JP2010005829A - 光学シート及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】高い生産性を有し、多重散乱が防止され、全光線透過率が高く、光拡散機能、集光機能、屈折機能等の光学的性能が高い光学シートが製造できる光学シートの製造方法及びその製法で製造される光学シートの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸形状を有する光学シート原版を用い、光学シート原版の表面に押出ラミネート法により型用合成樹脂層を積層する第1押出ラミネート工程と、型用合成樹脂層から光学シート原版を剥離し、表面に上記凹凸形状の反転形状が転写された光学シート形成型を作成する第1剥離工程と、光学シート形成型の表面に押出ラミネート法により光学層用合成樹脂層を積層する第2押出ラミネート工程と、光学層用合成樹脂層から光学シート形成型を剥離し、表面に上記凹凸形状が転写された光学シート材を作成する第2離型工程とを有する光学シートの製造方法である。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられる光学シートの製造方法及びその製造方法で製造された光学シートに関するものである。
液晶表示装置は、液晶層を背面から照らして発光させるバックライト方式が普及し、液晶層の下面側にエッジライト型、直下型などのバックライトユニットが装備されている。かかるエッジライト型のバックライトユニット50は、基本的には図10に示すように、光源としての線状のランプ51と、ランプ51に端部が沿うように配置される方形板状の導光板52と、導光板52の表面側に配設される各種光学シートとを備えている。かかる光学シートとしては、例えば導光板52の表面側に配設される光拡散シート53や、光拡散シート53の表面側に配設されるプリズムシート54などが該当する。
このバックライトユニット50の機能を説明すると、まずランプ51より導光板52に入射した光線は、導光板52裏面の反射ドット又は反射シート(図示していない)で反射され、導光板52の表面から出射される。導光板52から出射した光線は光拡散シート53に入射し、光拡散シート53で拡散され、光拡散シート53表面より出射される。その後、光拡散シート53から出射された光線は、プリズムシート54に入射し、プリズムシート54表面に形成されたプリズム部54aによって略法線方向にピークを示す分布の光線として出射される。
このように、ランプ51から出射された光線が、光拡散シート53によって拡散され、またプリズムシート54によって略法線方向にピークを示すように屈折され、さらに表面側の液晶層(図示していない)全面を照明するものである。なお、図示していないが、上述のプリズムシート54の集光特性の緩和やプリズム部54aの保護又は偏光板等の液晶パネルとプリズムシート54とのスティッキングの防止を目的として、プリズムシート54の表面側にさらに光学シートが配設されている。
上記バックライトユニット50に備える光拡散シート53としては、一般的には(a)合成樹脂製の透明な基材層の表面にビーズを塗工するビーズ塗工タイプの光拡散シート(例えば特開平7−5305号公報、特開2000−89007公報等参照)や、(b)凹凸形状を有する金型を用い、合成樹脂製の透明な基材層の表面にその凹凸形状を転写してなるエンボスタイプの光拡散シート(例えば特開2006−47608号公報、特開2006−335028号公報等参照)が使用されている。かかる光拡散シートは、表面の微細な凹凸形状により光拡散機能が奏される。
上記ビーズ塗工タイプの従来の光拡散シートは、拡散性の発現にバインダー58中のビーズ59による屈折や反射を利用しているため、多重散乱現象が生じてしまい、出光量のロスが避けられない。また、ビーズ塗工タイプの光拡散シートは、合成樹脂、ビーズ、溶剤等を含有する塗工液を基材層にコーティングし、乾燥させて光拡散層を形成するため、溶剤を飛ばす必要があり、加工スピードに一定の制限がある。
プレス成形による上記エンボスタイプの従来の光拡散シートは、回分式のため生産性が低く、あまり薄くすることができないという不都合がある。また、エンボスロールを用いた押出成型による上記エンボスタイプの光拡散シートは、精密な凹凸形状を付与することが困難であり、光学的性能に劣るという不都合がある。
特開平7−5305号公報 特開2000−89007公報 特開2006−47608号公報 特開2006−335028号公報
本発明はこれらの不都合に鑑みてなされたものであり、高い生産性を有し、かつ、多重散乱が防止され、全光線透過率が高く、光拡散機能、集光機能、法線方向への屈折機能等の光学的性能が高い光学シートが製造できる光学シートの製造方法及びその製造方法により製造される光学シートの提供を目的とするものである。
上記課題を解決するためになされた発明は、
表面に微細な凹凸形状を有する光学シートと同形の光学シート原版を用い、この光学シート原版の表面に押出ラミネート法により型用合成樹脂層を積層する第1押出ラミネート工程と、
上記型用合成樹脂層から光学シート原版を剥離し、表面に上記微細な凹凸形状の反転形状が転写された光学シート形成型を作成する第1剥離工程と、
上記光学シート形成型の表面に押出ラミネート法により光学層用合成樹脂層を積層する第2押出ラミネート工程と、
上記光学層用合成樹脂層から光学シート形成型を剥離し、表面に上記微細な凹凸形状が転写された光学シート材を作成する第2離型工程と
を有する光学シートの製造方法である。
当該光学シートの製造方法によれば、第1押出ラミネート工程及び第1剥離工程により光学シートと同形の光学シート原版の表面形状を転写した光学シート形成型を作成し、第2押出ラミネート工程及び第2剥離工程により光学シート形成型の表面形状を転写した光学シート材を作成することができる。そのため、当該光学シートの製造方法によれば、押出ラミネート法により表面に微細な凹凸形状を有する光学シートと同形の光学シート原版の表面形状を忠実に転写し、光拡散機能等の光学的性能が高い光学シート材を生産性よく製造することができる。また、当該光学シートの製造方法によれば、光学層用合成樹脂層がビーズ等の光拡散剤を含まないため、多重散乱が防止され、全光線透過率の高い光学シート材を製造することができる。
上記第1押出ラミネート工程において、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート原版と型用基材シートとの間に型用合成樹脂層を積層するとよい。このように、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート原版と型用基材シートとの間に型用合成樹脂層を積層し、光学シート形成型を型用基材シートと型用合成樹脂層とから構成することで、型用基材シートにより光学シート形成型の強度が確保され、型用合成樹脂層を構成する合成樹脂を光学シート原版の表面形状の転写性や、耐熱性、光学層用合成樹脂層との剥離性等を主眼に選定することができ、生産される光学シート材の表面形状の精密付型性や光学シート形成型の長寿命化に寄与する。
また、上記第2押出ラミネート工程において、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート形成型と光学シート用基材フィルムとの間に光学層用合成樹脂層を積層するとよい。このように、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート形成型と光学シート用基材フィルムとの間に光学層用合成樹脂層を積層し、光学シート材を光学シート用基材フィルムと光学層用合成樹脂層とから構成することで、光学シート用基材フィルムにより光学シート材の強度が確保され、光学層用合成樹脂層を構成する合成樹脂を光学シート形成型の表面形状の転写性や、透明性、光学シート形成型との剥離性等を主眼に選定することができ、生産される光学シート材の光線透過性、光学的性能等の向上に寄与する。
上記第2剥離工程後に、得られた光学シート材を所定サイズに裁断する裁断工程を有するとよい。当該光学シートの製造方法によれば、長尺の光学シート材を連続して製造することができるため、第2剥離工程後に裁断工程を有することで、目的の液晶表示装置に適合した光学シートを効率よく製造することができ、光学シート材の巻き取りに起因するカール、基材フィルムとの剥離等の発生を抑制することができる。
上記第2押出ラミネート工程において、光学シート形成型を無端ベルト状に形成し、この光学シート形成型を押出ラミネート法に用いる一対の押圧ロールの一方に架け渡し、この光学シート形成型を一対の押圧ロール間に連続的に供給しつつ光学シート形成型の表面に光学層用合成樹脂層を積層するとよい。このように、光学シート形成型を無端ベルト状に形成し、この無端ベルト状の光学シート形成型を一対の押圧ロールの一方に架け渡し、一対の押圧ロール間に連続的に供給することで、所定長さの光学シート形成型により光学シート材を連続的に製造することができる。
上記型用合成樹脂層は、主成分としてエンジニアリングプラスチックを含むとよい。かかるエンジニアリングプラスチックは機械的強度や耐熱性に優れるため、当該手段のように型用合成樹脂層の主成分としてエンジニアリングプラスチックを含有することで、光学シート形成型の強度、耐熱性、離型性等が向上する結果、得られる光学シートの精密付型性が促進され、かつ使用可能回数の増加により生産性及び製造コストの低廉化が促進される。
上記光学層用合成樹脂層は、主成分として非晶質ポリマー又はオレフィン系ポリマーを含むとよい。かかる非晶質ポリマーは透明性、付型性等に優れるため、当該手段のように光学層用合成樹脂層の主成分として非晶質ポリマーを含有することで、光学層用合成樹脂層の透明性、光学シート形成型の表面形状の転写性等が向上する結果、高い光線透過率及び光拡散機能等の光学的性能を有する光学シート材を製造することができる。また、オレフィン系ポリマーは低温溶融性、溶融状態での流動性等に優れるため、第2押出ラミネート工程での光学シート形成型表面への溶融合成樹脂の追従性に優れ、光学シート形成型の表面形状の転写性等が向上する結果、高い光拡散機能等の光学的性能を有する光学シート材を製造することができる。
従って、当該光学シートの製造方法により製造された光学シートは、廉価性を有し、かつ優れた全光線透過率や光拡散機能、集光機能、法線方向への屈折機能等の光学的性能を有している。
ここで、「押出ラミネート法」とは、溶融状態の合成樹脂を押し出して直接シート上に合成樹脂層(合成樹脂被膜)を積層する周知の積層加工法であり、一般的には押出機、Tダイ、一対の押出ロール、繰出機、巻取機等を備える押出ラミネート装置が用いられる。
以上説明したように、本発明の光学シートの製造方法は、高い生産性を有し、かつ、多重散乱が防止され、全光線透過率が高く、光拡散機能、集光機能、法線方向への屈折機能等の光学的性能が高い光学シートが製造できる。また本発明の光学シートは、上述のように優れた廉価性、光線透過性及び光学的性能を有するため、品位及び低コスト化、薄型化等を促進することができ、液晶表示装置等に好適に使用される。
以下、適宜図面を参照しつつ本発明の実施の形態を詳説する。図1は本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を示すフロー図、図2は図1の光学シートの製造方法の第1押出ラミネート工程及び第1剥離工程を実施する装置を示す模式図、図3は図1の光学シートの製造方法の第2押出ラミネート工程及び第2剥離工程を実施する押出ラミネート装置を示す模式図、図4は図3の押出ラミネート装置とは異なる形態に係る第2押出ラミネート工程及び第2剥離工程を実施する押出ラミネート装置を示す模式図、図5は図1の光学シートの製造方法で用いる光学シート原版を示す模式的断面図、図6は図1の光学シートの製造方法の第1押出ラミネート工程で得られた積層体を示す模式的断面図、図7は図1の光学シートの製造方法の第1剥離工程で得られた光学シート形成型を示す模式的断面図、図8は図1の光学シートの製造方法の第2押出ラミネート工程で得られた積層体を示す模式的断面図、図9は図1の光学シートの製造方法で得られた光学シート材を示す模式的断面図である。
図1の光学シートの製造方法は、第1押出ラミネート工程(STP1)、第1剥離工程(STP2)、第2押出ラミネート工程(STP3)及び第2剥離工程(STP4)を有している。
第1押出ラミネート工程(STP1)は、図5に示す光学シート原版1を用い、この光学シート原版1の表面に押出ラミネート法によって型用合成樹脂層7を積層する工程である。この第1押出ラミネート工程(STP1)は、詳細には、図6に示すようにサンドイッチ押出ラミネート法により光学シート原版1と型用基材シート8との間に型用合成樹脂層7を積層する工程である。
光学シート原版1は、長尺の帯状体であり、透過光線を拡散させる光拡散機能を有する光拡散シートと同様の形状及び構造を備えている。具体的には、光学シート原版1は、図5に示すように原版用基材フィルム2と、この原版用基材フィルム2の表面に積層される原版用光学層3とを備え、表面に微細な凹凸形状6を有している。
原版用基材フィルム2は、合成樹脂から形成されており、光線の透過性は必要ないので透明でなくてもよい。この原版用基材フィルム2の形成材料としては、特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーなどが挙げられる。
この原版用基材フィルム2の形成材料としては、上記ポリマーを1種又は2種以上混合して使用することができる。また、原版用基材フィルム2の形成材料中には、加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性等を改良、改質する目的で、種々の添加剤等を混合することができる。この添加剤としては、例えば滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、充填剤、強化繊維、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、フィラー、可塑剤、劣化防止剤、分散剤等が挙げられる。
この原版用基材フィルム2の平均厚さとしては、30μm以上400μm以下が好ましく、50μm以上250μm以下が特に好ましい。原版用基材フィルム2の平均厚さが上記範囲未満であると、強度が不足し、取扱いが困難になる。逆に、原版用基材フィルム2の平均厚さが上記範囲を超えると、巻き取り等の取扱いが困難になる。
原版用光学層3は、原版用基材フィルム2の表面に略均一かつ緻密に敷設される光拡散剤4と、その光拡散剤4を固定するバインダー5とを備えている。かかる光拡散剤4によって原版用光学層3の表面に微細な凸部が略均一かつ略緻密に形成されている。このように表面に形成される微細な凹凸形状のレンズ的屈折作用により、光線をより良く拡散させることができる。原版用光学層3の平均厚みは、特には限定されないが、例えば1μm以上100μm以下程度とされている。
光拡散剤4は、無機フィラーと有機フィラーに大別される。無機フィラーとしては、具体的には、ガラス、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、硫化バリウム、マグネシウムシリケート、又はこれらの混合物を用いることができる。有機フィラーの具体的な材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド等を用いることができる。これらの中でも、耐熱性が高く、第1押出ラミネート工程(STP1)に十分耐えうるガラスが好ましい。
光拡散剤4の形状としては、特に限定されるものではなく、例えば球状、立方状、紡錘形状、針状、棒状、板状、鱗片状、繊維状などが挙げられ、中でも表面にレンズ状の凹凸形状6が形成され、高い光学的機能を有する光学シート材13が製造できる球状のビーズが好ましい。
光拡散剤4の平均粒子径の下限としては、1μm、特に2μm、さらに5μmが好ましく、光拡散剤4の平均粒子径の上限としては、90μm、特に70μm、さらに15μmが好ましい。光拡散剤4の平均粒子径が上記範囲未満であると、光拡散剤4によって形成される原版用光学層3表面の凹凸形状6が小さくなり、得られる光学シート材13の光拡散性が低下するおそれがあり、逆に、光拡散剤4の平均粒子径が上記範囲を越えると、光学シート材13の厚さが増大し、かつ、均一な拡散が困難になる。
光拡散剤4の配合量(バインダー5の形成材料であるポリマー組成物中の基材ポリマー100部に対する固形分換算の配合量)の下限としては10部、特に20部、さらに50部が好ましく、この配合量の上限としては500部、特に300部、さらに200部が好ましい。これは、光拡散剤4の配合量が上記範囲未満であると、得られる光学シート材13の光拡散性が不十分となってしまい、一方、光拡散剤4の配合量が上記範囲を越えると光拡散剤4を固定する効果が低下することからである。なお、プリズムシートの表面側に配設される所謂上用光拡散シートの場合、高い光拡散性を必要とされないため、光拡散剤4の配合量としては10部以上40部以下、特に10部以上30部以下が好ましい。
バインダー5は、基材ポリマーを含むポリマー組成物を架橋硬化させることで形成される。このバインダー5によって原版用基材フィルム2の表面全面に光拡散剤4が略等密度に配置固定される。
上記基材ポリマーとしては、特に限定されるものではなく、例えばアクリル系樹脂、ポリウレタン、ポリエステル、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミドイミド、エポキシ樹脂、紫外線硬化型樹脂等が挙げられ、これらのポリマーを1種又は2種以上混合して使用することができる。特に、上記基材ポリマーとしては、加工性が高く、塗工等の手段で容易に原版用光学層3を形成することができるポリオールが好ましい。またバインダー5に用いられる基材ポリマーは、光線を透過させる必要がないため、透明である必要はない。
なお、このバインダー5を形成するためのポリマー組成物は、基材ポリマーの他に例えば、微小無機充填剤、硬化剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、光安定化剤等が適宜配合されてもよい。
光学シート原版1(原版用光学層3)表面の算術平均粗さ(Ra)の下限としては、0.2μmが好ましく、0.4μmが特に好ましい。一方、この算術平均粗さ(Ra)の上限としては、20μmが好ましく、15μmが特に好ましい。光学シート原版1表面の算術平均粗さ(Ra)が上記下限未満であると、得られる光学シート材13表面の微細凹凸形状6が小さくなり、光拡散シートとして必要な光拡散性を満たさないおそれがある。逆に、光学シート原版1表面の算術平均粗さ(Ra)が上記上限を越えると、液晶表示装置の画面のギラツキが発生し、品位が低下するおそれがある。
型用合成樹脂層7は、押出ラミネート可能な合成樹脂から形成されており、光学シート原版1の表面形状の転写性、光学シート原版1からの離型性、第2押出ラミネート工程(STP3)での光学シート形成型9の使用可能回数等を考慮して選定される。この型用合成樹脂層7に用いられる合成樹脂としては、例えばポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、エンジニアリングプラスチック等が挙げられる。これらの合成樹脂の中でも、強度、押出ラミネート工程(STP3)における光学シート形成型9の使用可能回数、離型性、光学シート原版1の表面形状の転写性等に優れるエンジニアリングプラスチックが好ましく、離型性、安価性等に優れるポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)も好ましい。
このエンジニアリングプラスチックとしては、例えばポリカーボネート(PC)、シンクロオレフィンコポリマー(COC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)、ポリアセタール(POM)、ポリアミド(PA)、フッ素樹脂、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルフォン(PSU)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、スチレンブタジエンコポリマー(SBC)、4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物等が挙げられる。これらの合成樹脂の中でも、強度、押出ラミネート工程(STP3)における光学シート形成型9の使用可能回数、離型性、光学シート原版1の表面形状の転写性等が格段に優れる4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物が特に好ましい。
この4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物とは、下記構造式(1)で示されるものである。
Figure 2010005829
上記構造式(1)において、Rは、炭素数が8以上16以下の飽和炭化水素であるが、炭素数が10以上12以下の飽和炭化水素が特に好ましい。このように、Rが上記範囲の炭素数の飽和炭化水素の場合、4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物が押出ラミネートの際に適度な流動性を有し、光学シート原版1の表面形状の転写性が良好になる。
型用合成樹脂層7を形成する合成樹脂のメルトフローレート(MFR)としては、50g/10分以上150g/10分が好ましく、80g/10分以上120g/10分以下が特に好ましい。ここで、「メルトフローレート(MFR)」とは、JIS−K−7210−1995に従って測定される値であり、260℃、5kgfの条件で測定されたものである。メルトフローレート(MFR)が上記範囲より小さいと、光学シート原版1の表面形状の転写性が低下するおそれがあり、逆に、メルトフローレート(MFR)が上記範囲を超えると、押出ラミネート工程の際に幅方向の均一性及び光学シート原版1の表面形状の転写性が低下するおそれがある。
なお、型用合成樹脂層7には、上記合成樹脂を2種以上混合して配合されてもよく、その他に例えば微小無機充填剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、光安定化剤等が適宜配合されてもよい。
型用基材シート8は、合成樹脂フィルム、紙素材、不織布等が用いられる。中でも、紙素材及び不織布は、耐熱性が高く、かつある程度の通気性を有しているため、上記押出ラミネート法による型用合成樹脂層7の積層及び転写性の向上に寄与する。この合成樹脂フィルムとしては、上記原版用基材フィルム2と同様のものが使用される。この型用基材シート8に使用される紙素材としては、例えば未晒クラフト紙、晒クラフト紙、上質紙、中質紙、片艶未晒クラフト紙、純白ロール、グラシン紙、感熱紙、感圧紙、合成紙、和紙、トレーシングペーパー、各種コート紙、板紙、ライナー紙等が挙げられる。
第1剥離工程(STP2)は、型用合成樹脂層7から光学シート原版1を剥離し、図7に示す光学シート形成型9を作成する工程である。つまり、この第1剥離工程(STP2)は、第1押出ラミネート工程(STP1)で得られた図6に示す積層体から光学シート原版1を剥離する工程である。この第1剥離工程(STP2)で得られた光学シート形成型9は、表面に上記光学シート原版1の表面の微細な凹凸形状6の反転形状である微細な凹凸形状10が転写されている。
第1押出ラミネート工程(STP1)及び第1剥離工程(STP2)は、図2に示す押出ラミネート装置により実施される。この押出ラミネート装置は、主に押出機及びTダイ15、一対の押圧ロール16、第1繰出機17、第2繰出機18、剥離ロール19、第1巻取機20、第2巻取機21等を備えている。この一対の押圧ロール16は隣接して平行に配設され、押出機及びTダイ15は一対の押圧ロール16のニップに溶融状態の合成樹脂をシート状に押し出し可能に構成されている。この一対の押圧ロール16は、温度制御手段が設けられ、表面温度を押出ラミネートに最適な温度に制御可能に構成されている。
かかる構造の押出ラミネート装置を用い、まず第2繰出機18から型用基材シート8を一方の押圧ロール16に連続的に繰り出し、第1繰出機17から光学シート原版1を他方の押圧ロール16に光学シート原版1の表面(微細な凹凸形状6を有する面)を型用基材シート8側に向けた状態で連続的に繰り出す。このように連続的に繰り出された光学シート原版1と型用基材シート8との間に押出機及びTダイ15により溶融状態の型用合成樹脂を押し出し、一対の押圧ロール16で圧着し、型用合成樹脂層7を硬化させ、図6に示すような光学シート原版1、型用合成樹脂層7及び型用基材シート8からなる積層体を作成する。なお、Tダイ15から押し出す型用合成樹脂の溶融温度は、使用される合成樹脂の融点等を考慮して適宜選定される。
その後、この積層体を剥離ロール19により光学シート原版1と図7に示すような型用基材シート8及び型用合成樹脂層7からなる光学シート形成型9とに剥離し、第1巻取機20に光学シート形成型9を巻き取り、第2巻取機に光学シート原版1を巻き取る。このようにして、光学シート原版1の表面形状が表面に転写された長尺帯状の光学シート形成型9を作成することができる。
第2押出ラミネート工程(STP3)は、光学シート形成型9の表面に押出ラミネート法により光学層用合成樹脂層11を積層する工程である。この第2押出ラミネート工程(STP3)は、詳細には、図8に示すようにサンドイッチ押出ラミネート法により光学シート形成型9と光学シート用基材フィルム12との間に光学層用合成樹脂層11を積層する工程である。
光学層用合成樹脂層11は、光線を透過させる必要があるので透明(特に無色透明)でかつ押出ラミネート可能な合成樹脂から形成されており、光学シート形成型9の表面形状の転写性、光学シート形成型9からの離型性、透明性等を考慮して選定される。この光学層用合成樹脂層11に用いられる合成樹脂としては、例えばポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、アクリル系樹脂(PMMA)、シンクロオレフィンコポリマー(COC)、シンクロオレフィンポリマー(COP)、ポリカーボネート(PC)、4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリサルフォン(PSU)、スチレンブタジエンコポリマー(SBC)等が挙げられる。
これらの合成樹脂の中でも、特に光学的に複屈折の少ない非晶質ポリマー又は低温溶融性、溶融状態での流動性、廉価性、剥離性等に優れるオレフィン系ポリマーが好適に用いられる。このように非晶質ポリマーを用いると、光学層用合成樹脂層11のリタデーション値を小さい範囲に制御することが容易かつ確実になり、また光学層用合成樹脂層11の透明性、強度、耐熱性等を向上することができる。また、オレフィン系ポリマーを用いると、第2押出ラミネート工程(STP3)での光学シート形成型9の表面への溶融樹脂の追従性に優れ、光学シート形成型9の表面形状の転写性等が向上する。
かかる非晶質ポリマーとしては、シンクロオレフィンコポリマー(COC)、シンクロオレフィンポリマー(COP)、ポリカーボネート(PC)及びアクリル系樹脂(PMMA)が好ましい。
また、オレフィン系ポリマーとしては、オレフィンの単独重合体又はオレフィンを構成単位として含む共重合体が挙げられる。オレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、4−メチルー1−ブテン、1−ペンテン、3−メチルー1−ペンテン、4−メチルー1−ペンテン等の炭素数2〜10程度のα−オレフィンや、イソブテン等の他のオレフィンが例示される。これらのオレフィンは一種又は二種以上用いることができる。このオレフィン系ポリマーは、結晶性が損なわれない範囲で、環状オレフィン、エチレン性不飽和カルボン酸又はその酸無水物若しくはそのエステルなどの共重合性ビニルモノマーとの共重合体であってもよい。かかるオレフィン系ポリマーとしては、特に炭素数2〜4程度のα−オレフィンの単独又は共重合体、例えばポリエチレン、ポリプロピレン(アイソタクチックポリプロピレン等)、エチレン−ポリプロピレン共重合体等が好ましく、低温溶融性及び溶融状態での流動性及び型への追従性に優れるポリプロピレンが特に好ましい。このオレフィン系ポリマーのメルトインデックスは、フィルム成形時の溶融押出温度において、通常0.1〜100g/10分、好ましくは0.5〜50g/10分程度である。
なお、光学層用合成樹脂層11には、上記合成樹脂を2種以上混合して配合されてもよく、その他に例えば微小無機充填剤、硬化剤、可塑剤、分散剤、各種レベリング剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、粘性改質剤、潤滑剤、光安定化剤等が適宜配合されてもよい。
光学シート用基材フィルム12は、合成樹脂から形成されており、上記原版用基材フィルム2と同様のものが使用される。但し、当該光学シート用基材フィルム12は、光線を透過させる必要があるので透明、特に無色透明の合成樹脂から形成されている。
第2剥離工程(STP4)は、光学層用合成樹脂層11から光学シート形成型9を剥離し、図9に示す光学シート材13を作成する工程である。つまり、この第2剥離工程(STP4)は、第2押出ラミネート工程(STP3)で得られた図8に示す積層体から光学シート形成型9を剥離する工程である。この第2剥離工程(STP4)で得られた光学シート材13は、表面に光学シート形成型9の表面の微細な凹凸形状10の反転形状、つまり光学シート原版1の表面の微細な凹凸形状6が転写されている。
第2押出ラミネート工程(STP3)及び第2剥離工程(STP4)は、図3に示す押出ラミネート装置により実施される。この押出ラミネート装置は、上述の第1押出ラミネート工程(STP1)及び第1剥離工程(STP2)を実施する押出ラミネート装置と同様のものである。
かかる構造の押出ラミネート装置を用い、まず第2繰出機18から光学シート用基材フィルム12を一方の押圧ロール16に連続的に繰り出し、第1繰出機17から光学シート形成型9を他方の押圧ロール16に光学シート形成型9の表面(微細な凹凸形状10を有する面)を光学シート用基材フィルム12側に向けた状態で連続的に繰り出す。このように連続的に繰り出された光学シート形成型9と光学シート用基材フィルム12との間に押出機及びTダイ15により溶融状態の型用合成樹脂を押し出し、一対の押圧ロール16で圧着し、光学層用合成樹脂層11を硬化させ、図8に示す光学シート形成型9、光学層用合成樹脂層11及び光学シート用基材フィルム12からなる積層体を作成する。
その後、この積層体を剥離ロール19により光学シート形成型9と図9に示すような光学シート用基材フィルム12及び光学層用合成樹脂層11からなる光学シート材13とに剥離し、第1巻取機20に光学シート材13を巻き取り、第2巻取機に光学シート形成型9を巻き取る。このようにして、光学シート形成型9の表面形状が表面に転写され、光学シート原版1と同様の表面形状を有する長尺帯状の光学シート材13を作成することができる。
また、第2押出ラミネート工程(STP3)及び第2剥離工程(STP4)は、図4に示す押出ラミネート装置によっても実施される。この押出ラミネート装置は、主に押出機及びTダイ15、一対の押圧ロール16、第2繰出機18、剥離ロール19、第1巻取機20、張力調整ロール22、接触距離調整ロール23等を備えている。当該押出ラミネート装置は、光学シート形成型9を無端ベルト状に形成し、この光学シート形成型9が一対の押圧ロール16の一方と張力調整ロール22と接触距離調整ロール23とに架け渡されている。
かかる構造の押出ラミネート装置を用い、まず第2繰出機18から光学シート用基材フィルム12を一方の押圧ロール16に連続的に繰り出し、他方の押圧ロール16には無端ベルト状の光学シート形成型9を回転して連続的に繰り出す。このように連続的に繰り出された光学シート形成型9と光学シート用基材フィルム12との間に押出機及びTダイ15により溶融状態の型用合成樹脂を押し出し、上記押出ラミネート装置と同様に光学シート形成型9、光学層用合成樹脂層11及び光学シート用基材フィルム12からなる積層体を作成し、剥離ロール19により光学シート形成型9から光学シート材13を剥離し、第1巻取機20に光学シート材13を巻き取ることで、長尺帯状の光学シート材13を作成することができる。
なお、当該光学シートの製造方法は、第2剥離工程(STP4)後に、得られた光学シート材13を所定サイズに裁断する裁断工程を有するとよい。この裁断工程における光学シート材13の裁断方法としては、所定の形状に裁断できれば特に限定されず、通常は打抜プレス等が採用される。当該光学シートの製造方法によれば、長尺の光学シート材13を連続して製造することができるため、第2剥離工程(STP4)後に裁断工程を有することで、目的の液晶表示装置に適合した光学シートを効率よく製造することができ、光学シート材の巻き取りに起因するカール、基材フィルムとの剥離等の発生を抑制することができる。
当該光学シートの製造方法によれば、第1押出ラミネート工程(STP1)及び第1剥離工程(STP2)により光学シートと同形の光学シート原版1の表面形状を転写した光学シート形成型9を作成し、第2押出ラミネート工程(STP3)及び第2剥離工程(STP4)により光学シート形成型9の表面形状を転写した光学シート材13を作成することができる。そのため、当該光学シートの製造方法によれば、2回の押出ラミネート法により表面に微細な凹凸形状を有する光学シートと同形の光学シート原版1の表面形状を忠実に転写し、光拡散機能等の光学的性能が高い光学シート材13を生産性よく製造することができる。また、当該光学シートの製造方法によれば、光学層用合成樹脂層11がビーズ等の光拡散剤を含まないため、多重散乱が防止され、全光線透過率の高い光学シート材13を製造することができる。
従って、当該光学シートの製造方法により製造された光学シートは、廉価性を有し、かつ優れた全光線透過率や光拡散機能、集光機能、法線方向への屈折機能等の光学的性能を有している。そのため、当該光学シートの製造方法により製造された光学シートは、液晶表示装置に好適に使用され、液晶表示装置の品位を向上することができる。
なお、本発明の光学シート及びその製造方法は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、第2押出ラミネート工程(STP3)において、光学シート用基材フィルムを用いず、光学シート形成型の表面に光学層用合成樹脂層のみを積層することも可能である。つまり、当該光学シートの製造方法は、光学層用合成樹脂層のみから構成される光学シート材を製造することも可能である。その場合、光学層用合成樹脂層が接触する押圧ロールの表面に微細な凹凸形状を形成しておき、得られた光学シート材の裏面に微細な凹凸形状を転写することも可能である。
同様に、第1押出ラミネート工程(STP1)において、型用基材シートを用いず、光学シート原版の表面に型用合成樹脂層のみを積層することも可能である。つまり、当該光学シートの製造方法は、光学シート形成型を型用合成樹脂層のみから構成することも可能である。
また、第1押出ラミネート工程(STP1)及び/又は第2押出ラミネート工程(STP3)において、2種の合成樹脂の共押出により多層の合成樹脂層を積層することも可能である。これらの押出ラミネート工程で得られる光学シート形成型及び/又は光学シート材には、例えばアンカーコート層、紫外線吸収剤層、トップコート層、ハードコート層、帯電防止剤層、プライマー処理層、ガスバリヤー層、導電層、スティッキング防止層等の他の層が積層されてもよい。
さらに、光学シート原版は、上記ビーズ塗工タイプの光拡散シートと同様のものに限定されるものではなく、例えば
(a)表面に複数の半球状マイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズシート、
(b)表面に複数の三角柱状のプリズム部をストライプ状に有するプリズムシート、
(c)表面に複数の半円柱状のシリンドリカルレンズ部をストライプ状に有するレンチキュラーレンズシート、
(d)表面にレンズの曲率だけを並べたフレネルレンズシート
などと同様の形状を有するものも可能であり、かかるマイクロレンズシート、プリズムシート、レンチキュラーレンズシート、フレネルレンズシート等を製造することができる。
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
[実施例]
アクリルポリオール(新中村化学工業(株)社の「NKエステル」;固形分50%)100部、イソシアネート(日本ポリウレタン工業(株)社の「コロネートHL」;固形分75%)16部、メチルエチルケトン105部及びトルエン105部からなるポリマー組成物中に、平均粒子径12μmのアクリルビーズ(積水化成品工業(株)社の「MBX−12」)130部を混合して光学層用塗工液を作製し、この光学層用塗工液を厚さ188μmの透明ポリエチレンテレフタレート製の原版用基材フィルムの表面に11g/m(固形分換算)塗工することで光学シート原版を得た。
この光学シート原版と型用基材シートとしての紙素材とを用い、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート原版の表面と紙素材との間に4−メチル−1−ペンテン・α−オレフィン共重合物からなる型用合成樹脂層を積層し、この積層体から光学シート原版を剥離することで光学シート形成型を作成した。
この光学シート形成型を用い、押出ラミネート法により光学シート形成型の表面に透明ポリプロピレンからなる光学層用合成樹脂層を積層し、この光学層用合成樹脂層から光学シート形成型を剥離することで光学シート原版表面の微細な凹凸形状が転写された光学シート材を作成した。
[特性の評価]
上記実施例で作成した光学シート原版と光学シート材を用い、これらのヘイズ値、全光線透過率(Tt)、拡散光線透過率(Td)及び平行光線透過率(Tp)を測定した。かかるヘイズ値等は、JIS−K7361、JIS−K7136に規定されるダブルビーム法に準じ、スガ試験機株式会社製のヘイズメーターにより測定した。その結果を下記表1に示す。
Figure 2010005829
上記表1に示すように、2回の押出ラミネート法による本発明の製造方法で製造された光学シート材は、光学シート原版と同程度の優れた光拡散機能を有し、加えて光学シート原版よりも高い光線透過性を有している。この結果から、当該光学シートの製造方法によれば、光学シート原版の表面の微細な凹凸形状が精度よく転写された光学シート材が製造されており、この光学シート材が光学層の内部に光拡散剤を含有しないため、光拡散性と光線透過性とが共に向上していると考えられる。
以上のように、本発明の製造方法で得られる光学シートは、液晶表示装置の構成要素として有用であり、特に透過型液晶表示装置に用いるのに適している。
本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を示すフロー図 図1の光学シートの製造方法の第1押出ラミネート工程及び第1剥離工程を実施する装置を示す模式図 図1の光学シートの製造方法の第2押出ラミネート工程及び第2剥離工程を実施する装置を示す模式図 図3の押出ラミネート装置とは異なる形態に係る第2押出ラミネート工程及び第2剥離工程を実施する押出ラミネート装置を示す模式図 図1の光学シートの製造方法で用いる光学シート原版を示す模式的断面図 図1の光学シートの製造方法の第1押出ラミネート工程で得られた積層体を示す模式的断面図 図1の光学シートの製造方法の第1剥離工程で得られた光学シート形成型を示す模式的断面図 図1の光学シートの製造方法の第2押出ラミネート工程で得られた積層体を示す模式的断面図 図1の光学シートの製造方法で得られた光学シート材を示す模式的断面図 一般的なエッジライト型バックライトユニットを示す模式的斜視図
符号の説明
1 光学シート原版
2 原版用基材フィルム
3 原版用光学層
4 光拡散剤
5 バインダー
6 凹凸形状
7 型用合成樹脂層
8 型用基材シート
9 光学シート形成型
10 凹凸形状
11 光学層用合成樹脂層
12 光学シート用基材フィルム
13 光学シート材
15 押出機及びTダイ
16 一対の押圧ロール
17 繰出機
18 繰出機
19 剥離ロール
20 巻取機
21 巻取機
22 張力調整ロール
23 接触距離調整ロール

Claims (8)

  1. 表面に微細な凹凸形状を有する光学シートと同形の光学シート原版を用い、この光学シート原版の表面に押出ラミネート法により型用合成樹脂層を積層する第1押出ラミネート工程と、
    上記型用合成樹脂層から光学シート原版を剥離し、表面に上記微細な凹凸形状の反転形状が転写された光学シート形成型を作成する第1剥離工程と、
    上記光学シート形成型の表面に押出ラミネート法により光学層用合成樹脂層を積層する第2押出ラミネート工程と、
    上記光学層用合成樹脂層から光学シート形成型を剥離し、表面に上記微細な凹凸形状が転写された光学シート材を作成する第2離型工程と
    を有する光学シートの製造方法。
  2. 上記第1押出ラミネート工程において、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート原版と型用基材シートとの間に型用合成樹脂層を積層する請求項1に記載の光学シートの製造方法。
  3. 上記第2押出ラミネート工程において、サンドイッチ押出ラミネート法により光学シート形成型と光学シート用基材フィルムとの間に光学層用合成樹脂層を積層する請求項1又は請求項2に記載の光学シートの製造方法。
  4. 上記第2剥離工程後に、光学シート材を所定サイズに裁断する裁断工程を有している請求項1、請求項2又は請求項3に記載の光学シートの製造方法。
  5. 上記第2押出ラミネート工程において、光学シート形成型を無端ベルト状に形成し、この光学シート形成型を押出ラミネート法に用いる一対の押圧ロールの一方に架け渡し、この光学シート形成型を一対の押圧ロール間に連続的に供給しつつ光学シート形成型の表面に光学層用合成樹脂層を積層する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学シートの製造方法。
  6. 上記型用合成樹脂層が、主成分としてエンジニアリングプラスチックを含んでいる請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学シートの製造方法。
  7. 上記光学層用合成樹脂層が、主成分として非晶質ポリマー又はオレフィン系ポリマーを含んでいる請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学シートの製造方法。
  8. 請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学シートの製造方法により製造された光学シート。
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