JP2010027797A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法。 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体装置の特性劣化を抑制し、半導体装置のサイズを縮小する技術の提供。
【解決手段】半導体装置は、半導体領域1A内に設けられる第1及び第2の拡散層2A,2Bと、拡散層2A,2B間に設けられる第3の拡散層2Cと、第1の拡散層2Aの周囲を取り囲んで、半導体領域1A表面のゲート絶縁膜3A上に設けられる第1のゲート電極4Aと、第2の拡散層2Bの周囲を取り囲んで、半導体領域1A表面のゲート絶縁膜上に設けられる第2のゲート電極4Bと、ゲート電極4A,4Bの側面上に設けられる第1及び第2の側壁絶縁膜12A,12Bとを具備し、第1及び第2のゲート電極4A,4Bは、側壁絶縁膜12A,12Bが直接接触する部分を有し、第3の拡散層2Cの周囲は、ゲート電極4A,4Bによって取り囲まれている。
【選択図】図2
【解決手段】半導体装置は、半導体領域1A内に設けられる第1及び第2の拡散層2A,2Bと、拡散層2A,2B間に設けられる第3の拡散層2Cと、第1の拡散層2Aの周囲を取り囲んで、半導体領域1A表面のゲート絶縁膜3A上に設けられる第1のゲート電極4Aと、第2の拡散層2Bの周囲を取り囲んで、半導体領域1A表面のゲート絶縁膜上に設けられる第2のゲート電極4Bと、ゲート電極4A,4Bの側面上に設けられる第1及び第2の側壁絶縁膜12A,12Bとを具備し、第1及び第2のゲート電極4A,4Bは、側壁絶縁膜12A,12Bが直接接触する部分を有し、第3の拡散層2Cの周囲は、ゲート電極4A,4Bによって取り囲まれている。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体装置に係り、特に、エンクローズド型MOSトランジスタに関する。また、本発明は、その半導体装置の製造方法に関する。
電子機器に用いられる回路において、MOSトランジスタ(Metal-Oxide-Semiconductor Transistor)が主要な構成素子となっている。
MOSトランジスタは素子サイズの微細化が推し進められている。そのような状況の中、MOSトランジスタのゲート(チャネル)エッジにおいて、リーク電流の発生やチャネル領域内の不純物欠陥や結晶欠陥に起因する素子特性の劣化が問題となっている。
この問題の1つとして、MOSトランジスタのチャネル幅が小さくなるにつれて、MOSトランジスタのしきい値電圧が低下する現象がある。このようなしきい値電圧の低下現象は、逆ナローチャネル効果と呼ばれ、チャネル幅が小さいMOSトランジスタほど、顕著に現れる。
これは、チャネル領域が素子分離領域内の素子分離絶縁膜に接するため、素子分離絶縁膜が含む不純物(例えば、炭素)がチャネル領域内で固定電荷となり、この固定電荷の影響でチャネル領域の不純物が素子分離領域近傍に拡散し、チャネル不純物濃度が低下することに起因する。このため、MOSトランジスタのしきい値が低下する。
逆ナローチャネル効果を抑制するため、MOSトランジスタのチャネル長を長くする手法があるが、この場合、素子のサイズが大きくなる。また、逆ナローチャネル効果を抑制する他の手法の1つとして、ソース/ドレインとなる拡散層の一方をゲート電極によって取り囲む平面構造のエンクローズド型MOSトランジスタが存在する。
MOSトランジスタは、フラッシュメモリのような不揮発性半導体メモリにおいて、データの記憶を担うメモリセルアレイの動作制御する周辺回路に用いられている。
フラッシュメモリチップ内で高電圧を転送するために用いられる高耐圧系MOSトランジスタは、そのチャネルの不純物濃度が低耐圧系MOSトランジスタのチャネルの不純物濃度よりも低い(1×1015〜1×1017 cm-3程度)ので、逆ナローチャネル効果の影響を受けやすい。
FNトンネル効果(Fowler-Nordheim tunneling)を用いてメモリセルのしきい値電圧を制御するフラッシュメモリにおいて、ロウデコーダ回路には、高電圧を転送するための高耐圧系MOSトランジスタが必須となる。そのため、2つのMOSトランジスタを直列配置した直列トランジスタが、ロウデコーダ回路内に設けられる(例えば、特許文献1参照)。
フラッシュメモリのロウデコーダ回路において、電流はMOSトランジスタのチャネルの一方側から他方側へ、又は、他方側から一方側へと双方向に流れるため、MOSトランジスタのソースとドレインは、電流の流れる方向に応じて入れ替わる。
エンクローズド型MOSトランジスタを用いた直列トランジスタにおいて、このような電流の双方向性に対応させると、2つのエンクローズド型MOSトランジスタはソース/ドレインを共有できず、トランジスタ毎にそれぞれ2つのソース/ドレインを設けなければならない。このため、エンクローズド型MOSトランジスタを用いた直列トランジスタは、サイズが著しく増大する。
このように、逆ナローチャネル効果を抑制する結果として、MOSトランジスタ及びそれを用いた半導体装置のサイズ縮小は妨げられてしまう。
特開2005−347331号公報
本発明は、半導体装置の特性劣化を抑制し、半導体装置のサイズを縮小する技術を提案する。
本発明の例に関わる半導体装置は、素子分離領域に取り囲まれた半導体領域と、前記半導体領域内に、第1の方向に並んで設けられる第1及び第2の拡散層と、前記第1及び第2の拡散層間の前記半導体領域内に設けられる第3の拡散層と、前記第1の拡散層の周囲を取り囲んで、前記半導体領域表面の第1のゲート絶縁膜上に設けられる第1のゲート電極と、前記第2の拡散層の周囲を取り囲んで、前記半導体領域表面の第2のゲート絶縁膜上に設けられる第2のゲート電極と、前記第1のゲート電極の側面上に設けられる第1の側壁絶縁膜と、前記第2のゲート電極の側面上に設けられる第2の側壁絶縁膜と、を具備し、前記第1及び第2のゲート電極は、その側面上の前記第1及び第2の側壁絶縁膜が互いに接触する部分を有し、前記第3の拡散層の周囲は、前記第1及び第2のゲート電極によって取り囲まれていることを備える。
本発明の例に関わる半導体装置の製造方法は、素子分離領域に取り囲まれた半導体領域上に、第1及び第2のゲート絶縁膜を形成する工程と、前記第1及び第2のゲート絶縁膜上に、導電材を形成する工程と、前記導電材に第1の間隔と前記第1の間隔よりも広い第2の間隔を有するスリットを形成し、前記導電材を第1の開口部を有する第1のゲート電極と第2の開口部を有する第2のゲート電極とに分離する工程と、前記第1及び前記第2のゲート電極側面上に第1及び第2の側壁絶縁膜を形成し、前記第1の間隔を有している部分を前記第1及び第2の側壁絶縁膜を直接接触させて埋め込む工程と、前記第1及び第2のゲート電極をマスクにして、前記第1及び第2の開口部、前記第2の間隔を有している部分を経由して、前記半導体領域内に、第1乃至第3の拡散層を形成する工程と、を備える。
本発明の例によれば、半導体装置の特性劣化を抑制でき、半導体装置のサイズを縮小できる。
以下、図面を参照しながら、本発明の例を実施する形態について詳細に説明する。
1. 実施形態
以下、図1乃至図11を参照して、本発明の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について説明する。ここで、本発明の実施形態に係る半導体装置は、例えば、エンクローズド型MOSトランジスタ及びそれを用いた直列トランジスタである。
以下、図1乃至図11を参照して、本発明の実施形態に係る半導体装置及びその製造方法について説明する。ここで、本発明の実施形態に係る半導体装置は、例えば、エンクローズド型MOSトランジスタ及びそれを用いた直列トランジスタである。
(1) 構造
図1乃至図4を用いて、本発明の実施形態に係る半導体装置の構造について説明する。図1は、x方向に並んでいる2つのエンクローズド型MOSトランジスタの平面構造を示している。図2は図1のA−A線に沿う断面構造を図示し、図3は図1のB−B線に沿う断面構造を示している。また、図3は、図1のC−C線に沿う断面構造を示している。
図1乃至図4を用いて、本発明の実施形態に係る半導体装置の構造について説明する。図1は、x方向に並んでいる2つのエンクローズド型MOSトランジスタの平面構造を示している。図2は図1のA−A線に沿う断面構造を図示し、図3は図1のB−B線に沿う断面構造を示している。また、図3は、図1のC−C線に沿う断面構造を示している。
半導体基板1は、素子分離領域STIとそれに取り囲まれたアクティブ領域(半導体領域)AAとから構成される。半導体基板1内にはウェル領域1Aが設けられ、このウェル領域1Aが、素子が形成されるアクティブ領域AAとして機能する。例えば、高耐圧系トランジスタが形成される場合、ウェル領域1Aの不純物濃度は、例えば、1×1015〜1×1017 cm-3程度である。
素子分離領域STI内には、例えば、STI(Shallow Trench Isolation)構造の絶縁膜10が設けられ、この絶縁膜10底面に沿って、半導体基板1内に不純物層9が設けられる。不純物層9は、素子分離領域STIを挟んで隣接するアクティブ領域AAと他のアクティブ領域(図示せず)とに対して、チャネルストッパとして機能する。不純物層9は例えばウェル領域1Aとの同じ導電型で、不純物層9の不純物濃度は、ウェル領域1Aの不純物濃度よりも2桁程度高い。
図1乃至図4において、1つのアクティブ領域AA内には、2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2が、x方向(第1方向)に並んで設けられている。
2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2の各々は、ウェル領域1A表面のゲート絶縁膜3A,3Bと、ゲート絶縁膜3A,3B上のゲート電極4A,4Bと、ウェル領域1A(半導体基板1)内に設けられたソース/ドレインとして機能する2つの拡散層2A,2B,2C(以下、ソース/ドレイン拡散層と呼ぶ)とから構成される。
ゲート絶縁膜2A,2Bは、例えばシリコン酸化膜から構成され、本実施形態に係るMOSトランジスタが高耐圧系トランジスタである場合には、ゲート絶縁膜2A,2Bの膜厚Toxは例えば20nm〜50nm程度であることが好ましい。
一方のエンクローズド型MOSトランジスタTr1のゲート電極(第1のゲート電極)4Aは、1つのソース/ドレイン拡散層(第1の拡散層)2Aの周囲を取り囲むように、ゲート絶縁膜3A上に設けられている。他方のエンクローズド型MOSトランジスタTr2のゲート電極(第2のゲート電極)4Bは、1つのソース/ドレイン拡散層(第2の拡散層)2Bの周囲を取り囲むように、ゲート絶縁膜3B上に設けられている。
ゲート電極4A,4Bは、アクティブ領域AAと素子分離領域STIとの境界付近において、素子分離領域STI内の絶縁膜10上を覆っている。ゲート電極4A,4Bは例えばポリシリコンから構成される。尚、シリサイドや金属など他の導電材を用いても良いのはもちろんである。
x方向に並んでいるソース/ドレイン拡散層2Aとソース/ドレイン拡散層2Bとの間には、ソース/ドレイン拡散層(第3の拡散層)2Cが設けられている。このソース/ドレイン拡散層2Cは、2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2で共有される。
ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2C内には、これらの拡散層2A,2B,2Cと同じ導電型の不純物層6A,6B,6Cが設けられている。不純物層6A,6B,6Cの不純物濃度はソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cの不純物濃度よりも高い。
尚、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cの導電型とウェル領域1Aの導電型は異なっている。それゆえ、例えば、本実施形態のエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2がNチャネル型MOSトランジスタである場合には、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cはn−領域となり、ウェル領域1Aはp−領域となる。また、不純物層6A,6B,6Cはn+領域となり、不純物層(チャネルストッパ)9はp+領域となる。
尚、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cの導電型とウェル領域1Aの導電型は異なっている。それゆえ、例えば、本実施形態のエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2がNチャネル型MOSトランジスタである場合には、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cはn−領域となり、ウェル領域1Aはp−領域となる。また、不純物層6A,6B,6Cはn+領域となり、不純物層(チャネルストッパ)9はp+領域となる。
ゲート電極4A,4B側面上には、側壁絶縁膜12A,12Bがそれぞれ設けられる。ゲート電極側面上からの側壁絶縁膜12A,12Bの膜厚は、例えば、ゲート絶縁膜3A,3Bの膜厚Toxとした場合、Tox/2以上とであることが好ましい。側壁絶縁膜12A,12Bは、例えば、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜が用いられる。尚、本実施形態において、側壁絶縁膜12A,12Bの膜厚は、半導体基板1表面に対して平行方向の厚さで定義される。
ゲート電極4A,4B上には、例えば、TEOS膜などの層間絶縁膜14,16が設けられる。層間絶縁膜14,16内には、例えば、タングステン(W)やモリブデン(Mo)から構成されるコンタクトプラグCP1,CP2A,CP2B,CP3が埋め込まれる。
コンタクトプラグCP1は、ゲート電極4A,4Bにそれぞれ接続される。コンタクトプラグCP2A,CP2Bはソース/ドレイン拡散層2A,2B(不純物層6A,6B)にそれぞれ接続され、コンタクトプラグCP3は2つのMOSトランジスタTr1,Tr2で共有されるソース/ドレイン拡散層2C(不純物層6C)に接続される。
尚、ゲート−コンタクト間の干渉(例えば、耐圧や寄生容量)は、ゲート電極4A,4BとコンタクトプラグCP2A,CP2B,CP3との間隔が、ゲート絶縁膜2A,2Bの膜厚Toxと同程度の大きさを有していれば、抑制できる。例えば、側壁絶縁膜12A,12Bの膜厚がゲート絶縁膜2A,2Bの膜厚Toxと同程度であれば、図2に示す例のように、側壁絶縁膜12A,12BとコンタクトプラグCP2A,CP2B,CP3とが直接接触する構造であっても、MOSトランジスタTr1,Tr2の動作は補償される。但し、側壁絶縁膜とコンタクトプラグとの間に、絶縁膜が介在しても良いのはもちろんである。
コンタクトプラグCP2A,CP2B,CP3には、例えば、アルミニウム(Al)や銅(Cu)から構成される配線層M1が接続される。
本発明の実施形態に係るエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2において、第1のゲート電極4Aと第2のゲート電極4Bは、それらの側面上に設けられた側壁絶縁膜12A,12Bが直接接触する部分41,42を有している。ゲート電極4A,4Bの側壁絶縁膜12A,12Bを介して接触する部分41,42は、x方向に互いに対向して突出している。以下、この部分41,42のことを突起部41,42と呼ぶ。
2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2によって共有される1つのソース/ドレイン拡散層2Cは、そのx方向においては2つのゲート電極4A,4Bに挟まれ、そのy方向においては2つのゲート電極4A,4Bの突起部41,42に挟まれ、拡散層2Cの周囲がゲート電極4A,4Bに取り囲まれた平面構造となっている。
図3及び図4に示すように、突起部41,42下方はウェル領域(半導体領域)1Aである。このため、エンクローズ型MOSトランジスタTr1,Tr2の実効的なチャネル長L2は、2つのソース/ドレイン拡散層2A,2C間の長さL1よりも長くなる。
また、本実施形態とは異なって、突起部41,42下方に2つのMOSトランジスタTr1,Tr2を分離するための絶縁膜を設けた場合、2つのMOSトランジスタTr1,Tr2とのチャネル領域と絶縁膜との接触面積が大きくなり、この結果として、チャネル領域内に形成される固定電荷の数が多くなる。
これに対して、本実施形態では、2つのMOSトランジスタTr1,Tr2を電気的に分離するための絶縁膜を用いていないため、突起部41,42下方は半導体領域(ウェル領域1A)となって、チャネル領域と絶縁膜との接触面積は低減する。これによって、チャネル領域内の固定電荷数を低減できる。
これによって、MOSトランジスタの逆ナローチャネル効果を抑制できる。また、本実施形態によれば、チャネル長を長くするために、アクティブ領域AAのサイズを大きくせずともよくなるため、半導体装置のサイズ縮小にも貢献できる。
これに対して、本実施形態では、2つのMOSトランジスタTr1,Tr2を電気的に分離するための絶縁膜を用いていないため、突起部41,42下方は半導体領域(ウェル領域1A)となって、チャネル領域と絶縁膜との接触面積は低減する。これによって、チャネル領域内の固定電荷数を低減できる。
これによって、MOSトランジスタの逆ナローチャネル効果を抑制できる。また、本実施形態によれば、チャネル長を長くするために、アクティブ領域AAのサイズを大きくせずともよくなるため、半導体装置のサイズ縮小にも貢献できる。
さらに、図4に示すように、突起部41,42下方はウェル領域1A(半導体領域)になるため、ソース/ドレイン拡散層2Cと絶縁膜10とは直接接触せず、ソース/ドレイン拡散層2Cと絶縁膜10との間隔が離れる。よって、ソース/ドレイン拡散層2Cから素子分離領域内の絶縁膜10へ流れるリーク電流も抑制できる。
このように、本実施形態に係るMOSトランジスタは、ゲート(チャネル)エッジの欠陥に起因する特性劣化を抑制できる。
尚、2つのトランジスタを電気的に分離するための絶縁膜を設けず、突起部41,42下方が半導体領域であっても、その半導体領域内にソース/ドレイン拡散層2Cと同一の拡散層は設けられていないので、1つのアクティブ領域AA内の2つのエンクローズド型MOSトランジスタは、それぞれ独立したトランジスタとなっている。また、突起部41,42下方が半導体領域あっても、2つのゲート電極4A,4Bが少なくともゲート絶縁膜2A,2Bの膜厚Tox以上離れているため、MOSトランジスタTr1,Tr2動作時にゲート電極4A,4B下方にチャネル(反転層)が形成されても、チャネル同士が導通することはない。
また、後述の製造方法により、異なるゲート電位でそれぞれ独立に制御される2つのエンクローズド型MOSトランジスタを、共有される1つのソース/ドレイン拡散層2Cの周囲をゲート電極4A,4Bによって取り囲んで、1つのアクティブ領域AA内に形成できる。これによって、2つのエンクローズド型MOSトランジスタを用いた直列トランジスタを形成できる。
1つの直列トランジスタを構成する2つのエンクローズド型トランジスタの形状はほぼ同一で、且つ、1つのソース/ドレイン拡散層2Cを共有できるので、ソース/ドレインが電流の流れる方向に応じて入れ替わっても、トランジスタの耐圧特性は劣化しない。即ち、直列トランジスタの特性を向上できる。また、ソース/ドレイン拡散層2Cの共有化により、2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2(1つのアクティブ領域)のサイズを縮小できる。
このように、本実施形態では、エンクローズド型MOSトランジスタを用いた直列トランジスタの耐圧特性を高くでき、さらには、サイズを小さくできる。
したがって、本発明の実施形態によれば、MOSトランジスタ及びそれを用いた半導体装置の特性劣化を抑制でき、それと共に、半導体装置のサイズを縮小できる。
(2) 製造方法
以下、図1乃至図10を用いて、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法について説明する。尚、各工程において、図1のA−A線及びB−B線に沿う断面を図示して、説明する。
以下、図1乃至図10を用いて、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法について説明する。尚、各工程において、図1のA−A線及びB−B線に沿う断面を図示して、説明する。
はじめに、図5に示すように、ウェル領域1Aが形成された半導体基板1内に、素子分離溝が形成され、この溝に絶縁膜10が埋め込まれる。これによって、素子分離領域STIとアクティブ領域とに区画される。尚、絶縁膜10の底部に沿って、チャネルストッパとして機能する不純物層9が形成されている。
続いて、アクティブ領域(ウェル領域1A)表面に、ゲート絶縁膜となる絶縁膜3(例えば、シリコン酸化膜)が、例えば熱酸化法などを用いて形成される。絶縁膜3の膜厚Toxは、形成されるMOSトランジスタが高耐圧系トランジスタの場合、例えば、20nm〜50nmである。これに続いて、導電材4が、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって、絶縁膜3,10上に形成される。この導電材4はゲート電極材であり、例えば、ポリシリコンである。
続いて、アクティブ領域(ウェル領域1A)表面に、ゲート絶縁膜となる絶縁膜3(例えば、シリコン酸化膜)が、例えば熱酸化法などを用いて形成される。絶縁膜3の膜厚Toxは、形成されるMOSトランジスタが高耐圧系トランジスタの場合、例えば、20nm〜50nmである。これに続いて、導電材4が、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって、絶縁膜3,10上に形成される。この導電材4はゲート電極材であり、例えば、ポリシリコンである。
次に、導電材4及び絶縁膜3が、例えばフォトリソグラフィー技術及びRIE(Reactive Ion Etching)法を用いて、所定のパターンとなるようにエッチングされる。これにより、導電材4及び絶縁膜3が分離され、図6及び図7に示すように、スリットPが形成され、1つのアクティブ領域AA内に、2つのゲート電極4A,4Bがx方向に並んで、ゲート絶縁膜3A,3B上にそれぞれ形成される。
スリットPの形成と同時に、開口部Q1,Q2がゲート電極4A,4B及びゲート絶縁膜3A,3Bの各々に形成され、半導体基板1(ウェル領域1A)表面が露出される。形成されたゲート電極4A,4Bは、アクティブ領域AAと素子分離領域STIとの境界付近において、絶縁膜10上を覆っている。
また、ゲート電極4Aとゲート電極4Bとの間のスリットPは、2つのゲート電極4A,4Bの一部(突起部)41,42がx方向に互いに対向して突出し、ゲート電極間が間隔d1となっている部分と、2つのゲート電極4A,4B間の間隔がd1よりも大きいd2となっている部分とを有している。ゲート絶縁膜3Aの膜厚をToxとした場合、形成されるトランジスタの動作を保証するため、間隔d1はTox以上となるように形成される。尚、開口部Q1,Q2のx方向の寸法は、例えば、間隔d2と同程度となるように形成される。
また、後のイオン注入工程において、イオン(不純物)が、間隔d1を有している部分のスリットを経由して半導体基板1内に注入され、拡散層が形成されないようにするため、図6及び図7の工程に続く側壁絶縁膜形成工程において、2つのゲート電極4A,4B側面上に形成される側壁絶縁膜が互いに直接接触する間隔となるように、間隔d1の大きさが設定される。尚、間隔d2を有している部分では、側壁絶縁膜が互いに接触しない間隔で、間隔d2の大きさが設定される。
続いて図8に示すように、絶縁膜が例えばCVD法を用いて、ゲート電極4A,4Bを覆うように堆積され、この絶縁膜に対して、ゲート電極4A,4B上面が露出し、ゲート電極4A,4B側面に絶縁膜が残存するように、エッチバックが施される。これによって、側壁絶縁膜12A,12Bが、ゲート電極4A,4B側面上に形成される。
この際、開口部Q1,Q2及びスリットPの間隔d2を有する部分は、x方向の寸法が大きいので、側壁絶縁膜12A,12Bによって完全に埋め込まれることはなく、半導体基板1表面が露出する。その一方で、スリットPの間隔d1を有する部分では、形成された側壁絶縁膜12A,12Bの側面が互いに接触し、絶縁膜12A,12Bで完全に埋め込まれている。それゆえ、スリットPの間隔d1を有する部分では、半導体基板1表面は露出しない。尚、側壁絶縁膜12A,12Bの各々の膜厚は、間隔d1がゲート絶縁膜3A,3Bの膜厚Toxと同じ場合、Tox/2となっている。
この際、開口部Q1,Q2及びスリットPの間隔d2を有する部分は、x方向の寸法が大きいので、側壁絶縁膜12A,12Bによって完全に埋め込まれることはなく、半導体基板1表面が露出する。その一方で、スリットPの間隔d1を有する部分では、形成された側壁絶縁膜12A,12Bの側面が互いに接触し、絶縁膜12A,12Bで完全に埋め込まれている。それゆえ、スリットPの間隔d1を有する部分では、半導体基板1表面は露出しない。尚、側壁絶縁膜12A,12Bの各々の膜厚は、間隔d1がゲート絶縁膜3A,3Bの膜厚Toxと同じ場合、Tox/2となっている。
この後、図9に示すように、例えば、イオン注入法を用いて、半導体基板1(ウェル領域1A)内に、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cが、ゲート電極4A,4B及び側壁絶縁膜12A,12Bをマスクとした自己整合的な手法によって、形成される。これに続いて、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2C内に、不純物層6A,6B,6Cが形成される。不純物層6A,6B,6Cの不純物濃度は、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cの不純物濃度よりも高く、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2CがN−領域である場合には、不純物層6A,6B,6CはN+領域となる。
これによって、ソース/ドレイン拡散層2Aの周囲が、半導体基板1(ゲート絶縁膜3A)上のゲート電極4Aによって取り囲まれた平面構造となる。また、ソース/ドレイン拡散層2Bの周囲が、半導体基板(ゲート絶縁膜3B)1上のゲート電極4Bによって取り囲まれた平面構造となる。
ソース/ドレイン拡散層2Cは、ゲート電極4A,4Bをそれぞれ用いるMOSトランジスタで共有される。この拡散層2Cは、スリットPのうち間隔d2を有している部分では半導体基板1表面が露出しているため、イオン(不純物)がスリットPを経由して半導体基板1内に注入されて、形成される。これに対して、間隔d1を有している部分の半導体基板1内には形成されない。スリットPの間隔d1を有している部分は、側壁絶縁膜12A,12Bの側面が互いに接触し、絶縁膜12A,12Bによって完全に埋め込まれているため、イオン(不純物)が半導体基板1内に達しないからである。
これによって、ソース/ドレイン拡散層2Cのy方向端部と絶縁膜(素子分離領域)10の間は半導体領域(ウェル領域1A)となる。
このように、ソース/ドレイン拡散層2Cのy方向端部に半導体領域を設けるためには、ソース/ドレイン拡散層形成時に、その領域上方が、側壁絶縁膜12A,12Bで埋め込まれなければならない。そのため、間隔d1は、2つのゲート電極3A,3B側面上に形成された絶縁膜が、互いに接触する間隔以下であることが好ましい。但し、イオン注入を行う前に、2つの側壁絶縁膜12A,12Bが接触していない場合には、2つの側壁絶縁膜12A,12B間に他の絶縁膜を埋め込んでもよい。
ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2Cを形成した後、図10に示すように、層間絶縁膜14が、ゲート電極4A,4B上及びソース/ドレイン拡散層2A,2B,2C上に形成される。さらに、層間絶縁膜14上に、層間絶縁膜16が形成される。
この後、図1乃至図4に示すように、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2C(不純物層6A,6B,6C)表面に達するコンタクトホールが、層間絶縁膜14,16内に形成される。これらのコンタクトホール内に、コンタクトCP2A,CP2B,CP2Cが埋め込まれる。また、ゲート電極4A,4Bに接触するように、コンタクトCP1が層間絶縁膜14,16内に形成されたコンタクトホールに埋め込まれる。そして、コンタクトCP1、CP2A,CP2B,CP2Cに接続するように、配線層M1が形成される。
この後、図1乃至図4に示すように、ソース/ドレイン拡散層2A,2B,2C(不純物層6A,6B,6C)表面に達するコンタクトホールが、層間絶縁膜14,16内に形成される。これらのコンタクトホール内に、コンタクトCP2A,CP2B,CP2Cが埋め込まれる。また、ゲート電極4A,4Bに接触するように、コンタクトCP1が層間絶縁膜14,16内に形成されたコンタクトホールに埋め込まれる。そして、コンタクトCP1、CP2A,CP2B,CP2Cに接続するように、配線層M1が形成される。
以上の工程によって、本発明の実施形態に係るエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2が、完成する。
このように、ゲート電極4A,4Bが、1つのソース/ドレイン拡散層2A,2Bの周囲を取り囲むように半導体基板1上に形成される。そして、これらのゲート電極4A,4Bは、2つのエンクローズド型MOSトランジスタTr1,Tr2で共有される1つのソース/ドレイン拡散層2Cの周囲も取り囲んで形成される。共有されるソース/ドレイン拡散層2Cを取り囲むため、ゲート電極4A,4Bのそれぞれには、対向して突出した突起部41,42が形成される。この突起部41,42下方はウェル領域(半導体領域)1Aとなり、エンクローズ型MOSトランジスタTr1,Tr2の実質的なチャネル長は長くなる。また、y方向において、ソース/ドレイン拡散層2Cと絶縁膜10との間は、半導体領域となるため、ソース/ドレイン拡散層2Cと絶縁膜10とは直接接触せず、その間隔も大きくなる。
これによって、本実施形態によれば、逆ナローチャネル効果や、ソース/ドレイン拡散層から素子分離領域へ流れるリーク電流などの特性劣化を抑制できる。これらの特性劣化を抑制するために、本実施形態に係るMOSトランジスタは、素子サイズやその形成領域のサイズを大きくせずとも良いので、半導体装置のサイズの縮小にも貢献できる。
また、本実施形態によれば、ほぼ同一構造を有し、且つ、ソース/ドレイン拡散層の1つを共有した2つのエンクローズド型MOSトランジスタを1つのアクティブ領域内に形成できるので、耐圧特性が高く、且つ、動作制御の容易な直列トランジスタを構成できる。
したがって、本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、素子特性の劣化を抑制し、サイズを縮小した半導体装置を提供できる。
(3) 適用例
図11を用いて、本発明の実施形態の適用例について説明する。
図11を用いて、本発明の実施形態の適用例について説明する。
図11は、半導体メモリ、例えば、フラッシュメモリの構成を示すブロック図である。図11に示すように、フラッシュメモリは、複数のメモリセルが設けられたメモリセルアレイ100と、メモリセルが記憶しているデータを検知するセンスアンプ回路120と、メモリセルアレイ100に設けられたワード線を駆動するロウデコーダ回路120と、フラッシュメモリの動作の全体を制御する制御回路130とを、主要な構成部としている。
フラッシュメモリのデータ書き込みは、例えば、20V〜30V程度の書き込み電圧をワード線に印加して実行される。このため、書き込み電圧をチップ内で生成する電位生成回路内の素子や、ロウデコーダ回路120内の書き込み電圧をワード線に転送するための素子に、高耐圧系トランジスタHVTrが用いられている。
本発明の実施形態に係るエンクローズド型トランジスタ及びそれを用いた直列トランジスタは、電位生成回路やロウデコーダ回路120の高耐圧系トランジスタHVTrに適用される。
上記のように、本実施形態のエンクローズド型MOSトランジスタは、サイズを大きくせずとも、逆ナローチャネル効果などのゲート(チャネル)エッジの欠陥に起因する特性劣化を抑制できる。また、本実施形態において、2つのエンクローズド型MOSトランジスタが、ほぼ同一の構造を有し、1つのソース/ドレインを共有して同じアクティブ領域内に形成されているため、高耐圧で制御が容易な直列トランジスタを形成できる。加えて、この直列トランジスタは回路規模も小さい。
このように、本実施形態に係るエンクローズド型MOSトランジスタを用いて、ロウデコーダ回路120などの周辺回路を形成できるので、特性の劣化が抑制され、チップサイズの小さいフラッシュメモリ(半導体メモリ)を提供できる。
3. その他
本発明の実施形態に係る半導体装置は、半導体装置の特性劣化を抑制でき、半導体装置のサイズを縮小できる。
本発明の実施形態に係る半導体装置は、半導体装置の特性劣化を抑制でき、半導体装置のサイズを縮小できる。
本発明の例は、上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、各構成要素を変形して具体化できる。また、上述の実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を構成できる。例えば、上述の実施形態に開示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。
1:半導体基板、1A:ウェル領域、2A,2B,2C:ソース/ドレイン拡散層、3A,3B:ゲート絶縁膜、4A,4B:ゲート電極、6A,6B,6C:不純物層、9:不純物層(チャネルストッパ)、10:絶縁膜、12A,12B:側壁絶縁膜、14,16:層間絶縁膜、CP1,CP2A,CP2B,CP3:コンタクトプラグ、M1:配線層。
Claims (5)
- 素子分離領域に取り囲まれた半導体領域と、
前記半導体領域内に、第1の方向に並んで設けられる第1及び第2の拡散層と、
前記第1及び第2の拡散層間の前記半導体領域内に設けられる第3の拡散層と、
前記第1の拡散層の周囲を取り囲んで、前記半導体領域表面の第1のゲート絶縁膜上に設けられる第1のゲート電極と、
前記第2の拡散層の周囲を取り囲んで、前記半導体領域表面の第2のゲート絶縁膜上に設けられる第2のゲート電極と、
前記第1のゲート電極の側面上に設けられる第1の側壁絶縁膜と、
前記第2のゲート電極の側面上に設けられる第2の側壁絶縁膜と、
を具備し、
前記第1及び第2のゲート電極は、その側面上の前記第1及び第2の側壁絶縁膜が互いに接触する部分を有し、
前記第3の拡散層の周囲は、前記第1及び第2のゲート電極によって取り囲まれていることを特徴とする半導体装置。 - 前記第1のゲート電極は、前記第1の方向に突出した第1の突起部を有し、
前記第2のゲート電極は、前記第1の突起部に対向して第1の方向に突出した第2の突起部を有し、
前記第1の突起部側面上の前記第1の側壁絶縁膜と前記第2の突起部側面上の前記第2の側壁絶縁膜とが、直接接触することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1及び第2の突起部下部は、前記半導体領域であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記第1の突起部と前記第2の突起部との間隔は、
前記第1のゲート絶縁膜の膜厚以上の寸法であり、
前記第1の側壁絶縁膜と前記第2の側壁絶縁膜とが直接接触する寸法以下である、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 素子分離領域に取り囲まれた半導体領域上に、第1及び第2のゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記第1及び第2のゲート絶縁膜上に、導電材を形成する工程と、
前記導電材に第1の間隔と前記第1の間隔よりも広い第2の間隔を有するスリットを形成し、前記導電材を第1の開口部を有する第1のゲート電極と第2の開口部を有する第2のゲート電極とに分離する工程と、
前記第1及び前記第2のゲート電極側面上に第1及び第2の側壁絶縁膜を形成し、前記スリットの前記第1の間隔を有している部分を前記第1及び第2の側壁絶縁膜を直接接触させて埋め込む工程と、
前記第1及び第2のゲート電極をマスクにして、前記第1及び第2の開口部、前記第2の間隔を有している部分を経由して、前記半導体領域内に、第1乃至第3の拡散層を形成する工程と、
を具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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JP2008186314A JP2010027797A (ja) | 2008-07-17 | 2008-07-17 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法。 |
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JP2017188610A (ja) * | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 株式会社ディスコ | パッケージウェーハの製造方法及びデバイスチップの製造方法 |
-
2008
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