JP2010010509A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザチップ1は半田10を介してサブマウント13に実装されている。半田10は、その一部がバリアメタル層11と接しており、他の一部がメタル層12と接している。バリアメタル層11は半田10に対して濡れ性を有しないので、バリアメタル層11と半田10は、互いに接触しているが接合はしていない。一方、メタル層12と半田10が接している領域では、メタル層12が半田10に対して濡れ性を有しているので、メタル層12と半田10は、互いに接合されている。
【選択図】図1
Description
前記メッキ層のそれぞれが半田を介して支持基板の第1の面に接合されることによって、前記半導体チップが前記支持基板に実装され、
前記メッキ層と前記半田との界面の一部には、前記半田に対して濡れ性を有する材料で構成されたメタル層が介在し、前記界面の他部には、前記半田に対して濡れ性を有しない材料で構成されたバリアメタル層が介在しているものである。
本実施の形態では、凸状のリッジ部を有するマルチビーム半導体レーザ装置に本発明を適用した例について説明する。
図11は、本実施の形態のマルチビーム半導体レーザ装置の要部断面図である。本実施の形態のマルチビーム半導体レーザ装置は、前記実施の形態1と同様、レーザチップ1とサブマウント13の間に介在する半田10の一部がバリアメタル層11と接しており、他の一部がメタル層12と接している。すなわち、メタル層12は半田10に対して濡れ性を有する材料で構成されているので、メタル層12と半田10の接触面は互いに接合されている。一方、バリアメタル層11は半田10に対して濡れ性を有しない材料で構成されているので、バリアメタル層11と半田10の接触面は、熱や電気を伝えるが、互いに接合されていない。
2 n型電極(カソード電極)
3 半導体基板
4 リッジ部
5 半導体層
6 発光部
7 絶縁層
8 p型電極(アノード電極)
9 Auメッキ層
10 半田
11 バリアメタル層
12 メタル層
13 サブマウント(支持基板)
14 サブマウント電極
15 n型クラッド層
16 活性層
17 p型第1クラッド層
18 p型エッチングストップ層
19 p型第2クラッド層
20 p型コンタクト層
22、23 フォトレジスト膜
30 ステム
31 キャップ
32 フランジ部
33 ガラス板
34 丸穴
35 ヒートシンク
36 Auワイヤ
37a、37b、37c、37d、37e、37f リード
38 Auワイヤ
Claims (7)
- 半導体基板と、前記半導体基板の第1の面に形成された第1導電型のカソード電極と、前記半導体基板の第2の面上に形成され、かつ、その内部に複数の発光部を有する半導体層と、前記複数の発光部のそれぞれの上方に形成された第2導電型のアノード電極と、前記アノード電極のそれぞれの表面に形成された放熱用のメッキ層とを有するマルチビーム構造の半導体チップを備え、
前記メッキ層のそれぞれが半田を介して支持基板の第1の面に接合されることによって、前記半導体チップが前記支持基板に実装された半導体レーザ装置であって、
前記メッキ層と前記半田との界面の一部には、前記半田に対して濡れ性を有する材料で構成されたメタル層が介在し、前記界面の他部には、前記半田に対して濡れ性を有しない材料で構成されたバリアメタル層が介在していることを特徴とする半導体レーザ装置。 - 前記メッキ層はAuからなり、前記半田はAu−Sn合金からなり、前記半田に対して濡れ性を有する材料はAuであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
- 前記半田に対して濡れ性を有しない材料はPtであることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ装置。
- 前記半導体基板はGaAsからなり、前記支持基板はSiCまたはAlNからなることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
- 前記支持基板の第2の面には、ヒートシンクが接合されていることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
- 前記半導体チップを前記支持基板に実装する前の段階において、前記半導体基板の中心位置に対して一方の側に位置する前記発光部にはプラスの剪断歪みが加わり、他方の側に位置する前記発光部にはマイナスの剪断歪みが加わるように、前記メッキ層のそれぞれの中心位置が前記発光部の中心位置に対して意図的に変位されていることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ装置。
- 半導体基板と、前記半導体基板の第1の面に形成された第1導電型のカソード電極と、前記半導体基板の第2の面上に形成され、かつ、その内部に単一の発光部を有する半導体層と、前記発光部の上方に形成された第2導電型のアノード電極と、前記アノード電極の表面に形成された放熱用のメッキ層とを有するシングルビーム構造の半導体チップを備え、
前記メッキ層が半田を介して支持基板の第1の面に接合されることによって、前記半導体チップが前記支持基板に実装された半導体レーザ装置であって、
前記メッキ層と前記半田との界面の一部には、前記半田に対して濡れ性を有する材料で構成されたメタル層が介在し、前記界面の他部には、前記半田に対して濡れ性を有しない材料で構成されたバリアメタル層が介在していることを特徴とする半導体レーザ装置。
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