JP2010015123A - 基板欠陥の修理方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板の欠陥部位に復元剤を注入することを含む、基板欠陥の修理方法を提供する。
【解決手段】欠陥のある基板112上に、前記欠陥を覆うように復元剤140を注入する段階と、前記復元剤140を硬化させる段階と、前記硬化された復元剤140と前記基板112とが平坦になるように前記硬化された復元剤140を研磨する段階とを含むことを特徴とする基板欠陥の修理方法の提供。
【選択図】図5

Description

本発明は、基板欠陥の修理方法に係り、より具体的には、基板の欠陥部位に復元剤を注入して基板欠陥を修理する方法に関する。
一般的に使用される表示装置の一つであるCRT(Cathode Ray Tube)は、TVを含めて計測機器、情報端末機器などのモニターに主に利用されているが、CRT自体の重さと大きさから電子製品の小型化、軽量化などに積極的に対応できなかった。
このようなCRTの問題を解決するために、LCD(liquid crystal display)、PDP(plasma display panel)、ELD(electro luminescent display)、VFD(vacuum fluorescent display)のような多様な平板表示装置が提案及び活用されている。大部分の平板表示装置は、透明なガラス基板を使用して製作する。
平板表示装置のうちの液晶表示装置は、小型化、軽量化、薄形化、低電力駆動の長所から、現在、最も幅広く使用されている。特に、薄膜トランジスタを利用した液晶表示装置は、表示画面の高画質化、大型化及びカラー化などを実現して、最近は、ノート型パソコン及びモニターは勿論、様々な分野で多様に使用されている。
液晶表示装置は、液晶表示パネル及びバックライトユニットで構成される。液晶表示パネルは、アレイ基板と液晶層を介して合着されるカラーフィルター基板とで構成される。アレイ基板とカラーフィルター基板とには、透明なガラス基板を使用する。
一般的にアレイ基板においては、多数のゲート配線及び多数のデータ配線が交差する画素領域が画定されて、各々の交差領域に形成された薄膜トランジスタ(TFT)は、各々の画素領域の画素電極に連結される。一般的にカラーフィルター基板においては、各々の画素領域に対応する赤色、緑色、青色のカラーフィルターと、各々のカラーフィルターの境界領域にブラックマトリックスと、カラーフィルター及びブラックマトリックス上に共通電極とが形成される。
液晶表示パネルの一側には、駆動信号を供給する駆動回路が実装された液晶表示パネルの駆動部が電気的に連結されており、液晶表示パネルの多数のゲート配線及び多数のデータ配線に信号を供給して液晶表示パネルを駆動させる。液晶表示パネルの共通電極に電圧が印加された状態で液晶表示パネルの画素電極に印加されるデータ信号の電圧を制御すると、液晶表示パネルの液晶層の液晶分子は、該共通電極と該画素電極との間の電界によって回転し、画素領域別に光を透過させたり、遮断させたりして画像を表示する。
前述したような液晶表示パネルの製作過程において、アレイ基板及びカラーフィルター基板の表面でスクラッチ及び陥没部位のような欠陥が発生してしまった場合は、このような欠陥は、これら基板全体を研磨して修理してきた。欠陥部位が深過ぎて修理できない場合は、これら基板全体を廃棄した。
以下、基板欠陥に対する従来技術の修理方法を説明する。
図1A及び図1Bは、欠陥のある液晶表示パネルの断面図である。
図1A及び図1Bに示したように、液晶表示パネル10においては、アレイ基板12が液晶層16を介してカラーフィルター基板14と合着されている。この時、例えば、液晶表示パネル10のケース(図示せず)を組立てる過程において、アレイ基板12またはカラーフィルター基板14の表面で、ケースの部品などによってスクラッチまたは陥没部位のような欠陥部位18が発生する。このような欠陥部位18は、液晶表示パネル10の駆動時、画像(イメージ)不良を発生させるので、必ず除去される。
図1Aに示したように、欠陥部位18がアレイ基板12に発生して、第1深さbの欠陥部位18がアレイ基板12に形成されている。研磨手段(図示せず)を使用して、点線20で表示されている欠陥部位18の深さでアレイ基板12を研磨して欠陥部位18を修理する。すなわち、欠陥部位18の第1深さbの厚さ程度の全面のアレイ基板12を研磨する。研磨段階によって、アレイ基板12は、第1厚さaを有することとなる。
このように、アレイ基板12の透明ガラス基板は、アレイ基板12が第1厚さaになるように研磨するので、研磨時間が増加する問題がある。また、研磨のための別途の装備を必要とする。
一方、図1Bに示したように、欠陥部位18が第1深さ(図1Aのb)よりさらに大きくなると、他の問題が発生する。すなわち、欠陥部位18のある透明ガラス基板を修理するために、透明ガラス基板は、第2厚さcになるように研磨される。ところが、この場合、アレイ基板12が薄くなり、液晶表示パネル10のスペックが不満足となり、液晶表示パネル10が廃棄される。欠陥部位18の深さが深過ぎて研磨できない場合もあって、この場合も、液晶表示パネル10が廃棄される。欠陥部位18だけによって、液晶表示パネル10を廃棄するので、生産効率が低下する。
前述したような従来技術で基板の欠陥部位を修理すると、欠陥部位を除いた基板の他の領域も同時に研磨するので、多くの時間を必要として、基板の厚さが薄くなる問題がある。また、基板の研磨のために別途の装備を必要とする。
さらに、基板の厚さが著しく薄いと、液晶表示パネルとして使用できないので、液晶表示パネルを廃棄することとなる。ところが、液晶表示パネルは、アレイ基板とカラーフィルター基板とを合着して大部分の段階を完了した状態であるので、廃棄すると、生産費用の損失が増加する原因となる。
本発明は、前述したような従来技術の問題を解決するために、基板の欠陥部位に復元剤を注入して欠陥部位を修理する基板欠陥の修理方法を提供する。
また、本発明は、液晶表示パネルの上部基板または下部基板で発生した欠陥部位に復元剤を注入して硬化させた後、研磨によって欠陥部位を修理する基板欠陥の修理方法を提供する。
本発明は、前述したような目的を達成するために、欠陥のある基板上に、前記欠陥を覆うように復元剤を注入する段階と、前記復元剤を硬化させる段階と、前記硬化された復元剤と前記基板とが平坦になるように前記硬化された復元剤を研磨する段階とを含むことを特徴とする基板欠陥の修理方法を提供する。
ここで、前記復元剤の注入段階と前記復元剤の硬化段階との間に、前記復元剤上にフィルムを付着させる段階と、前記復元剤の硬化段階と前記硬化された復元剤の研磨段階との間に、前記フィルムを脱着する段階とを含んでよい。
前記フィルムは、透明なセロハンフィルムであってよい。
前記復元剤を硬化させる段階は、前記復元剤上に紫外線UVを照射する段階を含んでよい。前記紫外線は、3mW/cm2の照度でよく、3分間ないし5分間照射されてよい。
前記復元剤は、熱によって硬化されてよく、前記硬化された復元剤は、研磨手段によって研磨されてよく、前記研磨手段の硬度は、前記基板の硬度より小さくてよく、前記硬化された復元剤の硬度より大きくてよい。
前記研磨手段は、剃刀であってよく、また、前記研磨手段は、回転可能な本体と、前記本体に結合される研磨布とで構成されてよい。
前記硬化された復元剤の研磨段階以後、前記基板を洗浄する段階をさらに含んでよい。
前記基板は、イソプロピルアルコールによって洗浄されてよい。
前記復元剤は、2−ヒドロキシルエチル メチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、トリエチレングリコール ジメタクリレート、光開始剤、及びアクリル酸で構成されてよく、前記2−ヒドロキシルエチル メチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、トリエチレングリコール ジメタクリレート、光開始剤及びアクリル酸は、各々70-80重量%、10-20重量%、0.1-5重量%、0.1-3重量%及び0.1-3重量%で構成されてよい。
前記基板が10インチモデル基板より小さい場合、前記欠陥の深さは、0.1mm以上であってよく、前記基板が10インチモデル基板である場合、前記欠陥の深さは、0.2mm以上であってよく、前記基板が10インチモデル基板より大きい場合、前記欠陥の深さは、0.2mm以上であってよい。
以下、図面を参照して、本発明の望ましい実施例を詳しく説明する。
本発明の基板欠陥の修理方法は、液晶表示パネルにおいて、上部基板及び下部基板で使用されるガラス基板の欠陥部位を深さまたは大きさに関わらず、ガラス復元剤の注入及び硬化後に硬化されたガラス復元剤を研磨して、欠陥部位を修理することにより、生産性を容易に改善する。
また、欠陥部位を特定して、欠陥部位を除いたガラス基板の他の領域に影響を与えずに修理することによって、ガラス基板の厚さに変化なく、欠陥部位を容易に修理する。本発明は、基板を研磨によって修理するのではなく、復元剤の注入によって修理するために、欠陥部位の深さが著しく深くても修理できる。
欠陥部位が液晶表示パネルの角に発生する場合にも、復元剤の注入、硬化及び研磨によって角を復元して、廃棄される液晶表示パネルを最少化する。
図2Aないし図2Fは、本発明の実施例による基板欠陥の修理方法の工程断面図であって、図3Aないし図3Cは、本発明の実施例による基板欠陥の斜視図である。図4A及び図4Bは、それぞれ、本発明の実施例による基板欠陥の修理前及び修理後の写真であって、図5は、本発明の実施例による復元剤の研磨の工程断面図である。
図3Aないし図3Cに示したように、液晶表示パネル110は、アレイ基板112、カラーフィルター基板114及びその間に介される液晶層116で構成される。液晶表示パネル110の製作過程でアレイ基板112の表面に基板欠陥が発生する。一方、基板欠陥は、カラーフィルター基板114の表面にも発生する。
図4Aは、液晶表示パネル110の角で角欠陥118aが発生する場合の図であり、図4Bは、液晶表示パネル110の上部の表面で液晶表示パネル110を組立てるために使用するケース部品(図示せず)によって突かれて発生する陥没欠陥118bの図であり、図4Cは、ケース部品などによって引っかかれて発生するスクラッチ欠陥118cの図である。
一般的に、角欠陥118a及び陥没欠陥118bの直径は、0.2mmないし1cm程度であって、スクラッチ欠陥118cの幅は、0.2mm程度、長さは、10cm程度である。液晶表示パネル110で発生する角欠陥118a、陥没欠陥118b及びスクラッチ欠陥118cは、液晶表示パネルの面積全体に比べて大きくはないが、画像(イメージ)具現の時に不良画像(イメージ)が発生するので、必ず修理するか、あるいは、修理できない場合は、液晶表示パネルを廃棄する。
液晶表示パネル110は、アレイ基板112及びカラーフィルター基板114が合着され、完成品の水準の段階であって、この段階で廃棄すると、生産費用の損失が大きい。従って、欠陥部位118をできるだけ修理して、完成品として出荷させる。
液晶表示パネル110の大きさ及び欠陥部位118の深さによって、修理の対象(欠陥)を判別する。10インチ未満の基板(小型基板)を使用する液晶表示パネル110の場合は、欠陥部位118の深さ0.1mmを基準に、修理の要否を判別する。欠陥部位118の深さが0.1mm未満の場合は、修理せず、欠陥部位118の深さが0.1mm以上の場合は、欠陥部位118を修理する。そして、10インチ以上の大型基板を使用する液晶表示パネル110は、欠陥部位118の深さに対して0.2mmを基準に修理の対象の可否を判別する。欠陥部位118の深さが0.2mm未満の場合は、修理せず、欠陥部位118の深さが0.2mm以上の場合は、欠陥部位118を修理する。
液晶表示パネル110のアレイ基板112またはカラーフィルター基板114で発生した欠陥部位118を修理する方法は、便宜上、アレイ基板112で欠陥部位118が発生したと仮定して説明する。
図2Aに示したように、欠陥部位118が発生した液晶表示パネル110を備えて、欠陥部位118の異物及びアレイ基板112の異物などを除去する洗浄段階を経る。前述したように、液晶表示パネル110は、アレイ基板である第1基板112、カラーフィルター基板である第2基板114及びその間に介された液晶層116で構成される。
図2Bに示したように、注入手段120を使用して、ガラス復元剤122を欠陥部位118に注入する。ガラス復元剤122は、欠陥部位118と隣接したアレイ基板112の他の領域まで充分に供給する。ガラス復元剤122には、透明で、流動性が良く、紫外線によって速く硬化されるアクリル樹脂を含む物質を利用する。表1は、ガラス復元剤122の成分及び比率である。
Figure 2010015123
本発明では、ガラス復元剤122としてリキッドレジンインターナショナル社(Liquid Resin International,Ltd.)で商業的に販売しているウインドシールドリペアキット(windshield repair KIT)またはポメックテックスサ(Permatex.Inc)で商業的に販売しているブルズアイウインドシールドリペアキット(Bullseye windshiled repair KIT)を使用する。
欠陥部位118を修理するために使用されるガラス復元剤122は、アレイ基板112及びカラーフィルター基板114とは異なる物質である。
図2Cに示したように、ガラス復元剤122が注入された欠陥部位118及び欠陥部位118の周辺の第1基板112上に透明フィルム124を付着させる。透明フィルム124は、復元剤122と接触して、欠陥部位118に対応する。透明フィルム124は、ガラス復元剤122が欠陥部位118の内部へと完全に浸透するように外部から圧力を印加する時、緩衝膜(フィルム)として機能する。また、ガラス復元剤122が硬化される前に、ガラス復元剤122に含まれている成分が揮発することを防ぐため、ガラス復元剤122が大気に露出しないように遮断する機能をする。透明フィルム124としてセロハンフィルムを使用する。また、透明フィルム124の大きさは、欠陥部位118より大きくして、ガラス復元剤122が分布した第1基板112の他の領域までカバーする大きさである。すなわち、透明フィルム124は、ガラス復元剤122が分布した領域より大きい。
図2Dに示したように、硬化手段として紫外線ランプ126を利用して、透明フィルム124の上部に紫外線を照射して、ガラス復元剤122を硬化させて、硬化された復元剤140を形成させる。紫外線ランプ126は、3mW/cm2の照度を使用して、3分ないし5分程度照射して、ガラス復元剤122を硬化させる。<<光量=照度×時間>>であるので、照度と時間とを光量に換算すると、ガラス復元剤122を硬化させる最小の光量は、540mjである。紫外線ランプ126は、液晶表示パネル110の内部の液晶層116に影響を与えない範囲内で使用する。仮に、透明フィルム124の代わりに不透明フィルムを使用すると、紫外線が透過しなくなって、ガラス復元剤122が硬化されない。この場合、硬化手段として紫外線ランプ126の代りに加熱を選択する。
図2Eに示したように、透明フィルム(図2Dの124)を除去して、硬化された復元剤140を研磨する。研磨によって、欠陥部位118の硬化された復元剤140は、液晶表示パネル110と同一な平面を有する。すなわち、図2Fに示したように、硬化された復元剤140と第1基板112とは、平坦になる。ガラス復元剤122が硬化されても液晶表示パネル110のガラス基板より低い(小さい)硬度であるために、研磨手段(図示せず)の硬度がガラス基板より低くて(小さくて)硬化された復元剤140より高い(大きい)と、ガラス基板の損傷なしに研磨できる。そして、研磨手段として剃刀(図示せず)が利用される。
研磨手段として剃刀を利用する場合、作業者が欠陥部位118から硬化された復元剤140を掻き出して第1基板112と欠陥部位118とを同一な平面にする。剃刀の硬度は、第1基板112及び第2基板114より小さくて、硬化された復元剤140よりは大きい。
図5に示したように、研磨手段130は、回転する本体132と本体132の下面に付着する研磨布134とで構成される。
硬化された復元剤140と接触する研磨布134には、硬化された復元剤140を物理的及び化学的に研磨できる懸濁液(スラリー、図示せず)を塗る。懸濁液は、ガラス基板には影響を与えず、硬化された復元剤140を物理的及び化学的に研磨できる成分で構成される。研磨手段たる研磨機130を回転させながら、第1基板112に近接させて、第1基板112上に突出している硬化された復元剤140を研磨する。 そして、図2Fに示したように、研磨が完了した後、イソプロピルアルコール(IPA)を使用して、復元部位128を洗浄することによって、修理を完了する。
図3B及び図3Cに示したように、陥没欠陥118b及びスクラッチ欠陥118cは、第1基板112の上面の平面で発生したので、ガラス復元剤122の注入、硬化及び研磨によって容易に修理できるが、図3Aのような角欠陥118aの場合は、第1基板112の上面と側面とを研磨する。
角欠陥118aを修理する方法は、角欠陥118aにガラス復元剤122を注入して、透明フィルム124を付着させる。透明フィルム124を付着させる時、角欠陥118aでガラス復元剤122が第1基板112の上面と垂直な側面になるように適当に調節する。そして、ガラス復元剤122を硬化させて硬化された復元剤140を形成させ、透明フィルム124を除去した後、角欠陥118aの上面と側面とで第1基板112と同一な平面を維持するように硬化された復元剤140を研磨する。
図4A及び図4Bは、液晶表示パネルの基板欠陥の修理前と修理後とを偏光顕微鏡によって観察した写真である。図4Bは、本発明によって基板の欠陥部位が修理された液晶表示パネルで、欠陥の形態が殆ど観察されないが、図4Aは、欠陥の形態が明らかに観察されて、液晶表示パネルを駆動させると、画像(イメージ)不良が示される。
前述したように、液晶表示パネルの基板欠陥を修理する方法を提示しているが、単一基板での欠陥をこのような方法で修理することができる。
従来技術による欠陥のある液晶表示パネルの断面図である。 従来技術による欠陥のある液晶表示パネルの断面図である。 本発明の実施例による基板欠陥の修理方法の工程断面図である。 図2Aに続く修理方法を示す工程断面図である。 図2Bに続く修理方法を示す工程断面図である。 図2Cに続く修理方法を示す工程断面図である。 図2Dに続く修理方法を示す工程断面図である。 図2Eに続く修理方法を示す工程断面図である。 本発明の実施例による基板欠陥の斜視図である。 本発明の実施例による基板欠陥の斜視図である。 本発明の実施例による基板欠陥の斜視図である。 本発明の実施例による基板欠陥の修理前の写真である。 本発明の実施例による基板欠陥の修理後の写真である。 本発明の実施例による復元剤の研磨の工程断面図である。
符号の説明
10,110:液晶表示パネル。
12,112:アレイ基板。
14,114:カラーフィルター基板。
16,116:液晶層。
18,118:欠陥部位。
20:欠陥部位18の深さ。
120:注入手段。
122:ガラス復元剤。
124:透明フィルム。
126:紫外線ランプ。
128:復元部位。
130:研磨手段。
132:本体。
134:研磨布。
140:復元剤。

Claims (15)

  1. 欠陥のある基板上に、前記欠陥を覆うように復元剤を注入する段階と、
    前記復元剤を硬化させる段階と、
    前記硬化された復元剤と前記基板とが平坦になるように前記硬化された復元剤を研磨する段階と
    を含むことを特徴とする基板欠陥の修理方法。
  2. 前記復元剤の注入段階と前記復元剤の硬化段階との間に、前記復元剤上にフィルムを付着させる段階と、前記復元剤の硬化段階と前記硬化された復元剤の研磨段階との間に、前記フィルムを脱着する段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  3. 前記フィルムは、透明なセロハンフィルムであることを特徴とする請求項2に記載の基板欠陥の修理方法。
  4. 前記復元剤を硬化させる段階は、前記復元剤上に紫外線を照射する段階を含むことを特徴とする請求項3に記載の基板欠陥の修理方法。
  5. 前記紫外線は、3mW/cm2の照度で、3分ないし5分間照射されることを特徴とする請求項4に記載の基板欠陥の修理方法。
  6. 前記復元剤は、熱によって硬化されることを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  7. 前記硬化された復元剤は、研磨手段によって研磨されて、前記研磨手段の硬度は、前記基板の硬度より小さく、前記硬化された復元剤の硬度より大きいことを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  8. 前記研磨手段は、剃刀であることを特徴とする請求項7に記載の基板欠陥の修理方法。
  9. 前記研磨手段は、回転可能な本体と、前記本体に結合される研磨布とで構成されることを特徴とする請求項7に記載の基板欠陥の修理方法。
  10. 前記硬化された復元剤の研磨段階以後、前記基板を洗浄する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  11. 前記基板は、イソプロピルアルコールによって洗浄されることを特徴とする請求項10に記載の基板欠陥の修理方法。
  12. 前記復元剤は、2−ヒドロキシルエチル メチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、トリエチレングリコール ジメタクリレート、光開始剤、及びアクリル酸で構成されることを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  13. 前記2−ヒドロキシルエチル メチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、トリエチレングリコール ジメタクリレート、光開始剤及びアクリル酸は、各々70〜80重量%、10〜20重量%、0.1〜5重量%、0.1〜3重量%及び0.1〜3重量%であることを特徴とする請求項12に記載の基板欠陥の修理方法。
  14. 前記基板が10インチモデル基板より小さい場合、前記欠陥の深さは、0.1mm以上であることを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
  15. 前記基板が10インチモデル基板である場合、もしくは、前記基板が10インチモデル基板より大きい場合、前記欠陥の深さは、0.2mm以上であることを特徴とする請求項1に記載の基板欠陥の修理方法。
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