JP2001154128A - マルチビームスキャナ及びそれを備えた画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の発光点を有するマルチビームスキャナ
において像面湾曲収差を有する場合でも焦点が合わない
走査位置を発生させることのないマルチビームスキャナ
を提供すること。 【解決手段】 マルチビームスキャナの二つの発光点ｃ
ｈ１，ｃｈ２に対する焦点深度をそれぞれｄ_eとし、各
発光点ｃｈ１，ｃｈ２の焦点深度方向の隔たり量をΔＳ
とするとき、各発光点ｃｈ１，ｃｈ２に対する感光体表
面位置での焦点深度ｄｅの重ね合わせの範囲ｄ_e−ΔＳ
の値が、正になるように、更に好ましくは前記重ね合わ
せの範囲ｄ_e−ΔＳから像面湾曲収差量Ｃ_fを引いた値
が、正になるように、光学系の像側ＮＡを設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の発光点を有
するマルチビームスキャナの技術分野、及びこのマルチ
ビームスキャナを備えたレーザビームプリンタ、複写
機、あるいはファクシミリ等の画像形成装置の技術分野
に属するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、アレー状の複数個の光源を有する
半導体レーザーアレー（レーザーダイオードアレー）を
光源部に用い、複数のビームを同時に感光体等の被走査
面上に結像して複数ラインを同時に走査するマルチビー
ムスキャナが提案されている。このマルチビームスキャ
ナによれば、走査速度を向上させることができ、画像形
成装置の記録速度を向上させることができる。

【０００３】このような複数個の光源を有する半導体レ
ーザーアレーを用いたマルチビームスキャナは、１個の
光源を有するスキャナと同様に被走査面上で所望のスポ
ット径を得ることが必要であり、被走査面上に同時に結
像される複数個のビームのスポット径が揃っていない
と、記録される画素の大きさが不揃いとなり、画像の変
形、湾曲、明暗等を生じ、高品質な画像が得られないと
いう問題がある。

【０００４】そのために、特開昭６２−１６１１１７号
公報には、光源部を焦点深度方向に調整可能とする機構
を備えたスキャナが提案されている。このスキャナで
は、レーザーアレー部分を傾斜する機構を有し、該機構
で調整してコリメートレンズと複数の光源との位置を合
わせるようにすることで各光源による焦点深度方向のス
ポット径を合わせている。

【０００５】しかしながら、この手法では、部品点数が
増えコストアップにつながるという問題があり、また、
ネジによって深度方向の調整を行いバネによって固定し
ているために衝撃等によって位置がずれてしまうという
ことが想定されている。このように位置がずれてしまう
と、被走査面上のビーム径として所望のスポット径が得
られなくなってしまうという問題がある。

【０００６】そこで、このような問題を解決するため
に、特開平９−２６５５０号公報等に開示されているよ
うに、マルチビームスキャナにおける複数個の光ビーム
の結像位置の深度方向におけるばらつきの中に設計上の
結像すべき位置があることを特徴としたものが提案され
た。このマルチビームスキャナによれば、被走査面上の
スポット径のばらつきを最小限に抑えることができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のマルチビームスキャナによれば、このようなマルチ
ビームスキャナにおける光学系が、走査位置により焦点
位置が前後に変動する像面湾曲収差を有しているため、
走査位置によっては被走査面上で焦点が合わず、印字品
質が悪くなるという問題があった。

【０００８】本発明は、以上のような問題を解決し、複
数の発光点を有するマルチビームスキャナにおいて、光
学系が像面湾曲収差を有する場合でも、あらゆる走査位
置で焦点の合うマルチビームスキャナ、及びこのマルチ
ビームスキャナを備えて高品質の印字が可能な画像形成
装置を提供することを課題としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載のマルチビ
ームスキャナは、前記課題を解決するために、複数の発
光点から光ビームを放射する発光素子と、該発光素子か
ら放射された光ビームを、それぞれ偏向させて被照射体
上の複数ラインを主走査させると共に、該被照射体上を
副走査して順次照射する走査手段と、前記発光素子と前
記走査手段との間及び前記走査手段と前記被照射体との
間に配置された光集束手段とを備え、前記発光素子と前
記光集束手段と前記走査手段とからなる光学系が像面湾
曲収差を有するマルチビームスキャナであって、 前記
発光素子は、前記複数の発光点の位置に、深度方向の隔
たりを設けており、前記光学系の像側ＮＡは、前記複数
の発光点に対応する各走査位置における焦点深度の重ね
合わせの範囲が、正になるように設定されていることを
特徴とする。

【００１０】請求項１記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子の複数の発光点は、深度方向に所定
の隔たりを有しているので、被照射体上の走査位置にお
けるそれぞれの発光点に対応する焦点深度の範囲にも、
所定の隔たりが生ずる。従って、何れの発光点からの光
束についても前記走査位置にて焦点が合うのは、各焦点
深度の範囲を各走査位置にて重ね合わせた時に有効な範
囲、即ち前記複数の発光点に対応する焦点深度の各走査
位置における重ね合わせの範囲に前記被照射体の被照射
面が位置している時である。但し、この焦点深度の隔た
りの大きさは、前記光学系の像側ＮＡが小さくなる程大
きくなり、像側ＮＡが大きくなる程小さくなる。従っ
て、前記光学系の像側ＮＡを適切な値に設定することに
より、前記複数の発光点に対応する焦点深度の各走査位
置における重ね合わせの範囲を正にすることができ、走
査位置によらず、何れの発光点からの光束についても焦
点を合わせることができる。

【００１１】請求項２記載のマルチビームスキャナは、
前記課題を解決するために、請求項１記載のマルチビー
ムスキャナにおいて、複数の発光点の位置の深度方向に
おける隔たり量をΔｚ、光学系の縦倍率をα、光学系の
像面湾曲収差量をＣ_f、光学系の残存波面収差量をＷ₀、
波長をλ、像高をｙとすると、前記隔たり量Δｚは、２
（λ／２ＮＡ²＋２ｙ／ＮＡ−２Ｗ₀／ＮＡ²）＞α・Δ
ｚ＋Ｃ_fという関係式で、像側ＮＡと関係付けられるこ
とを特徴とする。

【００１２】請求項２記載のマルチビームスキャナによ
れば、焦点深度ｄ_eと、波長λと、光学系の残存波面収
差量Ｗ₀と、像高ｙとの間には、ｄ_e＝２（λ／２ＮＡ²
＋２ｙ／ＮＡ−２Ｗ₀／ＮＡ²）の関係があり、更に複数
の発光点の位置の深度方向における隔たり量Δｚと、光
学系の縦倍率αと、光学系の像面湾曲収差量Ｃ_fと、前
記各値との間には、２（λ／２ＮＡ²＋２ｙ／ＮＡ−２
Ｗ₀／ＮＡ²）＞α・Δｚ＋Ｃ_fという関係があるので、
前記複数の発光点に対応する焦点深度の各走査位置にお
ける重ね合わせの範囲である（ｄ_e−α・Δｚ）は、常
に像面湾曲収差量Ｃ_fよりも大きな値となり、走査位置
及び各走査位置における像面湾曲収差量によらずに、何
れの発光点からの光束についても焦点を合わせることが
できる。

【００１３】請求項３記載のマルチビームスキャナは、
前記課題を解決するために、請求項２記載のマルチビー
ムスキャナにおいて、前記発光素子の発光面が、前記光
集束手段の光軸に垂直な面に対してなす角度をφ、前記
発光面内での前記複数の発光点の隔たり量をΔｐとする
とき、前記複数の発光点の位置の深度方向における隔た
り量Δｚを、Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφで置き換えた
ことを特徴とする。

【００１４】請求項３記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子の発光面が、前記光集束手段の光軸
に垂直な面に対して角度φで傾きを有している場合で
も、前記複数の発光点の位置の深度方向における隔たり
量Δｚを前記光軸に対して投影した値Δｚｃｏｓφと、
前記発光面内での前記複数の発光点の隔たり量Δｐを前
記光軸に対して投影した値Δｐｓｉｎφとを加え合わ
せ、Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφを請求項２におけるΔ
ｚと置き換えるので、前記複数の発光点に対応する焦点
深度の各走査位置における重ね合わせの範囲を正確に算
出することができ、走査位置及び各走査位置における像
面湾曲収差量によらずに、何れの発光点からの光束につ
いてもより一層確実に焦点を合わせることができる。

【００１５】請求項４記載のマルチビームスキャナは、
前記課題を解決するために、複数の発光点から光ビーム
を放射する発光素子と、該発光素子から放射された光ビ
ームを、それぞれ偏向させて被照射体上の複数ラインを
主走査させると共に、該被照射体上を副走査して順次照
射する走査手段と、前記発光素子と前記走査手段との間
及び前記走査手段と前記被照射体との間に配置された光
集束手段とを備え、前記発光素子と前記光集束手段と前
記走査手段とからなる光学系が像面湾曲収差を有するマ
ルチビームスキャナであって、前記発光素子は、前記複
数の発光点の主走査方向に発散する中心位置に、深度方
向の隔たりを設けており、前記光学系の主走査像側ＮＡ
_mは、前記複数の発光点に対応する各走査位置における
焦点深度の重ね合わせの範囲が、正になるように設定さ
れていることを特徴とする。

【００１６】請求項４記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子は、複数の発光点の主走査方向に発
散する中心位置に、深度方向に所定の隔たりを有してい
るので、被照射体上の走査位置におけるそれぞれの発光
点に対応する焦点深度の範囲にも、主走査方向に対して
所定の隔たりが生ずる。従って、何れの発光点からの光
束についても前記主走査方向での走査位置にて焦点が合
うのは、それぞれの主走査焦点深度の範囲を各走査位置
にて重ね合わせた時に有効な範囲、即ち前記複数の発光
点に対応する主走査焦点深度の各走査位置における重ね
合わせの範囲に前記被照射体の被照射面が位置している
時である。但し、この焦点深度の隔たりの大きさは、前
記光学系の主走査像側ＮＡ_mが小さくなる程大きくな
り、主走査像側ＮＡ_mが大きくなる程小さくなる。従っ
て、前記光学系の主走査像側ＮＡ_mを適切な値に設定す
ることにより、前記複数の発光点に対応する焦点深度の
各走査位置における重ね合わせの範囲を正にすることが
でき、主走査方向の走査位置によらず、何れの発光点か
らの光束についても焦点を合わせることができる。

【００１７】請求項５記載のマルチビームスキャナは、
前記課題を解決するために、請求項４記載のマルチビー
ムスキャナにおいて、複数の発光点の主走査方向に発散
する中心位置の深度方向における隔たり量をΔｚ_m、光
学系の主走査縦倍率をα_m、光学系の主走査像面湾曲収
差量をＣ_fm、光学系の残存波面収差量をＷ₀、波長を
λ、像高をｙ_mとすると、前記隔たり量Δｚ_mは、２（λ
／２ＮＡ_m ²＋２ｙ_m／ＮＡ_m−２Ｗ₀／ＮＡ_m ²）＞α_m・Δ
ｚ_m＋Ｃ_fmという関係式で、主走査像側ＮＡ_mと関係付け
られることを特徴とする。

【００１８】請求項５記載のマルチビームスキャナによ
れば、主走査焦点深度ｄ_emと、主走査像側ＮＡ_mと、波
長λと、光学系の残存波面収差量Ｗ₀と、像高ｙとの間
には、ｄ_em＝２（λ／２ＮＡ_m ²＋２ｙ／ＮＡ_m−２Ｗ₀／
ＮＡ_m ²）の関係があり、更に複数の発光点の主走査方向
に発散する中心位置の深度方向における隔たり量Δｚ_m
と、光学系の主走査縦倍率α_mと、光学系の主走査像面
湾曲収差量Ｃ_fmと、前記各値との間には、２（λ／２Ｎ
Ａ_m ²＋２ｙ／ＮＡ_m−２Ｗ₀／ＮＡ_m ²）＞α_m・Δｚ_m＋Ｃ
_fmという関係があるので、前記複数の発光点に対応する
焦点深度の各走査位置における重ね合わせの範囲である
（ｄ_em−α_m・Δｚ_m）は、常に主走査像面湾曲収差量Ｃ
_fmよりも大きな値となり、走査位置及び各走査位置にお
ける主走査像面湾曲収差量によらずに、何れの発光点か
らの光束についても焦点を合わせることができる。

【００１９】請求項６記載のマルチビームスキャナは、
前記課題を解決するために、請求項５記載のマルチビー
ムスキャナにおいて、前記発光素子の発光面が、前記光
集束手段の光軸に垂直な面に対してなす角度をφ、前記
発光面内での前記複数の発光点の隔たり量をΔｐとする
とき、前記複数の発光点の主走査方向に発散する中心位
置の深度方向における隔たり量Δｚ_mを、Δｚ_mｃｏｓφ
＋Δｐｓｉｎφで置き換えたことを特徴とする。

【００２０】請求項６記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子の発光面が、前記光集束手段の光軸
に垂直な面に対して角度φで傾きを有している場合で
も、前記複数の発光点の主走査方向に発散する中心位置
の深度方向における隔たり量Δｚ_mを前記光軸に対して
投影した値Δｚ_mｃｏｓφと、前記発光面内での前記複
数の発光点の隔たり量Δｐを前記光軸に対して投影した
値Δｐｓｉｎφとを加え合わせ、Δｚ_mｃｏｓφ＋Δｐ
ｓｉｎφを請求項５におけるΔｚ_mと置き換えるので、
前記複数の発光点に対応する主走査焦点深度の各走査位
置における重ね合わせの範囲を正確に算出することがで
き、走査位置及び各走査位置における主走査像面湾曲収
差量によらずに、何れの発光点からの光束についてもよ
り一層確実に焦点を合わせることができる。

【００２１】請求項７記載の画像形成装置は、前記課題
を解決するために、請求項１ないし６のいずれか１記載
のマルチビームスキャナと、前記被照射体として回転駆
動される感光体とを備え、該感光体上に前記光束を順次
照射することにより画像を露光して形成することを特徴
とする。

【００２２】請求項７記載の画像形成装置によれば、請
求項１ないし６のいずれか１記載のマルチビームスキャ
ナによって、前記被照射体として回転駆動される感光体
上に光束が順次照射されると、マルチビームスキャナの
光学系に像面湾曲収差が存在する場合でも、複数の発光
点からの全ての光束について走査位置によることなく感
光体上で焦点を合わせることができ、良好な露光を行う
ことができる。その結果、高品質の画像が形成されるこ
とになる。

【００２３】請求項８記載の画像形成装置は、前記課題
を解決するために、請求項７記載の画像形成装置におい
て、前記感光体の位置は、前記複数の発光点に対応する
焦点深度と像面湾曲とを重ね合わせた場合の略中点に配
置されていることを特徴とする。

【００２４】請求項８記載の画像形成装置によれば、前
記感光体の位置は、前記複数の発光点に対応する焦点深
度と像面湾曲とを重ね合わせた場合の略中点に配置され
ているので、コリメートレンズや走査レンズ等の光学素
子に取り付け誤差が発生した場合や、環境変動で光学素
子の屈折力が変化した場合でも、前記感光体上に焦点の
合った光束を確実に照射させることができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて説明する。以下の説明は、現像装
置を含む画像形成装置に対して本発明を適用した場合の
実施形態である。まず、本実施形態における画像形成装
置全体の概要について説明する。

【００２６】（画像形成装置全体の概要）図１は、本発
明を適用した画像形成装置としてのレーザビームプリン
タ１の概略構成を示す断面図である。図１において、レ
ーザビームプリンタ１は、本体ケース２の底部に、図示
しない用紙を給紙するフィーダユニットを備えている。
フィーダユニットは、図示しないバネによって押圧され
る用紙押圧板１０と、給紙ローラ１１と、摩擦分離部材
１４とを備え、用紙押圧板１０により用紙を給紙ローラ
１１に押圧し、給紙ローラ１１の回転により給紙ローラ
１１と摩擦分離部材１４との間で最上位の用紙を分離し
て所定のタイミングで用紙の供給を行う。

【００２７】図１の矢印方向に回転する前記給紙ローラ
１１の回転による用紙搬送方向の下流側には、１対のレ
ジストローラ１２及び１３が回転可能に枢支され、後述
する感光ドラム２０と転写ローラ２１によって形成され
る転写位置へ所定のタイミングで用紙を搬送する。

【００２８】被照射体としての感光ドラム２０は、例え
ば、正帯電性のポリカーボネイトを主成分とする有機感
光体からなり、円筒スリーブを接地した状態で、本体ケ
ース２に回転自在に枢支される。また、図示しない駆動
手段により矢印方向に回転駆動される。

【００２９】帯電器３０は、例えば、タングステンなど
からなる帯電用ワイヤからコロナ放電を発生させる正帯
電用のスコロトロン型の帯電器から構成される。

【００３０】マルチビームスキャナ４０は、感光ドラム
２０上に静電潜像を形成する為のレーザ光Ｌを発生する
発光素子としてのレーザダイオード（図２及び図３参
照）と、回転駆動される走査手段としてのポリゴンミラ
ー４１と、光集束手段としてのｆθレンズ４２及びトー
リックレンズ４５と、反射ミラー４３，４４及び４６と
を含んで構成されている。詳しくは後述する。

【００３１】現像器カートリッジ５０は、ケース５１内
にトナー収容室５２が形成され、トナー収容室５２内に
は、アジテータ５３と、清掃部材５４と、遮光部材８０
とが回転軸５５の周りに回転自在に設けられている。こ
のトナー収容室５２内には、非磁性１成分現像剤として
のトナーが収容される。トナー収容室５２の側壁には光
透過窓５６が設けられている。また、感光ドラム２０側
には、開口部Ａによってトナー収容室５２と連通し現像
を行う現像室５７が形成され、供給ローラ５８と現像ロ
ーラ５９が回転可能に枢支される。現像ローラ５９上の
トナーは、薄い板状の弾性を有する層厚規制ブレード６
４により所定の層厚に規制され、現像に供される。

【００３２】転写ローラ２１は、回転自在に枢支され、
シリコーンゴムやウレタンゴムなどからなる導電性を有
する発泡弾性体から構成される。転写ローラ２１は、印
加される電圧により、感光ドラム２０上のトナー画像を
用紙に確実に転写するように構成されている。

【００３３】定着ユニット７０は、レジストローラ１２
及び１３から感光ドラム２０と転写ローラ２１との圧接
部に至る用紙の搬送方向の更に下流側に設けられ、加熱
用ローラ７１と押圧ローラ７２を備える。用紙に転写さ
れたトナー画像は加熱用ローラ７１と押圧ローラ７２と
によって搬送される間に加熱されつつ押圧されて用紙に
定着される。

【００３４】用紙搬送用の１対の搬送ローラ７３及び排
紙ローラ７４は、定着ユニット７０の搬送方向下流側に
夫々設けられており、排紙ローラ７４の下流側には排紙
トレイ７５が設けられている。

【００３５】以上のような本実施形態のレーザビームプ
リンタ１において、感光ドラム２０の表面が帯電器３０
により一様に帯電され、マルチビームスキャナ４０から
画像情報に従って変調されたレーザ光Ｌが副走査位置の
異なる複数のラインに照射されると、感光ドラム２０の
表面には高速に静電潜像が形成される。この静電潜像
は、現像器カートリッジ５０によってトナーで可視像化
され、感光ドラム２０上に形成された可視像は感光ドラ
ム２０によって転写位置へと搬送される。転写位置にお
いては、給紙ローラ１１及びレジストローラ１２及び１
３を介して用紙が供給され、前記可視像は転写ローラ２
１によって印加される転写バイアスにより、用紙に転写
される。なお、転写後に感光ドラム２０上に残ったトナ
ーは、現像ローラ５９によって現像室５７に回収され
る。

【００３６】次に、用紙は定着ユニット７０に搬送さ
れ、定着ユニット７０の加熱用ローラ７１と押圧ローラ
７２によって挟持搬送され、用紙上の可視像は加圧及び
加熱され、用紙上に定着される。そして、用紙は一対の
搬送ローラ７３及び排紙ローラ７４によりレーザビーム
プリンタ１上部の排紙トレイ７５に排出され、画像形成
動作が終了する。

【００３７】（マルチビームスキャナの構成）次に、以
上のようなレーザービームプリンタ１におけるマルチビ
ームスキャナ４０の構成について、図２及び図３を用い
て詳しく説明する。図２は当該マルチビームスキャナ４
０のコリメート部の構成を説明するための図、図３は当
該マルチビームスキャナ４０全体の光学系の構成を説明
するための図である。なお、図１に示すように、本実施
形態においては、プリンタ装置構成上折り返しミラーを
配置したが、図３に示す光学系モデルとの間で基本構成
要素に変化はない。

【００３８】図２に示すように、本実施形態のマルチビ
ームスキャナ４０は、複数個の光源を有するレーザーダ
イオード９０と、カバーガラス９１と、レーザーダイオ
ード９０からの複数個の光ビームを各々略平行光束にす
るコリメータレンズ９２と、光束を絞るためのスリット
９３とを備えている。

【００３９】更に、本実施形態のマルチビームスキャナ
４０は、図３に示すように、前記スリット９３から射出
される光束を副走査方向だけに絞り、ポリゴンミラー４
１の面倒れ補正を行う蒲鉾形状のシリンドリカルレンズ
９４と、光束を主走査方向に偏向走査するポリゴンミラ
ー４１と、ｆθレンズ４２及びトーリックレンズ４５か
らなる走査レンズとを備えている。

【００４０】以上のような本実施形態のマルチビームス
キャナ４０に用いるレーザーダイオード９０は、図４に
示すようなモノリシック構造のもの、あるいは図５に示
すようなディスクリート構造のものの何れも使用可能で
あるが、何れの場合も、二つの発光点ｃｈ１，ｃｈ２は
発光面から内部に入り込んだ位置になっている。更に、
製造上のばらつきから、二つの発光点ｃｈ１，ｃｈ２の
位置はΔＺの隔たりを生じている。

【００４１】その結果、ビームスポットサイズの極小値
であるビームウエストの位置は、二つの発光点ｃｈ１と
ｃｈ２との間で、図６に示すように、感光体２０上の被
走査面付近において焦点深度方向にΔＳの隔たりを生ず
ることになる。従って、何れの発光点ｃｈ１，ｃｈ２か
らのビームについても感光体２０上の被走査面上で結像
していると言えるためには、焦点深度ｄ_eから前記隔た
り量ΔＳを引いた値、即ちそれぞれの発光点に対応する
被走査位置における焦点深度の重ね合わせの範囲ｄ_e−
ΔＳが正の値であれば良いことになる。

【００４２】更に、図６に示すように、前記ビームウエ
ストの位置は、主走査方向の位置によってずれがあり、
像面湾曲が生じている。本実施形態のマルチビームスキ
ャナ４０における全走査位置に対する像面湾曲の様子を
図７に示す。このような像面湾曲が生じている場合に
は、前記被走査位置における焦点深度の重合わせの範囲
ｄ_e−ΔＳが狭いと、主走査方向の位置によっては、こ
の焦点深度の重合わせの範囲ｄ_e−ΔＳが感光体２０の
表面位置からずれてしまい、感光体２０上でビームが結
像しないことになってしまう。つまり、主走査方向の位
置によらずに前記ビームが感光体２０上の被走査面上で
結像していると言えるためには、前記被走査位置におけ
る焦点深度の重ね合わせの範囲ｄ_e−ΔＳから、更に像
面湾曲量Ｃ_fを差し引いた値、即ちｄ_e−ΔＳ−Ｃ_fが正
の値であれば良いことになる。

【００４３】ここで、前記ビームウエストの位置の焦点
深度方向における隔たり量、即ち焦点の隔たり量ΔＳ
は、縦倍率をα、図４に示す発光点ｃｈ１とｃｈ２の隔
たり量をΔＺとすると、

【００４４】

【数１】ΔＳ＝α・ΔＺ で表すことができる。従って、何れの発光点からのビー
ムについても主走査方向の位置によらずに感光体２０上
の被走査面上で結像していると言えるためには、

【００４５】

【数２】ｄ_e−（ΔＳ＋Ｃ_f）＞０ 即ち、

【００４６】

【数３】ｄ_e−（α・ΔＺ＋Ｃ_f）＞０ であれば良いのであるから、

【００４７】

【数４】ｄ_e＞（α・ΔＺ＋Ｃ_f） となり、焦点深度ｄ_eが（α・ΔＺ＋Ｃ_f）で表される量
よりも大きくなるように光学系の設計を行うことによ
り、何れの発光点からのビームについても像面湾曲に拘
わらず感光体２０上の被走査面上で微小スポットとして
結像させることができる。

【００４８】そこで、本実施形態においては、前記焦点
深度ｄ_eの値を決定する要因として、像側の開口数ＮＡ
に着目し、この開口数ＮＡを調節することにより、所望
の焦点深度ｄ_eの値を得るようにした。ここで、像側の
開口数ＮＡとは、感光体２０側から見た時のビームの拡
がりの角度を示す値であり、主走査方向のＮＡ_mと、副
走査方向のＮＡ_Sがある。図８（Ａ）に示すように、コ
リメータレンズ４２に入射されるビームの主走査方向の
幅をＤ_mとし、コリメータレンズ４２の主平面から感光
体２０の表面までの主走査方向の距離をｌ_mとすると
き、主走査方向のＮＡ_mは、

【００４９】

【数５】ＮＡ_m＝Ｄ_m／２ｌ_m で表すことができる。

【００５０】また、副走査方向のＮＡ_Sについては、図
８（Ｂ）に示すように、コリメータレンズ４２に入射さ
れるビームの副走査方向の幅をＤ_sとし、コリメータレ
ンズ２４の主平面から感光体２０の表面までの副走査方
向の距離をｌ_sとするとき、副走査方向のＮＡ_sは、

【００５１】

【数６】ＮＡ_s＝Ｄ_s／２ｌ_s で表すことができる。

【００５２】従って、コリメートレンズ４２の後方に配
置されたスリット９３によってビームの幅を調整するこ
とにより、主走査方向のＮＡ_m及び副走査方向のＮＡ_Sの
値を変化させることができる。

【００５３】次に、以上のような像側の開口数ＮＡと、
前記焦点深度ｄ_eとの関係について説明する。

【００５４】焦点深度ｄ_eとは、焦点はずれの値の範囲
のうち、良好に像が形成できる範囲として許容される範
囲を言うが、この焦点はずれの値の範囲は、波面収差量
としても捉えることができる。これは、正しく焦点が合
う位置から像点がはずれると、波面収差が発生するため
である。ここで、波面収差を説明するために、図９に示
すような座標系を考える。図９は、簡単のために像点が
軸上にあるものとし、この基準像点Ｐと光線Ｂが参照球
面を切る点Ａとを結ぶ直線ＡＰと、光軸とがなす角を
θ、Ａ点を通り光軸を含む平面と子午面（ｙｚ面）との
なす角をψとし、波面収差Ｗを（θ，ψ）で表す。この
座標系の原点Ｅは主光線が像側で光軸を切る点であると
すれば、ξη面は射出瞳の平面である。η軸が子午面内
にあるものとする。なお、像面の座標系は（ｘ，ｙ，
ｚ）であり、光軸がｚ軸、ｙｚ面が子午面とする。

【００５５】ここで、像面における波面収差量をＷ’、
光学系が元来有している収差量である残存波面収差量を
Ｗ₀、像点移動による波面収差量をδＷとすると、波面
収差量Ｗ’は、残存波面収差量Ｗ₀と波面収差量δＷの
線型和で得られ、

【００５６】

【数７】Ｗ’＝Ｗ₀＋δＷ となる。

【００５７】波面収差量δＷは、更に焦点はずれ、即ち
光軸方向の像点の変位ｚによる波面収差量δＷ_Lと、子
午面内で光軸と垂直な方向の変位ｙに対する波面収差の
変化をδＷ_Tとすると、

【００５８】

【数８】δＷ＝δＷ_L＋δＷ_T で表される。

【００５９】波面収差量δＷ_Lは、

【００６０】

【数９】δＷ_L＝−ｐｚ ＝−（１−cosθ）・ｚ ＝−（sin²θ/2）・ｚ ＝−（ＮＡ²/2）・ｚ となる。一方、波面収差量δＷ_Tは、

【００６１】

【数１０】δＷ_T＝−ｙsinθcosψ ＝−ｙＮＡcosψ となる。従って、両方の移動が同時にされる場合は、波
面収差量の変化を表す式は、

【００６２】

【数１１】δＷ＝δＷ_L＋δＷ_T ＝−（ＮＡ²/2）・ｚ−ｙＮＡcosψ と表すことができる。

【００６３】本実施形態におけるマルチビームスキャナ
４０においては、走査レンズ側から感光体２０を見た場
合に、図１０のように発光点ｃｈ１，ｃｈ２に対する像
点が角度φで表される位置のずれを生じており、更に光
軸方向におけるずれを生じるので、前記のような波面収
差量の変化を求める式を適用することにより、波面収差
が最小となる像点を得る条件を算出することができる。

【００６４】なお、図１０において、ｘ軸方向のずれ量
に対し、ｙ軸方向のずれ量は微小な値であり、ほぼψ＝
０゜とすることができる。従って、前記δＷ_Tは

【００６５】

【数１２】δＷ_T＝−ｙＮＡ とすることができるので、波面収差量の変化を表す式
は、

【００６６】

【数１３】δＷ＝−（ＮＡ²/2）・ｚ−ｙＮＡ と表すことができる。従って、前記（７）式より、波面
収差量Ｗ’は、

【００６７】

【数１４】Ｗ’＝Ｗ₀＋δＷ_L＋δＷ_T ＝Ｗ₀−（ＮＡ²/2）・ｚ−ｙＮＡ と表すことができる。

【００６８】そして、このような式を用いれば、像点が
移動した場合の強度分布を求めることができる。一般
に、光学系において像の良否の目安を示すものとして
は、中心強度の低下量を表すシュトレールのディフィニ
ション（Strehl definition：ＳＤ）が用いられる。正
しく焦点のあった位置での強度をＩ₀とすると、焦点は
ずれの中心強度ＩがＩ₀の８０％であれば、ほぼ理想的
なレンズとみなせるとされている。この時の焦点はずれ
の値の範囲が、理想的なレンズの焦点深度となる。

【００６９】また、この８０％以上のディフィニション
ＳＤを与える波面収差は、１／４波長以内であれば良い
ことが知られている。これは、レイリーの限界（Raylei
gh Limit）として極めて有名な基準である。

【００７０】そこで、上記（１４）式において、Ｗ’を
λ／４とし、この時の光軸方向のずれ量をｚ₀とする
と、

【００７１】

【数１５】λ／４＝Ｗ₀−（ＮＡ²/2）・ｚ₀−ｙＮＡ と表すことができる。この式を変形すると、

【００７２】

【数１６】−ｚ₀＝（λ／２ＮＡ²）＋（２ｙ／ＮＡ）−
（２Ｗ₀／ＮＡ²） の関係が得られる。ここで、焦点深度ｄ_eは２｜ｚ₀｜に
より与えられるので、焦点深度ｄ_eは、

【００７３】

【数１７】ｄ_e＝２｜ｚ₀｜＝２（（λ／２ＮＡ²）＋
（２ｙ／ＮＡ）−（２Ｗ₀／ＮＡ²）） と表すことができる。

【００７４】従って、上記（４）式により、

【００７５】

【数１８】ｄ_e＞（α・ΔＺ＋Ｃ_f） であるから、

【００７６】

【数１９】２（（λ／２ＮＡ²）＋（２ｙ／ＮＡ）−
（２Ｗ₀／ＮＡ²））＞（α・ΔＺ＋Ｃ_f） の関係式が成り立つ。この関係式から、像側ＮＡを小さ
くする程、左辺の値、即ち焦点深度ｄ_eの値が大きくな
り、像側ＮＡを大きくする程、焦点深度ｄ_eの値が小さ
くなることが判る。従って、この式を満たすようにＮＡ
の調節を行うことにより、像面湾曲を考慮した焦点深度
の重ね合わせの範囲ｄ_e−ΔＳ−Ｃ_fを常に正にすること
ができる。

【００７７】更に、本実施形態においては、感光体２０
の位置が、当該感光体２０上の被走査位置における焦点
深度と像面湾曲との重ね合わせの範囲ｄ_e−ΔＳ−Ｃ_fの
略中点になるように構成されている。従って、コリメー
トレンズや走査レンズ等の光学素子に取り付け誤差が発
生した場合や、環境変動で光学素子の屈折力が変化した
場合であっても、感光体２０の位置が前記重ね合わせの
範囲ｄ_e−ΔＳ−Ｃ_fから外れてしまうことをより一層確
実に防止することができる。

【００７８】本実施形態のレーザービームプリンタ１
は、以上のように構成されているので、図７に示すよう
に、−１１０ｍｍ〜１１０ｍｍの走査位置の全範囲にお
いて、ｄ_e−（α・ΔＺ＋Ｃ_f）は正の値を保っており、
走査位置によらずに感光体２０上の被走査面上で微小ス
ポットとして結像可能であることが確認された。なお、
図７における走査位置は感光体２０の中心位置を０と
し、図６で走査方向を示す矢印の始端側をマイナス側、
終端側をプラス側として表したものである。

【００７９】その結果、本実施形態のレーザービームプ
リンタ１によれば、副走査方向位置の異なる二つの走査
ラインを、主走査方向の全域において焦点の合った微小
スポットにより走査することができるので、高品質の画
像を高速で形成することができる。 （第２の実施形態）次に、本発明の第２実施形態を図１
１及び図１２に基づいて説明する。なお、第１の実施形
態との共通箇所には同一符号を付して説明を省略する。

【００８０】レーザーダイオード９０は、図１１に示す
ように、キャップ９０Ｂで覆われたレーザー素子９０Ａ
及びＰＩＮ受光素子９０Ｃ等がステム９０Ｄ上に取り付
けられた構造となっている。従って、ステム９０Ｄの取
り付け方如何によっては、レーザー素子９０Ａの発光面
が、図４及び図５に示すように前記コリメータレンズ等
の光軸に垂直な面に対してある角度φを有することにな
る。

【００８１】この時、前記複数の発光点ｃｈ１，ｃｈ２
の位置の深度方向における隔たり量Δｚの前記光軸に対
して投影される大きさは、図１２に示すようにΔｚｃｏ
ｓφとなる。更に、レーザダイオード９０の発光面内で
の前記複数の発光点ｃｈ１，ｃｈ２の隔たり量をΔｐと
すると、隔たり量Δｐの前記光軸に対して投影される大
きさは図１２に示すようにΔｐｓｉｎφとなる。

【００８２】従って、前記関係式において使用した前記
複数の発光点の位置の深度方向における隔たり量Δｚの
代わりに、Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφを用いると、

【００８３】

【数２０】２（（λ／２ＮＡ²）＋（２ｙ／ＮＡ）−
（２Ｗ₀／ＮＡ²））＞（α・（Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉ
ｎφ）＋Ｃ_f） と表すことができる。

【００８４】本実施形態では、この関係式を用いて光学
系の設計を行うことにより、レーザー素子が光軸に対し
て傾きを有している場合でも、前記被走査位置における
焦点深度の重ね合わせの範囲を正確に前記範囲に収める
ことができる。 （第３の実施形態）次に、本発明の第３の実施形態につ
いて説明する。なお、第１の実施形態との共通箇所には
同一符号を付して説明を省略する。

【００８５】上述したマルチビームスキャナ４０の光学
系においては、副走査方向の焦点深度は深いという特性
を有している。一方、主走査方向の焦点深度は、上述し
たように縦倍率、像面湾曲、あるいはレーザー素子の光
軸に対する傾き等によって影響を受け易いという性質を
有している。従って、主走査方向の焦点深度に着目して
前記被走査位置における焦点深度の重ね合わせの範囲の
関係を満たせば、一般的には副走査方向も満たすという
ことができる。

【００８６】そこで、本実施形態では、特に、主走査像
側開口数をＮＡ_m、複数の発光点ｃｈ１，ｃｈ２の主走
査方向に発散する中心位置の深度方向における隔たり量
をΔｚ_m、光学系の主走査縦倍率をα_m、光学系の主走査
像面湾曲収差量をＣ_fmとして、

【００８７】

【数２１】２（（λ／２ＮＡ_m ²）＋（２ｙ／ＮＡ_m）−
（２Ｗ₀／ＮＡ_m ²））＞（α_m・Δｚ_m＋Ｃ_fm） という関係式によって表すこととした。主走査像側ＮＡ
_mがこのように関係を満たせば、何れの発光点ｃｈ１，
ｃｈ２からのビームについても主走査方向において、主
走査方向の像面湾曲に拘わらず感光体２０上の被走査面
上で微小スポットとして結像させることができる。そし
て、このような関係式を満たせば、副走査方向において
も感光体２０上の被走査面を焦点深度内に納めることが
できるので、主走査方向及び副走査方向の何れにおいて
も焦点の合ったビームにより高速な走査を行うことがで
きる。

【００８８】なお、第３の実施形態において、Δｚ_mの
代わりに、Δｚ_mｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφを用いること
により、レーザー素子の光軸に対する傾きがある場合で
も正確な光学設計が可能となるのは言うまでもない。な
お、ここでΔｐ_mとは、レーザダイオード９０の発光面
内での前記複数の発光点ｃｈ１，ｃｈ２の主走査方向で
の隔たり量である。

【００８９】以上、実施形態に基づき本発明を説明した
が、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではな
く、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改良変形
が可能であることは容易に推察できるものである。

【００９０】

【発明の効果】請求項１記載のマルチビームスキャナに
よれば、前記発光素子を、複数の発光点の位置に深度方
向の隔たりを設けた発光素子とし、前記光学系の像側Ｎ
Ａを、前記複数の発光点に対応する焦点深度の各走査位
置における重ね合わせの範囲が、正になるように設定し
たので、各焦点深度の範囲を各走査位置にて重ね合わせ
た時に有効な範囲内に前記被照射体の被照射面を位置さ
せることができ、走査位置によらず、何れの発光点から
の光束についても焦点を合わせることができる。

【００９１】請求項２記載のマルチビームスキャナによ
れば、焦点深度ｄ_eと、波長λと、光学系の残存波面収
差量Ｗ₀と、像高ｙとの間には、ｄ_e＝２（λ／２ＮＡ²
＋２ｙ／ＮＡ−２Ｗ₀／ＮＡ²）の関係があり、更に複数
の発光点の位置の深度方向における隔たり量Δｚと、光
学系の縦倍率αと、光学系の像面湾曲収差量Ｃ_fと、前
記各値との間には、２（λ／２ＮＡ²＋２ｙ／ＮＡ−２
Ｗ₀／ＮＡ²）＞α・Δｚ＋Ｃ_fという関係があるので、
前記複数の発光点に対応する焦点深度の各走査位置にお
ける重ね合わせの範囲である（ｄ_e−α・Δｚ）は、常
に像面湾曲収差量Ｃ_fよりも大きな値となり、走査位置
及び各走査位置における像面湾曲収差量によらずに、何
れの発光点からの光束についても焦点を合わせることが
できる。

【００９２】請求項３記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子の発光面が、前記光集束手段の光軸
に垂直な面に対して角度φで傾きを有している場合で
も、前記複数の発光点の位置の深度方向における隔たり
量Δｚを前記光軸に対して投影した値Δｚｃｏｓφと、
前記発光面内での前記複数の発光点の隔たり量Δｐを前
記光軸に対して投影した値Δｐｓｉｎφとを加え合わ
せ、Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφを請求項２におけるΔ
ｚと置き換えるので、前記複数の発光点に対応する焦点
深度の各走査位置における重ね合わせの範囲を正確に算
出することができ、走査位置及び各走査位置における像
面湾曲収差量によらずに、何れの発光点からの光束につ
いてもより一層確実に焦点を合わせることができる。

【００９３】請求項４記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子を、複数の発光点の主走査方向に発
散する中心位置に、深度方向の隔たりを設けた発光素子
とし、前記光学系の主走査像側ＮＡ_mを、前記複数の発
光点に対応する主走査方向の焦点深度の各走査位置にお
ける重ね合わせの範囲が、正になるように設定したの
で、各焦点深度の範囲を各走査位置にて重ね合わせた時
に有効な範囲内に前記被照射体の被照射面を位置させる
ことができ、主走査方向の走査位置によらず、何れの発
光点からの光束についても焦点を合わせることができ
る。また、一般に、主走査方向の焦点深度の範囲内に被
照射体の被照射面を位置させることができれば、ポリゴ
ンミラーより上流にあるシリンドリカルレンズを光軸方
向に位置を合わせることで、副走査方向において、焦点
深度の範囲内に被照射体の被照射面を位置させることが
できるので、結局、何れの走査方向においても、走査位
置によらず、何れの発光点からの光束についても焦点を
合わせることができる。

【００９４】請求項５記載のマルチビームスキャナによ
れば、主走査焦点深度ｄ_emと、主走査像側ＮＡ_mと、波
長λと、光学系の残存波面収差量Ｗ₀と、像高ｙとの間
には、ｄ_em＝２（λ／２ＮＡ_m ²＋２ｙ／ＮＡ_m−２Ｗ₀／
ＮＡ_m ²）の関係があり、更に複数の発光点の主走査方向
に発散する中心位置の深度方向における隔たり量Δｚ_m
と、光学系の主走査縦倍率α_mと、光学系の主走査像面
湾曲収差量Ｃ_fmと、前記各値との間には、２（λ／２Ｎ
Ａ_m ²＋２ｙ／ＮＡ_m−２Ｗ₀／ＮＡ_m ²）＞α_m・Δｚ_m＋Ｃ
_fmという関係があるので、前記複数の発光点に対応する
焦点深度の各走査位置における重ね合わせの範囲である
（ｄ_em−α_m・Δｚ_m）は、常に主走査像面湾曲収差量Ｃ
_fmよりも大きな値となり、走査位置及び各走査位置にお
ける主走査像面湾曲収差量によらずに、何れの発光点か
らの光束についても焦点を合わせることができる。

【００９５】請求項６記載のマルチビームスキャナによ
れば、前記発光素子の発光面が、前記光集束手段の光軸
に垂直な面に対して角度φで傾きを有している場合で
も、前記複数の発光点の主走査方向に発散する中心位置
の深度方向における隔たり量Δｚ_mを前記光軸に対して
投影した値Δｚ_mｃｏｓφと、前記発光面内での前記複
数の発光点の隔たり量Δｐを前記光軸に対して投影した
値Δｐｓｉｎφとを加え合わせ、Δｚ_mｃｏｓφ＋Δｐ
ｓｉｎφを請求項５におけるΔｚ_mと置き換えるので、
前記複数の発光点に対応する主走査焦点深度の各走査位
置における重ね合わせの範囲を正確に算出することがで
き、走査位置及び各走査位置における主走査像面湾曲収
差量によらずに、何れの発光点からの光束についてもよ
り一層確実に焦点を合わせることができる。

【００９６】請求項７記載の画像形成装置によれば、請
求項１ないし６のいずれか１記載のマルチビームスキャ
ナによって、前記被照射体として回転駆動される感光体
上に光束が順次照射されると、マルチビームスキャナの
光学系に像面湾曲収差が存在する場合でも、複数の発光
点からの全ての光束について走査位置によることなく感
光体上で焦点を合わせることができ、良好な露光を行う
ことができる。その結果、高品質の画像を高速に形成す
ることができる。

【００９７】請求項８記載の画像形成装置によれば、前
記感光体の位置は、前記複数の発光点に対応する焦点深
度と像面湾曲とを重ね合わせた場合の略中点に配置され
ているので、コリメートレンズや走査レンズ等の光学素
子に取り付け誤差が発生した場合や、環境変動で光学素
子の屈折力が変化した場合でも、前記感光体上に焦点の
合った光束を確実に照射させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における画像形成装置の概
略構成を示す断面図である。

【図２】図１のマルチビームスキャナのコリメート部を
示す斜視図である。

【図３】図１のマルチビームスキャナの全体構成を模式
的に示す斜視図である。

【図４】図１のマルチビームスキャナにおける半導体レ
ーザーの構造及び発光点を示す斜視図である（その
１）。

【図５】図１のマルチビームスキャナにおける半導体レ
ーザーの構造及び発光点を示す斜視図である（その
２）。

【図６】図１のマルチビームスキャナにおけるビームウ
エスト断面を示す図である。

【図７】図１のマルチビームスキャナにおける像面湾曲
を説明するための図である。

【図８】（Ａ）は図１のマルチビームスキャナにおける
主走査方向のＮＡを説明するための図、（Ｂ）は図１の
マルチビームスキャナにおける副走査方向のＮＡを説明
するための図である。

【図９】図１のマルチビームスキャナにおいて波面収差
を説明するための図である。

【図１０】図１のマルチビームスキャナにおいて走査レ
ンズ側から感光体側を見た場合の像点の位置のずれを説
明する図である。

【図１１】本発明の第２の実施形態におけるマルチビー
ムスキャナの半導体レーザーの構造を示す斜視図であ
る。

【図１２】光軸に投影した発光点の隔たりを説明するた
めの図である。

【符号の説明】

１ レーザビームプリンタ ２ａ プロセスカートリッジ ４０ マルチビームスキャナ ４１ ポリゴンミラー ４２ ｆθレンズ ４５ トーリックレンズ ９０ 半導体レーザー ９２ コリメータレンズ ９３ スリット ９４ シリンドリカルレンズ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 豊 愛知県名古屋市瑞穂区苗代町15番１号 ブ ラザー工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2C362 AA45 BA56 BA58 BA86 BB14 CB59 DA04 2H045 AA01 BA22 BA23 BA32 CB02 DA02 5C072 AA03 BA15 DA02 HA02 HA06 HA13 RA11 XA01 XA05

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の発光点から光ビームを放射する発
   光素子と、該発光素子から放射された光ビームを、それ
   ぞれ偏向させて被照射体上の複数ラインを主走査させる
   と共に、該被照射体上を副走査して順次照射する走査手
   段と、前記発光素子と前記走査手段との間及び前記走査
   手段と前記被照射体との間に配置された光集束手段とを
   備え、前記発光素子と前記光集束手段と前記走査手段と
   からなる光学系が像面湾曲収差を有するマルチビームス
   キャナであって、 前記発光素子は、前記複数の発光点の位置に、深度方向
   の隔たりを設けており、 前記光学系の像側ＮＡは、前記複数の発光点に対応する
   各走査位置における焦点深度の重ね合わせの範囲が、正
   になるように設定されていることを特徴とするマルチビ
   ームスキャナ。
2. 【請求項２】 複数の発光点の位置の深度方向における
   隔たり量をΔｚ、光学系の縦倍率をα、光学系の像面湾
   曲収差量をＣ_f、光学系の残存波面収差量をＷ₀、波長を
   λ、像高をｙとすると、前記隔たり量Δｚは、 ２（λ／２ＮＡ²＋２ｙ／ＮＡ−２Ｗ₀／ＮＡ²）＞α・
   Δｚ＋Ｃ_f という関係式で、像側ＮＡと関係付けられることを特徴
   とする請求項１記載のマルチビームスキャナ。
3. 【請求項３】 前記発光素子の発光面が、前記光集束手
   段の光軸に垂直な面に対してなす角度をφ、前記発光面
   内での前記複数の発光点の隔たり量をΔｐとするとき、
   前記複数の発光点の位置の深度方向における隔たり量Δ
   ｚを、 Δｚｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφ で置き換えたことを特徴とする請求項２記載のマルチビ
   ームスキャナ。
4. 【請求項４】 複数の発光点から光ビームを放射する発
   光素子と、該発光素子から放射された光ビームを、それ
   ぞれ偏向させて被照射体上の複数ラインを主走査させる
   と共に、該被照射体上を副走査して順次照射する走査手
   段と、前記発光素子と前記走査手段との間及び前記走査
   手段と前記被照射体との間に配置された光集束手段とを
   備え、前記発光素子と前記光集束手段と前記走査手段と
   からなる光学系が像面湾曲収差を有するマルチビームス
   キャナであって、 前記発光素子は、前記複数の発光点の主走査方向に発散
   する中心位置に、深度方向の隔たりを設けており、 前記光学系の主走査像側ＮＡ_mは、前記複数の発光点に
   対応する各走査位置における焦点深度の重ね合わせの範
   囲が、正になるように設定されていることを特徴とする
   マルチビームスキャナ。
5. 【請求項５】 複数の発光点の主走査方向に発散する中
   心位置の深度方向における隔たり量をΔｚ_m、光学系の
   主走査縦倍率をα_m、光学系の主走査像面湾曲収差量を
   Ｃ_fm、光学系の残存波面収差量をＷ₀、波長をλ、像高
   をｙ_mとすると、前記隔たり量Δｚ_mは、 ２（λ／２ＮＡ_m ²＋２ｙ_m／ＮＡ_m−２Ｗ₀／ＮＡ_m ²）＞
   α_m・Δｚ_m＋Ｃ_fm という関係式で、主走査像側ＮＡ_mと関係付けられるこ
   とを特徴とする請求項４記載のマルチビームスキャナ。
6. 【請求項６】 前記発光素子の発光面が、前記光集束手
   段の光軸に垂直な面に対してなす角度をφ、前記発光面
   内での前記複数の発光点の隔たり量をΔｐとするとき、
   前記複数の発光点の主走査方向に発散する中心位置の深
   度方向における隔たり量Δｚ_mを、 Δｚ_mｃｏｓφ＋Δｐｓｉｎφ で置き換えたことを特徴とする請求項５記載のマルチビ
   ームスキャナ。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれか１記載のマ
   ルチビームスキャナと、前記被照射体として回転駆動さ
   れる感光体とを備え、該感光体上に前記光ビームを順次
   照射することにより画像を露光して形成することを特徴
   とする画像形成装置。
8. 【請求項８】 前記感光体の位置は、前記複数の発光点
   に対応する焦点深度と像面湾曲とを重ね合わせた場合の
   略中点に配置されていることを特徴とする請求項７記載
   の画像形成装置。