JP2010008605A - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 複数の光ビームを偏向手段の同じ反射面に入射させ、偏向された複数の光ビームによって被走査面上を同時に主走査するときに、いわゆる「ＢＯＷ差」を抑制することと、複数のビーム間の間隔を所定の値に調整することとの両立を可能とする。
【解決手段】 レーザ装置３１から射出された複数の光ビームを偏向手段である回転多面鏡３２の同じ反射面で反射させ、反射面の移動によって被走査面である感光体ドラム１１の周面上を走査する。回転多面鏡の反射面から被走査面までの間にｆθレンズ３５と、第１のシリンダレンズ３６と、第２のシリンダレンズ３７と、第１のシリンダレンズと第２のシリンダレンズとの間に入射調整ミラー３８を設ける。この入射調整ミラーを副走査方向と対応する方向に角度を調整して、第２のシリンダレンズへの入射角を調整する。入射角の変化により、実効的な焦点が変動し、光ビームの間隔が調整される。
【選択図】図３

Description

本発明は、光源から射出された複数の光ビームを偏向手段の同じ反射面に入射させ、偏向された前記複数の光ビームによって被走査面上を同時に主走査する光走査装置及び画像形成装置に関する。

感光体層が形成された像保持体上に、画像データに基づいて点滅する光ビームを照射して静電電位の差による潜像を形成する画像形成装置が、レーザプリンタや電子写真複写機等として普及している。このような画像形成装置では、周回移動する像保持体の無端状の周面に光ビームを幅方向に主走査するとともに、無端状の周面が周方向に移動することによって副走査方向に光ビームが走査され、感光体層の上に潜像が形成される。

上記のような光走査装置では、一般に、半導体レーザから出力した光ビームを画像データに基づいて変調し、コリメータレンズ等を介して、所定速度で回転する回転多面鏡の反射面に入射させる。この回転多面鏡の回転により、光ビームの入射角が連続的に変化して偏向される。偏向された光ビームは、ｆθレンズ、シリンダミラー又シリンダレンズ等を介して、像保持体の無端状周面へと案内され、周面上を一定速度で走査するとともに、周面上に結像される。

このような光走査装置では、画像形成の高速化のために走査速度の向上が望まれている。光走査の高速化を図る技術として、複数の光ビームを用いて１回の走査で複数の走査線を同時に走査する同時走査方式が提案されている。この光走査装置は、光源が複数の発光点を有し、複数の光ビームを平行に射出するものとなっている。そして、これらの光ビームを同じ偏向手段の同じ反射面で偏向し、像保持体の周面上における主走査方向に複数の光ビームを同時に走査するものである。

このように複数の光ビームによって同時に走査する光走査装置では、複数の光ビーム間のいわゆる「ＢＯＷ差」及び「ピッチずれ」を小さくすることが要求される。図１６は、４本の光ビームを同時に走査する場合のＢＯＷ差を、図１７は、４本の光ビームを同時に走査する場合のピッチずれを示すものであり、各図において、破線が理想的な走査線を、実線が「ＢＯＷ差」又は「ピッチずれ」が生じた走査線を示している。

上記「ＢＯＷ差」とは、各光ビームによって形成される走査線の湾曲量が異なり、主走査方向の走査位置によって副走査方向の２つの光ビームの間隔が変化していることを意味する。
この「ＢＯＷ差」が発生する原因には、以下の２つの要因が挙げられる。
光ビームが副走査方向に角度を持って回転多面鏡に入射すること
光ビームが副走査方向にパワーを有するｆθレンズを通過する際に、当該ｆθレンズの光軸外を通過する、或いは、ビームが副走査方向に角度を持ってｆθレンズに入射すること
また、「ピッチずれ」は、光ビームの副走査方向の間隔が所定値からずれた状態で走査され、走査線の間隔が粗密になることを意味する。複数の光ビームを用いて、１回の走査で複数の走査線を同時に走査させる場合に、このような「ＢＯＷ差」や「ピッチずれ」が生じると、副走査方向に画像ムラが生じて画質が低下してしまう。

複数の光ビームで被走査面上を同時に走査する光走査装置で、上記「ＢＯＷ差」又は「ピッチずれ」を抑制しようとする技術が、例えば特許文献１、特許文献２及び特許文献３に提案されている。

特許文献１に記載の光走査装置は、光源に一定の間隔で配列された複数の発光点が設けられており、この光源を光軸回りに回転させることができるものとなっている。これにより、複数の発光点から射出された光ビームが走査する走査線の副走査方向における間隔を調整する。例えば、図１８に示すように複数の発光点が、主走査される方向と副走査される方向とに対して所定の角度を有する直線上に一定の間隔で設けられている光源について、この発光点の列の主走査方向及び副走査方向に対する角度を変更する。これによって各発光点の副走査方向の間隔が調整される。しかし、図１８に示すように発光点列が複数設けられている光源を用いる場合には、光源を光軸周りに角度を調整しても全ての光ビーム間について走査間隔を調整することはできない。つまり、同じ発光点列内で発光点の走査間隔を調整すること、例えば図１８中における発光点ｍ１と発光点ｍ２とが走査する間隔から発光点ｍ５と発光点ｍ６とが走査する間隔までのそれぞれの間隔、及び発光点ｎ１と発光点ｎ２とが走査する間隔から発光点ｎ５と発光点ｎ６とが走査する間隔までのそれぞれの間隔を同時に調整することはできるが、これらの間隔と発光列間の走査間隔、例えば発光点ｍ６と発光点ｎ１とが走査する間隔を同時に調整することはできない。
また、特許文献１には「ＢＯＷ差」の抑制については記載されていない。

特許文献２には、複数の発光点から射出される光ビームのピッチを調整するために偏向器と被走査面との間にある光学系を光軸方向に移動するものとした光走査装置が記載されている。これにより光学的倍率を偏向して複数の光ビームが走査する走査線の副走査方向間隔を調整するものである。この装置では、偏向器と被走査面との間にある光学系の副走査方向の倍率を−１．１〜０．９の間に設定することで光学計の移動によるピントのずれを抑制している。なお、特許文献２においても、「ＢＯＷ差」については記載されていない。

特許文献３には、「ＢＯＷ差」の発生を抑制する光走査装置について記載されている。この光走査装置では、偏向手段の反射面に複数のビームを入射させるときに、複数のビームの中心光束を平行にしている。つまり、副走査方向に異なる位置を走査する光ビームが、副走査方向に対応する方向で一定の間隔を維持して反射面に入射されるものとしている。そして、偏向手段の反射面と被走査面とをアフォーカルな関係とすることにより、被走査面に複数のビームが平行に入射されるものとなっている。
この光走査装置では、偏向手段の反射面に複数のビームが平行に入射されるので「ＢＯＷ差」の発生が抑えられ、被走査面へ入射される複数のビームが平行となっているので偏向反射面と被走査面との距離が変動した場合のピッチの変動も抑制することができる。ただし、複数のビーム間の距離を所定の値に調整する手段については記載されていない。
特開平１０−１０４４８号公報 特開２００４−８６０１９号公報 特開２００１−２１５４２３号公報

本発明は複数の光ビームを偏向手段の同じ反射面に入射させ、偏向された前記複数の光ビームによって被走査面上を同時に主走査するときに、いわゆる「ＢＯＷ差」を抑制することと、複数のビーム間の間隔を所定の値に調整することとの両立を可能とすることを目的とする。

上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、 複数の光ビームを射出する光源と、 前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、 前記偏向手段の反射面から被走査面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームをそれぞれ収束させる光学系とを有し、 偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、 前記光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を備えることを特徴とする光走査装置を提供する。

請求項２に係る発明は、請求項１に記載の光走査装置において、 前記光学系は、第１の光学素子と、その被走査面側に設けられた第２の光学素子とを有し、 前記第１の光学素子と第２の光学素子とのいずれもが、少なくとも副走査方向に光を収束させるものであり、 前記入射調整手段は、前記第１の光学素子と第２の光学素子との間にあって、第２の光学素子に入射される光ビームの入射角度を調整するものとする。

請求項３に係る発明は、請求項２に記載の光走査装置において、 前記光学系は、前記偏向手段で軸線が平行な状態で反射された複数の光ビームを、軸線が平行な状態として被走査面に照射するものとする。

請求項４に係る発明は、請求項３に記載の光走査装置において、 前記入射調整手段は、被走査面における副走査方向と対応する方向へ角度が調整可能に支持された調整ミラーであり、前記第1の光学素子の被走査面側の焦点位置近傍に配置されているものとする。

請求項５に係る発明は、請求項１から請求項４までのいずれかに記載の光走査装置において、 前記入射調整手段によって入射角が調整される光学素子は、少なくとも被走査面における副走査方向と対応する方向に曲率を有する反射光学素子であるものとする。

請求項６に係る発明は、 複数の光ビームを射出する光源と、 前記光源から射出された複数の光ビームをほぼ平行光とするカップリング光学系と、 前記カップリング光学系でほぼ平行とされた複数の光ビームを少なくとも副走査方向に収束させる整形光学系と、
前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、 前記偏向手段の反射面から被走査面までの間に設けられ、前記反射面で偏向された複数の光ビームを被走査面上に結像させる結像光学系と、 前記結像光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段と、を有し、 偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、 前記整形光学系に含まれる光学素子は、前記複数のビームの被走査面上における副走査方向の間隔が変更されるように交換が可能となっており、 前記入射調整手段と前記整形光学系に含まれる光学素子の交換とによって、前記複数の光ビームの被走査面上における副走査方向の走査間隔が調整されるものであることを特徴とする光走査装置を提供する。

請求項７に係る発明は、請求項６に記載の光走査装置において、 前記整形光学系に含まれる光学素子の交換により、被走査面上において複数のビームの間隔を段階的に変更するものであり、 前記入射調整手段は、複数のビームの間隔を連続的に変更するものであり、 前記整形光学系に含まれる光学素子の交換によって段階的に変更された複数のビームの間隔は、前記入射調整手段による連続的な間隔の変更によって補間するものとする。

請求項８に係る発明は、 複数の発光点が、光ビームの射出方向と垂直な投影面上で2次元的に配列され、該発光点からそれぞれ光ビームを射出する光源ユニットと、 前記光源ユニットから射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、 前記偏向手段と被走査面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームをそれぞれ収束させる光学系と、を有し、 偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、 前記光源ユニットは、光ビームの射出方向に垂直な面内方向に回転して角度を調整するものとなっており、 前記光学系に含まれて少なくとも被走査面における副走査方向と対応する方向に光ビームを収束させる光学素子に対し、入射させる前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を有することを特徴とする光走査装置を提供する。

請求項９に係る発明は、 無端状となった周面が周方向に周回移動し、該周面上に感光体層を有する像保持体と、 該像保持体の周面を帯電する帯電装置と、 前記像保持体上に像光を照射して静電潜像を形成する光走査装置と、 前記像保持体上に形成された静電潜像にトナーを転移してトナー像を現像する現像装置と、 前記トナー像を直接に転写材に又は中間転写体を介して転写材に転写する転写手段と、 前記トナー像を定着する定着手段と、を有し、 前記光走査装置は、 複数の光ビームを射出する光源と、 前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させて前記像保持体の無端状となった周面上を、幅方向に複数の光ビームを同時に主走査方向に走査する偏向手段と、 前記偏向手段の反射面から前記像保持体の周面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームをそれぞれ収束させる光学系と、を備え、 前記複数の光ビームが繰り返し幅方向に主走査されるともに前記像保持体の周面が周方向に移動することによって、該像保持体上に周方向に連続した潜像を形成するものであり、 前記光学系は、該光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を有することを特徴とする画像形成装置を提供する。

請求項１に係る発明の光走査装置では、光学素子の位置を光軸方向に移動させることなく複数の光ビームが被走査面を走査する走査線の副走査方向の間隔を調整することができる。つまり、光学素子の光軸方向への移動による「ＢＯＷ差」の発生を抑制することと、走査線の間隔を調整することとの両立が可能となる。

請求項２に係る発明の光走査装置では、回転多面鏡で反射された光ビームの光束を集光した状態で入射調整手段に導くことができ、第２の光学素子及び入射調整手段を小型化することができる。

請求項３に係る発明の光走査装置では、第２の光学素子から被走査面までの距離が変わっても複数の光ビームによる走査線のピッチずれを抑制することができる。また、複数の光ビームが平行な状態で偏向手段に入射し、反射されるのでＢＯＷ差の発生を抑制することができる。

請求項４に係る発明の光走査装置では、第２の光学素子に入射される光ビームの軸線が第２の光学素子の回転多面鏡側の焦点を通り、第２の光学素子で反射された後の複数の光ビームの平行性が維持される。

請求項５に係る発明の光走査装置では、入射調整手段によって入射角が調整される光学素子としてレンズを用いる場合に比べて、複数の光ビームの走査間隔を調整できる範囲が拡大される。

請求項６に係る発明の光走査装置では、整形光学系に含まれる光学素子の交換と、入射調整手段との双方によって複数の光ビームの走査間隔の調整を行い、広い範囲で間隔の調整が可能になる。

請求項７に係る発明の光走査装置では、整形光学系に含まれる光学素子の交換によって複数の光ビームの走査間隔を粗調整した後、入射調整手段による複数の光ビームの走査間隔を連続的に調整を行うことができ、整形光学系の交換手段と入射調整手段との双方を備えていないものに比べて、正確な調整を容易に行うことができる。

請求項８に係る発明の光走査装置では、複数の光ビームを被走査面に同時に主走査したときの、副走査方向の間隔を各光ビーム間で等しくなるように設定できるとともに、複数の光ビームを移動する被走査面に対して繰り返し主走査したときの先の走査による光ビームと次の走査による光ビームとの副走査方向の間隔も調整できる。

請求項９に係る発明の画像形成装置では、光走査装置の光学素子の位置を光軸方向に移動させることなく複数のビームの副走査方向における間隔を調整することができ、ＢＯＷ差の抑制と走査間隔の調整とが両立しない装置に比べて、むらのない良好な画像を形成することが可能となる。

以下、本願発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は、本願発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成図である。
この画像形成装置は、円筒状の外周面に感光体層を有し、周方向に回転駆動される感光体ドラム１１を備えており、この感光体ドラム１１の周面に対向して該周面をほぼ一様に帯電させる帯電装置１２が設けられている。また、感光体ドラム１１の周面の移動方向における帯電装置１２が設けられた位置の下流側で、光ビームを走査して感光体ドラム１１の表面に潜像を形成する光走査装置１３が備えられている。そして、光ビームが照射される位置の下流側には、感光体ドラム１１上の潜像にトナーを選択的に転移させてトナー像を形成する現像装置１４と、感光体ドラム１１上に形成されたトナー像を記録シートＰに転写する転写装置１５と、トナー像を転写した後の感光体ドラム１に残留するトナーを除去するクリーニング装置１６と、感光体ドラムを除電して電位を初期化する除電露光装置１７と、が設けられている。

また、記録シートＰの搬送方向における転写装置１５の下流側には、記録シート上のトナー像を加熱及び加圧して記録シートに圧着する定着装置１８が設けられている。そして、定着装置１８でトナー像が定着された記録シートは排紙トレイ（図示しない）へ排出されるものとなっている。

上記感光体ドラム１１は、金属製円筒体の表面に各種無機感光材料、有機感光材料等からなる感光体層を形成したものを用いることができ、金属製の円筒体は電気的に接地されている。

上記帯電装置１２は、ステンレススチール、アルミニウム等の導電性を有する金属のロールに高抵抗材料のコーティングを施したものであり、感光体ドラム１１に当接され、従動回転するようになっている。そして、所定の電圧が印加されることにより、該ロールと感光体ドラム１１との接触部近傍における微小間隙内で放電が生じ、感光体ドラム４の表面をほぼ一様に帯電するものである。

上記光走査装置１３は、画像信号に基づいて点滅するレーザービームを出力する半導体レーザ装置を光源として備えるものであり、周方向に移動する感光体ドラム１１の周面を偏向手段である回転多面鏡によって幅方向に走査するものである。これにより感光体ドラム１１の周面上で露光部の電位が減衰し、静電電位の差による潜像が形成される。この光走査装置の詳細については、後で詳細に説明する。

上記現像装置１４は、トナーの薄層が表面に形成された現像剤担持体を感光体ドラム１１と近接・対向する位置に有するものであり、この現像剤担持体と感光体ドラム１１との間に生じている電界内で、潜像にトナーを転移して可視像を形成するものである。

上記転写装置１５は、感光体ドラム１１と対向するように配置され、感光体ドラム１１との間に電界を形成するものであり、感光体ドラム１１と当接して搬送される記録シートに感光体ドラム上のトナー像を静電的に転移させるものである。

上記定着装置１８は、中心軸回りに回転が可能に支持された加熱ロール２１と、この加熱ロール２１と平行に圧接されて回転する加圧ロール２２と、加熱ロール２１に内蔵された内蔵加熱源２３とを有するものである。転写装置１５によってトナー像が転写された記録シートＰは上記加熱ロール２１と加圧ロール２２との間に挟み込まれ、加圧及び加熱されながらこれらのロールの回転によって搬送される。これにより、トナー像は記録シートＰ上に圧着され、定着画像となる。

次に、光走査装置１３の構成について詳しく説明する。
図２は、この光走査装置１３の概略構成図であり、図３は、光源から射出された光ビームが被走査面である感光体ドラム１１の周面に到達するまでの光路を説明する概略図である。
この光走査装置１３は、光源として複数の光ビームを射出するレーザ装置３１（図２には表示しない）を備えており、このレーザ装置３１から光ビームが照射される感光体ドラム１１の周面までの間に偏向手段として、回転多面鏡３２いわゆるポリゴンミラーが設けられている。そして、レーザ装置３１の光ビームの射出面から回転多面鏡３２までの間に、コリメータレンズ３３と、シリンダレンズ３４とを備えている。また、回転多面鏡３２の反射面から感光体ドラム１１上の被走査面までの間には、主走査方向にのみ集光するパワーを備えたｆθレンズ３５と、光ビームの照射方向におけるｆθレンズの下流側に、少なくとも副走査方向に集光するパワーを備えた第１のシリンダミラー３６及び第２のシリンダミラー３７とを備えている。さらに、第２のシリンダミラー３７の上流側には、この第２のシリンダミラー３７に入射する光ビームの角度を調整する入射調整ミラー３８が設けられている。

上記レーザ装置３１は、複数の発光点が２次元配列された面発光レーザとなっており、複数の光ビームを射出するものである。光ビームの射出面における発光点の配置の一例を図４（ａ）に示す。このレーザ装置３１では発光点５１が２次元的に配置されており、射出された光ビームが主走査される方向及び副走査される方向に対して所定の角度を有する直線上に、所定の間隔で６つの発光点が配列され、このような発光点列が２列形成されている。これらの発光点から射出される光ビームは副走査方向に異なる走査線を走査するものであり、これらの発光点のそれぞれについて変調され、光ビームがほぼ平行（平行光ではなく、光ビームの進行方向が同じという意味）に射出されるものとなっている。
また、このレーザ装置は、図４（ｂ）に示すように光ビームの射出面と平行に回転して発光点の位置を調整可能となっている。これにより光ビームの副走査される方向の間隔を調整可能としている。

上記回転多面鏡３２は、正多角形状の回転体の側面に複数の反射面が設けられたものであり、正多角形の中心軸つまり各頂角から等距離の位置で該多角形を含む平面と直角な軸線を回転中心として回転するものである。光ビームの反射面は正多角形の各辺に沿って回転軸と平行に設けられており、上記レーザ装置から射出された複数の光ビームは、同時に同じ反射面に入射される。そして、この回転多面鏡の回転によって、各反射面に対する光ビームの入射角度が連続的に変化し、反射した光ビームが偏向される。これにより、複数の光ビームが、同時に感光体ドラム１６の周面を幅方向つまり主走査方向に走査するものである。

コリメータレンズ３３は、各発光点５１から射出された複数の光ビームのそれぞれについて発散光からほぼ平行光に変換するとともに、各光ビームを副走査方向に集光するものである。つまり、レーザ装置から平行に射出された複数の光ビームは、平行光となってコリメータレンズ３３の像側（光ビームの進行方向下流側）の焦点位置Ｆで交差するように収束する。

シリンダレンズ３４は、副走査方向にのみ集光するパワーを有しており、複数の光ビームは、シリンダレンズ３４によって各々副走査方向に収束され、回転多面鏡３２に導かれる。
また、シリンダレンズ３４は、図３に示すように、このシリンダレンズ３４のレーザ装置側（光ビームの進行方向上流側）の焦点位置がコリメータレンズ３３の被走査面側（光ビームの進行方向下流側）の焦点位置Ｆと一致するように配置し、且つこのシリンダレンズ３４の被走査面側の焦点位置が回転多面鏡３２の反射面上となるように配置するのが望ましい。 このようにシリンダレンズ３４を配置することにより、レーザ装置３１と回転多面鏡３２の反射面とが、副走査方向においてアフォーカルで且つ共役な関係となる。したがって、複数の光ビームは、回転多面鏡３２の反射面上で各々結像されるとともに、副走査方向において互いに平行に、且つ回転多面鏡３２の反射面に対して副走査方向に角度を持たずに入射する。

ｆθレンズ３５は、回転多面鏡３２で偏向された光ビームを円筒状となった感光体ドラム１１の周面の軸線方向に走査するときに走査速度が等速となるように調整するものである。光ビームは回転多面鏡３２によって旋回するように偏向されるので、回転多面鏡３２における反射面から被走査面までの距離が変化するが、このｆθレンズ３５によって、各光ビームの走査速度を調整している。

ｆθレンズ３５から感光体ドラム１１の周面までに配置された第１のシリンダミラー３６及び第２のシリンダミラー３７は、主に副走査方向に集光するパワーを有するものとなっており、各光ビームを感光体ドラム１１へと導くとともに、感光体ドラム１１の周面上に結像させるものである。

第１のシリンダミラー３６及び第２のシリンダミラー３７は、第１のシリンダミラー３６の感光体ドラム１１側の焦点位置と第２のシリンダミラー３７のレーザ装置３１側の焦点位置とが一致するように、つまり、第１のシリンダミラー３６と第２のシリンダミラー３７との間の光路長が、第１のシリンダミラー３６の焦点距離と第２のシリンダミラー３７の焦点距離との和となるように配置するのが望ましい。これにより、回転多面鏡３２の反射面と感光体ドラム１１の周面の走査位置とが、副走査方向においてアフォーカルで且つ共役な関係となる。

入射調整ミラー３８は、第１のシリンダミラー３６と第２のシリンダミラー３７との間に配置されており、光軸に対して回転して被走査面における副走査方向と対応する方向の角度を調整することができるものとなっている。これにより、第１のシリンダミラー３６から第２のシリンダミラー３７に入射される光ビームの角度を調整するものとなっている。
この入射調整ミラー３８は、図３に示すように第１のシリンダミラー３６の感光体ドラム１１側の焦点位置であって第２のシリンダミラー３７のレーザ装置３１側の焦点位置に設けるのが望ましい。

次に、上記光走査装置１３による感光体ドラム１１の周面を走査する動作について説明する。
レーザ装置３１から平行に射出された複数の光ビームは、コリメータレンズ３３によってほぼ平行光とされ、シリンダレンズ３４によって副走査方向に収束されて、回転多面鏡３２の反射面に入射する。そして、回転多面鏡５３に入射した複数の光ビームは、当該回転多面鏡３２の回転によって偏向される。

このとき、レーザ装置３１と回転多面鏡３２の反射面とがアフォーカルで且つ共役な関係となっていると、各発光点５１から平行に射出された複数の光ビームは、互いに平行な状態で、且つ回転多面鏡３２の反射面に対して副走査方向に角度を持たずに入射する。すなわち、回転多面鏡３２の反射面には、複数の光ビームが光学系の光軸と平行に入射する。これにより、回転多面鏡３２における光ビームの偏向によるＢＯＷ差の発生を抑えることができる。
また、回転多面鏡３２の反射面上で結像していると、反射面の角度に誤差が生じている場合つまり光学系の光軸に対して反射面がわずかな角度を有している場合にも、感光体ドラム１１の周面上の走査位置にほとんど影響が生じない。

回転多面鏡３２の回転によって偏向された複数の光ビームは、ｆθレンズ３５に入射し、感光体ドラム１１の周面上で光ビームを主走査するときの走査速度が等速度にされる。そして、複数の光ビームは主に副走査方向に集光するパワーを有する第１のシリンダミラー３６及び第２のシリンダミラー３７によって、感光体ドラム１１の周面上に結像される。このとき、入射調整ミラー３８によって複数の光ビームが第２のシリンダミラー３７に入射するときの角度が調整される。これにより、第２のシリンダミラー３７の実効的な焦点距離が変動するとともに、複数の光ビームの間隔が調整される。
このように複数の光ビームの間隔が調整される原理を次に説明する。

図５に示すように、複数の光ビームの光軸が第２のシリンダミラー３７に対してα₀の角度で入射するものとなっているときに、入射調整ミラー３８の回転によって、図６に示すように入射角を小さくすること、又は図７に示すように入射角を大きくすることができる。反射光学素子の場合、曲率半径をＲとすると焦点距離ｆは、
ｆ＝Ｒ×ｃｏｓ（α₀）／２
で示され、入射角の変化Δαによって焦点距離ｆ’は、
ｆ’＝Ｒ×ｃｏｓ（α₀＋Δα）／２
となる。したがって入射角が小さくなる場合つまりΔαが負となるときには、実効的な焦点距離ｆ’はｆより大きくなり、複数の光ビームの副走査方向における走査間隔ｐも大きくなる。一方、入射角が大きくなる場合つまりΔαが正となるときには、実効的な焦点距離をｆ’はｆより小さくなり、複数の光ビームの副走査方向における走査間隔ｐも小さくなる。このように第２のシリンダミラー３７への入射角を調整することにより、複数の光ビームの間隔を調整することができる。

そして、このように光ビームの間隔を調整するときには、光学系を光軸方向に移動しておらず、次のような不都合を回避することができる。つまり、レーザ装置３１から偏向手段である回転多面鏡３２までの間でシリンダレンズの位置を変更して感光体ドラム１１上における光ビームの走査間隔を調整すると、回転多面鏡３２の反射面に入射される角度が変化し、「ＢＯＷ差」を生じる原因となる。また、回転多面鏡３２の反射面と被走査面との間でシリンダミラー３６，３７の位置を光軸方向に移動することのよっても複数の光ビームの副走査方向における走査間隔を調整することができるが、ピントのずれが大きくなってしまう。本発明は光学素子を光軸方向に移動させることなく光ビームの間隔を調整しているので上記ＢＯＷ差及びピントのずれを抑制可能となるものである。

次に、本発明の効果を確認するために行った実験の結果について説明する。
実験は、図３に示す実施形態の光走査装置１３を用いて、複数の光ビームが感光体ドラム１１上を走査する副走査方向の間隔が変更されるように調整し、光ビームの副走査方向における走査間隔、副走査方向に集光させる焦点の位置のずれ量、及び被走査面つまり感光体ドラム上に入射するときの入射角度の変化量について、それぞれ主走査方向の異なる位置で測定を行ったものである。

図８は、二つの光ビームが感光体ドラム１１上で走査されるときの副走査方向の間隔を、感光体ドラム１１の周面における幅方向（主走査方向）の中心位置で１．６μｍ拡大するように調整したときに、主走査方向の各点で副走査方向の走査間隔を測定した結果を示すものである。この図中において◆印で示す値は、走査間隔の調整前の状態を示すものである。そして、×印で示す値はレーザ装置３１から回転多面鏡３２までの間に配置したシリンダレンズ３４の位置を光軸方向に移動して走査間隔を調整した結果を示すものであり、△印で示す値は回転多面鏡３２から感光体ドラム１１までに配置された第２のシリンダミラー３７への入射角を調整し、第２のシリンダミラー３７の入射位置を変更した結果を示すものである。

この図に示すように、二つの光ビームの走査間隔は、第２のシリンダミラー３６への入射角を調整した場合では、主走査方向の中心位置でほぼ１．６μｍ拡大されるとともに、主走査方向の端部でもほぼ同じ量で走査間隔が拡大されている。これに対し、シリンダレンズを光軸方向に調整した場合は、主走査方向の中心位置ではほぼ１．６μｍ拡大されているが、主走査方向の両端部付近に近づくにしたがって、拡大量は減少している．つまり、「ＢＯＷ差」が生じている。

図９は、二つの光ビームが感光体ドラム１１上で走査される間隔を、感光体ドラムの周面における幅方向（主走査方向）の中心位置で１．６μｍ拡大するように調整したときに、副走査方向に集光させる焦点の位置が光軸方向にずれる量を、主走査方向の複数の位置で測定した結果を示すものである。
この図に示すように、焦点の位置は、第２のシリンダミラー３７への入射角を調整した場合（△で示す）では、調整前の状態（設計中心値：◆で示す）とほとんど変化はないが、シリンダレンズ３４を光軸方向に調整した場合（×で示す）では、光軸方向に約１ｍｍ程度のずれが生じる。このようなずれ量によって、光ビームのピントがずれることになり、鮮明な像の書き込みを害する原因となる。

図１０は、二つの光ビームが感光体ドラム１１上で走査される間隔を、感光体ドラムの周面における幅方向（主走査方向）の中心位置で１．６μｍ拡大するように調整したときに、感光体ドラム１１上への入射角の変化量を主走査方向の複数の位置で測定した結果を示すものである。
この図に示すように、感光体ドラム１１の周面に入射するときの副走査方向の角度は、第２のシリンダミラー３７への入射角を調整した場合（△で示す）では、調整前の状態（設計中心値：◆で示す）とほとんど変化はないが、シリンダレンズ３４を光軸方向に調整した場合（×で示す）では、約２００秒変化することになる。このような角度の変化は、被走査面までの距離が変化したときにピッチずれの原因となる。

次に、本発明の他の実施形態である光走査装置を図１１から図１３までに基づいて説明する。
この光走査装置４０は、図１２に示すように、図４に示す光走査装置と同様のレーザ装置４１、回転多面鏡４２、コリメータレンズ４３、回転多面鏡４２よりレーザ装置側に設けられたシリンダレンズ４４を備えている。そして、回転多面鏡４２から被走査面までの間には、第１のシリンダミラー３６及び第２のシリンダミラー３７に代えて第１のシリンダレンズ４６及び第２のシリンダレンズ４７を備えている。そして、入射調整ミラー４８は、図４に示す光走査装置で用いられているものと同じものであり、第２のシリンダレンズ４７へ入射される光ビームの角度を副走査方向と対応する方向に調整するものとなっている。

この光走査装置４０では、レーザ装置４１から射出された複数の光ビームはコリメータレンズ４３及びシリンダレンズ４４を介して回転多面鏡４２に入射され、回転移動する同一の反射面で複数の光ビームが偏向された後、ｆθレンズ４５、第１のシリンダレンズ４６及び第２のシリンダレンズ４７によって被走査面である感光体ドラム１１の周面上に結像される。そして、入射調整ミラー４８の角度を副走査方向と対応する方向に調整することによって第２のシリンダレンズ４７に入射される光ビームの角度を変更することができる。このように第２のシリンダレンズ４７への入射角が変更された複数の光ビームは被走査面上で複数の光ビームが走査する間隔が変更される。つまり、図１３（ａ）に示すように第２のシリンダレンズ４７への入射角が０°であったものを、図１３（ｂ）に示すように第２のシリンダレンズ４７への入射角をαに変更すると、複数の光ビームの副走査方向における走査間隔が縮小する。

このような走査間隔の調整は、以下に説明する実効的な焦点距離の変化によるものである。
シリンダレンズへ光ビームが入射角が０°で入射されるときの焦点距離ｆに対し、入射角がαであるときには実効的な焦点距離ｆ’は、
ｆ’＝ｆ×ｃｏｓα
となる。そして、複数の光ビームの走査間隔ｐは、
ｐ’＝ｐ×ｃｏｓα
となり、これによって走査間隔が調整されるものである。
ただし、シリンダミラーに代えてシリンダレンズを用いるときには、入射角が０°のときに走査間隔ｐは最大となり、入射角度αが正負いずれであっても走査間隔ｐが減少する。このため、走査間隔ｐの調整範囲は小さくなる。

本発明は、以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、例えば次のような変更も可能である。
レーザ装置から回転多面鏡までの光学系は、回転多面鏡の反射面に複数の光ビームが平行に入射されるのが望ましいが、本発明の光走査装置は平行に入射されないものも含み、このような光走査装置でも入射調整ミラーによって光ビームの走査間隔の調整ができる。反射面に複数の光ビームが平行に入射されるものでは、ＢＯＷ差を平行でないものに比べて抑制することができる。また、回転多面鏡の反射面の位置で結像されるものであるのが望ましいが、必ずしも結像されるものに限定されるものではない。反射面で結像されることによって、反射面の角度に誤差がある場合、つまりレーザ装置から被走査面までの光軸に対して垂直ではなく製作誤差等によって傾斜している場合であっても、反射面で反射した像が被走査面で結像されることにより、所定の位置に光ビームが走査される。

一方、回転多面鏡から被走査面までの光学系は、回転多面鏡で反射された複数の光ビームの光軸が平行に射出されるときには、平行な状態で被走査面に被走査面に照射するものであるのが望ましい。例えば、第１のシリンダミラー又は第１のシリンダレンズの被走査面側の焦点位置と、第２のシリンダミラー又は第２のシリンダレンズの回転多面鏡側の焦点位置とが一致していることが望ましいが、このような条件を満たすものに限定されるものではなく、被走査面に照射される複数の光ビームが平行でなくてもよい。さらに、上記のように焦点が一致しているときには、入射調整ミラーは上記のように設定された焦点の位置に設けるのが望ましいが、焦点と異なる位置に設けても良い。

また、二つのミラー又はレンズの焦点の位置が一致するものでは、二つのミラー又はレンズの間隔を維持したまま、これらを回転多面鏡側又は被走査面側に移動した位置に設定することもできる。

一方、以上に説明した回転多面鏡から被走査面までの光学系は、副走査方向に集光するミラー又はレンズを２つ備えるものであるが、２つ以上設けても良いし、一つだけを設けても良い。一つだけを設けたときには、図１４に示すように、回転多面鏡６１で偏向された複数の光ビームを、シリンダミラー６２又はシリンダレンズへの入射角を入射調整ミラー６３によって調整するものとし、これによって、被走査面に結像される複数の光ビームの走査間隔を調整することができる。

次に、図４に示すように発光点が配列されたレーザ装置３１及び本発明の入射調整ミラー３８を用いる光走査装置において、複数の光ビームの副走査方向における走査間隔を調整する方法について説明する。
レーザ装置３１の光ビームの射出面は、射出するビームの光軸と平行な軸線回りに回転が可能となっており、この軸線回りに射出面を回転させてビームが被走査面を走査する間隔を調整する。この調整は、ｍ１からｎ６までの発光点から射出される全ての光ビームが副走査方向に等間隔で走査されるように調整するものである。つまり、この射出面を図４（ｂ）に示すように時計回りに回転させるとｍ１からｍ６まで及びｎ１からｎ６までの発光点列内の発光点から射出される光ビームの走査間隔が大きくなり、発光点ｍ６と発光点ｎ１とから射出される光ビームが走査する間隔は小さくなる。したがって、射出面の回転角度を変更しながら光ビームの走査位置を測定し、図１５に示す発光点列内の光ビームによる走査間隔Ａと、発光点列が異なる発光点ｍ６とｎ１とから射出される光ビームが走査する間隔Ｂとが等しくなるようにする。つまり、ｍ１からｎ６までの発光点から射出される全ての光ビームの走査間隔が等しくなる角度にレーザ装置３１の射出面を設定する。たとえば、ｍ１とｍ２の間隔と、ｍ６とｎ１の間隔を測定し、その間隔が同じになるように調整することで、２次元に配列された複数ビームの副走査方向の走査線間隔を等間隔とすることができる。なお、走査位置の測定には、被走査面に設けた光センサ等を用いて行うことができる。

１回の走査で複数の光ビームが同時に複数の走査線を走査するときの、走査線の間隔が上記にように等しく設定されると、次に、 主走査方向に１回の走査を行った後、次の走査を行ったときの先の走査線との間隔を測定する。つまり、Ｎ回目の走査で例えば発光点ｍ１からの光ビームが走査した走査線と、次の走査すなわちＮ＋１回目の走査で発光点ｍ１からの光ビームが走査した走査線との間隔Ｌ１を測定する。また、１回の走査で走査される光ビームの走査間隔を測定する。例えば、ｍ１とｎ１との発光点から射出される光ビームの走査間隔Ｌ２を測定する。そして、これらの測定値を対比し、Ｌ１がＬ２の２倍（発光点の列数）であれば、Ｎ回目の走査における発光点ｎ６からの光ビームとＮ＋１回目の走査における発光点ｍ１からの光ビームとが走査する間隔Ｃも、１回の走査における複数の走査線の間隔Ａ，Ｂと等しくなる。したがって、繰り返し主走査方向に走査したときの走査線は全て等間隔となっている。
上記のようにＬ１がＬ２の２倍とならないときには、上記入射調整ミラー３８の角度を調整して、１回の走査で走査される複数の走査線の間隔を調整し、Ｌ１がＬ２の２倍となるまで調整および測定を繰り返す。
複数の走査の間隔調整は上記方法に限定されるものではなく、たとえば、ｍ１とｎ６の走査線間隔を測定し、１走査にかかる時間に被走査面が副走査方向に移動する距離から換算して、ｍ１とｎ６の走査線間隔が同時に走査する光ビームの間隔と等しくなるように走査速度又は被走査面の移動速度の調整および測定を行ってもよい。

上記のような調整において、入射調整ミラー３８の角度を調整するだけでは、Ｌ２の値を上記条件に合致するように調整することができない場合には、レーザ装置３１から回転多面鏡３２までの間に設けられたシリンダレンズ３４を曲率半径が異なるものと交換することと併せて調整することもできる。このように入射調整ミラー３８による調整を可能にするとともに、シリンダレンズ３４を曲率半径が異なるものと交換可能とした光走査装置は、本願の請求項６に係る発明の実施の形態である。上記シリンダレンズ３４を交換可能とする構造は、例えば、レンズ支持体を複数の曲率半径が異なるレンズのそれぞれに固着しておき、光走査装置の本体の予め定められた位置に設けられたレンズ支持基部にこれらのいずれもが装着可能とした構造を採用することができる。このような装置では、上記のように１回の走査による複数の走査線の間隔を等間隔に調整した後、シリンダレンズ３４を選択してＬ２とＬ１との関係が上記条件に近い値となるように調整し、その後に入射調整ミラー３８の角度を調整してＬ２とＬ１との関係が上記条件を正確に満足するように調整することができる。

なお、本発明にかかる光走査装置又は画像形成装置において主走査方向と副走査方向とは、一般にほぼ直交するように設定されるが、主走査方向と副走査方向とが直角からわずかに角度が異なる場合も含むものである。

本願に係る発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成図である。 本願に係る発明の一実施形態であって、図１に示す画像形成装置で用いられる光走査装置の概略構成図である。 図２に示す光走査装置の光学的な構成を示す概略図である。 図２及び図３に示す光走査装置で用いられるレーザ装置の光ビーム射出面を示す概略図である。 図２及び図３に示す光走査装置における複数の光ビームの走査間隔を調整する構成を説明する概略光路図である。 図２及び図３に示す光走査装置における複数の光ビームの走査間隔を調整する構成を説明する概略光路図である。 図２及び図３に示す光走査装置における複数の光ビームの走査間隔を調整する構成を説明する概略光路図である。 本発明の効果を確認するための実験の結果を示す図であって、二つの光ビームが感光体ドラム上で走査されるときの副走査方向の間隔を調整したときの副走査方向の走査間隔を、主走査方向の各点で測定した結果を示す図である。 本発明の効果を確認するための実験の結果を示す図であって、二つの光ビームが感光体ドラム上で走査されるときの副走査方向の間隔を調整したときの、副走査方向の焦点の位置が光軸方向にずれる量を、主走査方向の各点で測定した結果を示す図である。 本発明の効果を確認するための実験の結果を示す図であって、二つの光ビームが感光体ドラム上で走査されるときの副走査方向の間隔を調整したときの、被走査面への入射角の変化量を、主走査方向の各点で測定した結果を示す図である。 本願に係る発明の他の実施形態である光走査装置の概略構成図である。 図１１に示す光走査装置の光学的な構成を示す概略図である。 図１１及び図１２に示す光走査装置における複数の光ビームの走査間隔を調整する構成を説明する概略光路図である。 本願に係る発明の他の実施形態である光走査装置の光学的な構成を示す概略図である。 複数の光ビームの副走査方向における走査間隔を調整する方法について説明する図であって、被走査面上における走査線を示す概略図である。 複数の光ビームを同時に走査する光走査装置において生じることがある、いわゆる「ＢＯＷ差」を示す概略図である。 複数の光ビームを同時に走査する光走査装置において生じることがある、いわゆる「ピッチずれ」を示す概略図である。 複数の発光点から光ビームが射出されるレーザ装置の例及びこのレーザ装置から射出された光ビームが被走査面を走査する状態を説明する概略図である。

符号の説明

１１：感光体ドラム、 １２：帯電装置、 １３：光走査装置、 １４：現像装置、
１５：転写装置、 １６：クリーニング装置、 １７：除電露光装置、 １８：定着装置、
３１：レーザ装置、 ３２：回転多面鏡、 ３３：コリメータレンズ、 ３４：シリンダレンズ、 ３５：ｆθレンズ、 ３６：第１のシリンダミラー、 ３７：第２のシリンダミラー、 ３８：入射調整ミラー、
４０：光走査装置、 ４１：レーザ装置、 ４２：回転多面鏡、 ４３：コリメータレンズ、 ４４：シリンダレンズ、 ４５：ｆθレンズ、 ４６：第１のシリンダレンズ、 ４７：第２のシリンダレンズ、 ４８：入射調整ミラー、
５１：レーザ装置の発光点、
６１：回転多面鏡、 ６２：シリンダミラー、 ６３：入射調整ミラー

Claims (9)

1. 複数の光ビームを射出する光源と、
   前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、
   前記偏向手段の反射面から被走査面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームをそれぞれ収束させる光学系とを有し、
   偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、
   前記光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を備えることを特徴とする光走査装置。
2. 前記光学系は、第１の光学素子と、その被走査面側に設けられた第２の光学素子とを有し、
   前記第１の光学素子と第２の光学素子とのいずれもが、少なくとも副走査方向に光を収束させるものであり、
   前記入射調整手段は、前記第１の光学素子と第２の光学素子との間にあって、第２の光学素子に入射される光ビームの入射角度を調整するものであることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記光学系は、前記偏向手段で軸線が平行な状態で反射された複数の光ビームを、軸線が平行な状態として被走査面に照射するものであることを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
4. 前記入射調整手段は、被走査面における副走査方向と対応する方向へ角度が調整可能に支持された調整ミラーであり、前記第1の光学素子の被走査面側の焦点位置近傍に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
5. 前記入射調整手段によって入射角が調整される光学素子は、少なくとも被走査面における副走査方向と対応する方向に曲率を有する反射光学素子であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の光走査装置。
6. 複数の光ビームを射出する光源と、
   前記光源から射出された複数の光ビームをほぼ平行光とするカップリング光学系と、
   前記カップリング光学系でほぼ平行とされた複数の光ビームを少なくとも副走査方向に収束させる整形光学系と、
   前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、
   前記偏向手段の反射面から被走査面までの間に設けられ、前記反射面で偏向された複数の光ビームを被走査面上に結像させる結像光学系と、
   前記結像光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段と、を有し、
   偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、
   前記整形光学系に含まれる光学素子は、前記複数のビームの被走査面上における副走査方向の間隔が変更されるように交換が可能となっており、
   前記入射調整手段と前記整形光学系に含まれる光学素子の交換とによって、前記複数の光ビームの被走査面上における副走査方向の走査間隔が調整されるものであることを特徴とする光走査装置。
7. 前記整形光学系に含まれる光学素子の交換により、被走査面上において複数のビームの間隔を段階的に変更するものであり、
   前記入射調整手段は、複数のビームの間隔を連続的に変更するものであり、
   前記整形光学系に含まれる光学素子の交換によって段階的に変更された複数のビームの間隔は、前記入射調整手段による連続的な間隔の変更によって補間するものであることを特徴とする請求項６に記載の光走査装置。
8. 複数の発光点が、光ビームの射出方向と垂直な投影面上で2次元的に配列され、該発光点からそれぞれ光ビームを射出する光源ユニットと、
   前記光源ユニットから射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させる偏向手段と、
   前記偏向手段と被走査面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームをそれぞれ収束させる光学系と、を有し、
   偏向された前記光ビームを被走査面上で主走査方向に走査するとともに、複数の前記光ビームは主走査方向と交差する副走査方向に異なる位置を走査するものであり、
   前記光源ユニットは、光ビームの射出方向に垂直な面内方向に回転して角度を調整するものとなっており、
   前記光学系に含まれて少なくとも被走査面における副走査方向と対応する方向に光ビームを収束させる光学素子に対し、入射させる前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を有することを特徴とする光走査装置。
9. 無端状となった周面が周方向に周回移動し、該周面上に感光体層を有する像保持体と、
   該像保持体の周面を帯電する帯電装置と、
   前記像保持体上に像光を照射して静電潜像を形成する光走査装置と、
   前記像保持体上に形成された静電潜像にトナーを転移してトナー像を現像する現像装置と、
   前記トナー像を直接に転写材に又は中間転写体を介して転写材に転写する転写手段と、
   前記トナー像を定着する定着手段と、を有し、
   前記光走査装置は、
   複数の光ビームを射出する光源と、
   前記光源から射出された複数の光ビームが同一の反射面に入射され、該反射面の移動によって偏向させて前記像保持体の無端状となった周面上を、幅方向に複数の光ビームを同時に主走査方向に走査する偏向手段と、
   前記偏向手段の反射面から前記像保持体の周面までの間に設けられ、前記反射面で反射された複数の光ビームを収束させる光学系と、を備え、
   前記複数の光ビームが被走査面で副走査方向に異なる位置を繰り返し幅方向に主走査されるともに前記像保持体の周面が周方向に移動することによって、該像保持体上に周方向に連続した潜像を形成するものであり、
   前記光学系は、該光学系に含まれて少なくとも副走査方向に光を収束させる光学素子に対し、入射される前記光ビームの、被走査面における副走査方向と対応する方向の入射角度を調整する入射調整手段を有することを特徴とする画像形成装置。

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