構
100 制御部
Claims (12)
- 露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記液溜りを基板の全面に広げる工程は、前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に拡散部材を接触させながら当該拡散部材を前記接触部と共に移動させる工程であることを特徴とする現像方法。 - 前記拡散部材は、平面的に見て、前記接触部の中心と基板の回転中心とを含む直線に対して基板の回転方向上流側に少なくとも一部が設けられていることを特徴とする請求項1記載の現像方法。
- 露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記液溜りを基板の全面に広げる工程は、前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に補助ノズルから現像液を供給しながら、当該補助ノズルを前記接触部と共に移動させる工程であることを特徴とする現像方法。 - 露光後の基板を回転自在な基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで、現像液の吐出口と前記基板の表面よりも小さく形成された接触部とを備えた現像液ノズルを用い、前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させる工程と、
続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成する工程と、
前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げる工程と、を含み、
前記接触部が現像液と接触する外縁の外形については、平面で見て、進行方向側の外縁が進行方向側に膨らむ曲線をなし、前記進行方向側の外縁に連続する左右の各外縁が前記曲線の曲率よりも大きい曲率の曲線または角部をなしていることを特徴とする現像方法。 - 前記吐出口は、前記接触部に開口するように形成されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の現像方法。
- 前記液溜りを基板の全面に広げる工程を行う時の基板の回転数は、10〜50rpmであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の現像方法。
- 前記吐出口は、
接触部の一端側から他端側へ向けて現像液が流れるように、前記接触部において基板の表面に対して斜め方向に開口する開口部、
前記接触部にシャワー状に現像液を吐出するように設けられた複数の開口部、
及び、前記接触部を構成する多孔質体の各孔、のうちのいずれかであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の現像方法。 - 前記液溜まりを形成する工程は、
前記現像液ノズルの吐出口から前記接触部と基板の表面との隙間に現像液を吐出して、当該隙間に現像液を満たす工程を含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の現像方法。 - 前記液溜まりを形成する工程は、
基板の表面に現像液を吐出し、次いで現像液ノズルを基板に対して下降させて、前記接触部を前記基板に吐出された現像液に接触させる工程を含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一つに記載の現像方法。 - 露光後の基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転機構と、
現像液の吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成された接触部と、を備えた現像液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板上を、当該基板の中央部から周縁部へ向けて前記現像液ノズルを移動させる移動機構と、
前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させるステップと、続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成するステップと、前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、
前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に接触しながら、前記接触部と共に前記基板の中央部から周縁部へ移動する拡散部材と、
を備えることを特徴とする現像装置。 - 露光後の基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転機構と、
現像液の吐出口と、前記基板の表面よりも小さく形成された接触部と、を備えた現像液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板上を、当該基板の中央部から周縁部へ向けて前記現像液ノズルを移動させる移動機構と、
前記基板の中央部にて前記接触部を基板の表面に対向させるステップと、続いて前記現像液ノズルの吐出口から基板の表面に現像液を吐出して前記接触部から見て当該接触部の外縁よりも外側に現像液をはみ出させて液溜まりを形成するステップと、前記接触部の外縁よりも外側に現像液がはみ出した状態を維持して、回転している基板に前記吐出口から現像液を吐出しながら前記現像液ノズルを基板の中央部から周縁部に移動させて前記液溜りを基板の全面に広げるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、
前記接触部の外縁よりも外側にはみ出した液溜まりの一部に現像液を供給しながら前記接触部と共に前記基板の中央部から周縁部へ移動する補助ノズルと、
を備えることを特徴とする現像装置。
- 露光後の基板を現像する現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし9のいずれか一つに記載の現像方法を実施することを特徴とする記憶媒体。
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