JP2010005546A

JP2010005546A - 塗布装置

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Publication number: JP2010005546A
Application number: JP2008168275A
Authority: JP
Inventors: Manabu Kamatani; 学釜谷; Satoru Uchiyama; 悟内山
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2008-06-27
Filing date: 2008-06-27
Publication date: 2010-01-14
Anticipated expiration: 2028-06-27
Also published as: JP5246857B2

Abstract

【課題】ローラに撓み変形が生じる場合であっても、塗布ユニットを十分に初期化することができる予備塗布装置を備える塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、一方向に延びるとともに塗布液を吐出するスリットを有する塗布ユニットと、この塗布ユニットを初期化する予備塗布装置とを備え、前記予備塗布装置により初期化された塗布ユニットが、ステージ上の基板に対して相対的に移動しつつ前記スリットから塗布液を吐出することにより基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記予備塗布装置は、一方向に延びるとともに前記スリットから吐出される塗布液を付着させるローラを有しており、このローラは、ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差する状態で配置されるように構成する。
【選択図】図３

Description

本発明は、ステージに載置された基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス等で形成された基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたものが使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。

この塗布装置は、基板が載置されるステージと、塗布液が吐出される塗布ユニットを備えており、塗布ユニットのスリットから塗布液を吐出させながら塗布ユニットを移動させることにより、基板上に均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。

このような塗布装置は、下記特許文献１に示されるように、基板上に塗布（基板上への塗布を本塗布という）を行う前には、塗布ユニットを本塗布に適した状態にするため、塗布ユニットを初期化する予備塗布装置を備えている。この予備塗布装置は、一方向に延びるローラが回転可能に支持されており、ローラの延びる方向と塗布ユニットのスリットの延びる方向とが平行になるように配置されている。そして、塗布ユニットを初期化する場合には、塗布ユニットのスリットから塗布液をローラの外周面に吐出し、この吐出された塗布液がローラの外周面に付着した状態でローラを回転させる。これにより、スリット内の塗布液がスリットの長手方向全体に亘って吐出され、塗布ユニットのスリット内の塗布液が長手方向に亘って均一化される。このようにして、塗布ユニットの初期化が完了する。

特開２００５−２５２０４５号公報

しかしながら、ローラは、その自重により僅かながら重力方向に撓み変形している。具体的には、ローラが両端支持されていることから、その自重によりローラの長手方向中央部分が両端部に比べて重力方向下向きに撓み変形している。そのため、塗布ユニットを初期化する際、スリットから塗布液を吐出すると、塗布液とローラの外周面との接触状態がローラの長手方向に亘って均一にならないことから、十分な初期化が行えないという問題がある。すなわち、ローラの長手方向中央部分が、両端部に比べて重力方向下向きへの撓み変形量が僅かに大きいため、スリットの中央部分では吐出される塗布液が薄状となり、場合によっては途切れてしまうこともある。このような場合には、ローラを回転させてもスリットの中央部分の塗布液がローラの回転に応じて吐出されないことから、スリットの長手方向中央部分と両端部とでは、スリット内の塗布液がローラの回転により吐出される量が異なってしまう。その結果、スリット内の塗布液が長手方向に亘って均一化されず、十分な初期化が行えないという問題があった。特に近年では、大型基板の使用により、ローラ長が長くなっているため、この問題がさらに顕著になっている。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ローラに撓み変形が生じる場合であっても、塗布ユニットの十分な初期化を行うことができる塗布装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、一方向に延びるとともに塗布液を吐出するスリットを有する塗布ユニットと、この塗布ユニットを初期化する予備塗布装置とを備え、前記予備塗布装置により初期化された塗布ユニットが、ステージ上の基板に対して相対的に移動しつつ前記スリットから塗布液を吐出することにより基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記予備塗布装置は、一方向に延びるとともに前記スリットから吐出される塗布液を付着させるローラを有しており、このローラは、（スリットの吐出時に）ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差する状態で配置されていることを特徴としている。

上記塗布装置によれば、スリットとローラとの重力方向寸法について、スリットの長手方向中央部分と両端部とでその差を小さくすることができるため、ローラに撓み変形が発生する場合であっても十分に塗布ユニットの初期化を行うことができる。すなわち、ローラは、その中央部分が撓みにより重力方向下側に変形しているため、スリットがローラの軸上に位置している場合には、ローラの外周面とスリットとの重力方向寸法は、長手方向中央部分で大きく、両端部で小さくなる。一方、ローラの軸上から軸方向と直交する方向に僅かに変位した位置では、ローラの外周面はローラの軸上に比べて重力方向下側に位置している。したがって、スリットの長手方向中央位置がローラの軸上に位置する状態で、ローラがスリットに対して、ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差するように配置されれば、スリットの長手方向中央位置がローラの軸上の外周面と対向し、スリットの長手方向両端部がローラの軸上から僅かに変位した外周面と対向する。すなわち、ローラの外周面とスリットとの重力方向寸法は、スリットの中央部分と両端部とでその差が小さくなる。これにより、ローラに対してスリットを長手方向に亘って近接させることができ、スリットからの塗布液がローラの外周面に付着させた状態でローラを回転させることにより、スリット内の塗布液が長手方向に亘って吐出され、十分に塗布ユニットを初期化することができる。

また、前記予備塗布装置は、前記ローラを収容するケース部を有しており、このケース部がローラの長手方向中心点を中心にして回動するように構成されており、このケース部を回動させることにより前記ローラを変位させて、前記ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差するように調節できるように構成してもよい。

この構成によれば、ケース部を回動させることにより、ローラの変位量を調節することができるため、ローラ４のみを変位させる構成に比べて装置構成を簡素化することができる。したがって、予備塗布装置のセッティング及び調整を簡略化することができる。

本発明の塗布装置によれば、ローラに撓み変形が生じる場合であっても、塗布ユニットを十分に初期化することができる。

本発明の塗布装置に係る実施の形態を図面を用いて説明する。

図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を概略的に示す図であり、図２は塗布ユニットの要部を概略的に示す図である。

図１〜図２に示すように、塗布装置１は、基板１０上に薬液やレジスト液等の塗布液を塗布して塗布膜を形成するものであり、基台２０と、基板１０を載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えており、さらにこの塗布ユニット３０を初期化する予備塗布装置２（図１において左側）を備えている。

なお、以下の説明では、塗布ユニット３０が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

前記ステージ２１は、搬入された基板１０をその表面に載置して保持するものである。このステージ２１には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプ（不図示）とが連通して接続されている。そして、ステージ２１の表面に基板１０が載置された状態で真空ポンプを作動させると、吸引孔に吸引力が発生し基板１０がステージ２１の表面に吸引されて基板１０を吸着保持できるようになっている。また、ステージ２１には、基板１０を昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。すなわち、ステージ２１の表面には複数のピン孔（不図示）が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン（不図示）が埋設されている。そして、ステージ２１の表面に基板１０を載置した状態でリフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分が基板１０に当接し、複数のリフトピンの先端部分で基板１０を所定の高さ位置に保持できるようになっている。これにより、基板１０との接触部分を極力抑えて保持することができ、基板１０を損傷させることなくスムーズに交換できるようになっている。

また、塗布ユニット３０は、基板１０上に塗布液を塗布するものである。この塗布ユニット３０は、基台２０に取付けられた脚部３１（図２参照）とＹ軸方向に延びる口金部３４とを有しており、基台２０上をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。具体的には、基台２０のＹ軸方向両端部にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール２２が設置されており、脚部３１がこのレール２２にスライド自在に取り付けられている。そして、脚部３１にはリニアモータ３３の可動子が取り付けられており、リニアモータ３３を駆動制御することにより、塗布ユニット３０がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。

本実施形態では、予備塗布を行う予備塗布位置、本塗布を行う本塗布開始位置に移動し、それぞれの位置で精度よく停止できるようになっている。ここで、予備塗布位置とは、塗布ユニットを初期化するために予備塗布を行う位置であり、後述する塗布ユニット３０のスリット３４ａの位置が、ローラ４の軸心位置とＸ軸方向において一致する位置（図１における位置Ａ）である。また、本塗布位置とは、Ｘ軸方向において基板１０上に塗布を開始する位置（図１における位置Ｂ）のことである。

塗布ユニット３０の脚部３１には、図２に示すように、塗布液を塗布する口金部３４が取り付けられている。具体的には、この脚部３１にはＺ軸方向に延びるレール３７と、このレール３７に沿ってスライドするスライダ３５が設けられており、これらのスライダ３５と口金部３４とが連結されている。そして、スライダ３５にはサーボモータ（不図示）により駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ３５がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、口金部３４が、ステージ２１に保持された基板１０又は予備塗布装置２のローラ４に対して接離可能に支持されている。

口金部３４は、塗布液を塗布して基板１０上に塗布膜を形成するものである。この口金部３４は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向（Ｘ軸方向）とほぼ直交するように設けられている。この口金部３４には、長手方向に延びるスリット３４ａが形成されており、口金部３４に供給された塗布液がスリット３４ａからその長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリット３４ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリット３４ａの長手方向に亘って基板１０上に一定厚さの塗布膜が形成されるようになっている。

塗布装置１のＸ軸方向端部（図１の左側）には予備塗布装置２が設けられている。この予備塗布装置２は、塗布ユニット３０を初期化するものである。この予備塗布装置２は、塗布ユニット３０から吐出された塗布液等を受けるケース部２４と、このケース部２４内に回転可能に収容されるローラ４とを有しており、このローラ４に塗布ユニット３０から塗布液を吐出させることにより、塗布ユニット３０を初期化できるようになっている。

ケース部２４は、基台２０に取付けられており、その一部が基台２０の表面上に突出した状態で埋設されている。そして、ケース部２４の上方には、開口部２６ａが形成されており、その開口部２６ａからローラ外周面４１の一部がその長手方向に亘って臨めるようになっている。したがって、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ）で停止すると、塗布ユニット３０のスリット３４ａとローラ外周面４１とが互いに対向するようになっている。

ケース部２４には、ローラ４に付着した塗布液等を洗浄するための洗浄機５が取付けられている。この洗浄機５は、洗浄液供給器５０、スクレーパ６０、ガスノズル７０を有しており、ローラ外周面４１付近にローラ４の回転方向に沿ってこの順に取付けられている。この洗浄液供給器５０は、ローラ外周面４１に洗浄液を吐出するものである。スクレーパ６０は、ローラ外周面４１に当接することにより、ローラ外周面４１に付着した塗布液を掻き取るものである。ガスノズル７０は、ローラ外周面４１にエアや不活性ガス等（以下、単にガスという）を吹き付けることにより、ローラ外周面４１を乾燥させるものである。すなわち、これらにより、ローラ外周面４１が洗浄され、開口部２６ａからは、洗浄後のローラ外周面４１が現れるようになっている。

また、ケース部２４の底部には、排出口２５ａが設けられており、この排出口２５ａと廃液回収装置とが配管で連結されている。これにより、ケース部２４内の廃液がこの排出口２５ａを通じて廃液回収装置に排出されるようになっている。また、ケース部２４の側面部には、ガス吸引口２５ｂが設けられている。これにより、ガスノズル７０からローラ４に対して供給されたガスや洗浄液の揮発成分等が吸引され、このガス吸引口２５ｂを通じてガス吸引口２５ｂと接続されるガス回収装置に回収されるようになっている。

また、ケース部２４内では、一軸方向に延びるローラ４が軸心回りに回転可能に設けられている。具体的には、ローラ４には図示しないモータが接続されており、このモータを駆動させることによりローラ４が軸心回り（図１の矢印方向）に回転できるようになっている。これにより、塗布ユニット３０から吐出された塗布液をローラ外周面４１に付着させ、この状態でローラ４を回転させることにより、外周面４１に付着した塗布液がローラ４の回転に従って引き込まれ、スリット３４ａの長手方向に亘って所定量の塗布液が除去されるようになっている。

このローラ４は、その延びる方向（軸心方向）が、スリット３４ａの延びる方向に対して交差する状態で配置されている。ここで、図３は、塗布ユニット３０の口金部３４とローラ４とを模式的に示した図である。図３（ａ）は、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ、図１参照）以外の位置に配置された状態を示す図であり、図３（ｂ）は、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ）に配置された状態を示す図である。なお、破線で示されるローラ４’は、ローラ４の延びる方向（軸心方向）とスリット３４ａの延びる方向とが平行に配置（一致するように配置）される状態を示すものである。本実施形態では、このローラ４’の配置姿勢をローラ４の基準姿勢と呼ぶことにする。

図３に示すように、ローラ４はスリット３４ａに対して交差する状態で配置されており、ローラ４の軸心方向両端部４ａ，４ｂが基準姿勢に対してΔＸだけＸ軸方向に変位した状態で配置されている。具体的には、ローラ４は、ローラ４の長手方向中心点Ｍとスリット３４ａの長手方向中心点Ｎとを一致させた状態から、軸方向端部４ａをＸ軸方向に＋ΔＸ、軸方向端部４ｂをＸ軸方向に−ΔＸだけ変位させた状態で配置されている。そして、図３（ｂ）に示すように、ローラ４の中心点Ｍとスリット３４ａの中心点Ｎが一致する状態では、ローラ外周面４１とスリット３４ａとが長手方向に亘って対向するように設定されており、スリット３４ａ全体が、ローラ外周面４１をＺ軸方向（重力方向）から見た領域内に入っている状態となっている。これにより、塗布ユニット３０が、予備塗布位置（位置Ａ）においてスリット３４ａから塗布液を吐出すると、吐出された塗布液が長手方向に亘ってローラ外周面４１上に塗布されるようになっている。

このローラ４の軸心方向両端部４ａ，４ｂにおける変位量ΔＸは、ローラ４とスリット３４ａとの重力方向寸法（Ｚ軸方向寸法）が、その長手方向中央部分及び両端部分でほぼ等しくなるように設定されている。

ここで、図４は、口金部３４のスリット３４ａとローラ４との位置関係を示す図であり、図４（ａ）は、Ｘ軸方向から見た図、図４（ｂ）はＺ軸方向（上方）から見た図である。また、図５は、ローラ４に撓み変形が発生しないと仮定した場合のローラ４とスリット３４ａとの位置関係を示す図であり、破線で示す口金部３４により、ローラ４の基準姿勢よりも変位量ΔＸだけ変位させたローラ４とスリット３４ａとの位置関係を示している。

図４に示すように、ローラ４の撓み変形がないと仮定した場合には、ローラ４とスリット３４ａとのＺ方向寸法（重力方向寸法）は、Ｓである。しかし、実際は、ローラ４の長手方向中央部分４ｃは、両端部４ａ、４ｂよりもｔだけ下方向に撓み変形しているため、スリット３４ａの中央部Ｃとローラ４の中央部４ｃとのＺ方向寸法は、Ｓ＋ｔである。

また、ローラ４の両端部４ａ，４ｂが、ローラ４の基準姿勢よりも変位量ΔＸだけ変位させた場合（図５における破線）には、Ｚ方向寸法が、ローラ４の軸心上の位置Ｐに比べてギャップΔＺだけ大きくなる。すなわち、ローラ４の端部４ａ（４ｂ）とスリット３４ａの端部Ｒ（Ｌ）とのＺ方向寸法は、Ｓ＋ΔＺである。

したがって、ローラ４の中央部４ｃの撓み変形量ｔと、両端部Ｌ，ＲのギャップΔＺとが同じになれば、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が、長手方向に亘ってほぼ等しくすることができる。すなわち、撓み変形量ｔとギャップΔＺとが同じ値になるようにローラ４の両端部４ａ，４ｂにおける変位量ΔＸを設定すれば、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が、長手方向に亘ってほぼ等しくすることができる。

具体的には、次式によって幾何学的に変位量ΔＸとギャップΔＺとの関係を算出することができる。なお、中心角Δθ、ローラ４の半径Ｒについては、図６のように設定する。

Δθ＝ｓｉｎ^−１（ΔＸ／Ｒ）・・・（１）
ΔＺ＝ΔＸ・ｔａｎ（Δθ／２）・・・（２）
本実施形態では、ローラ４の半径Ｒ＝１３０（ｍｍ）として計算した変位量ΔＸとギャップΔＺとの関係を図７に示す。図７によれば、例えば、ローラ４の両端部がΔＸ＝２（ｍｍ）変位した場合、ΔＺ＝１５．４（μｍ）となる。

ここで、ローラ４の中央部分の撓み変形量ｔ＝２５（μｍ）の場合には、撓み変形量ｔ＝ギャップΔＺとなれば、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が、長手方向に亘ってほぼ等しくすることができる。すなわち、図７のグラフより、ΔＺ＝２５（μｍ）に対応するΔＸは、ΔＸ＝２．５（ｍｍ）となる。したがって、ローラ４の両端部４ａ，４ｂが、ローラ４の基準姿勢に対して２．５（ｍｍ）変位する状態にローラ４を配置する。これにより、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が、長手方向に亘ってほぼ等しくすることができる。

次に、この予備塗布装置２を含む塗布装置１の動作について、図８、図９に示すフローチャートを参照しながら説明する。なお、本実施形態では、ローラ４が基準姿勢に対して所定の変位量ΔＸだけ変位する状態に配置されていることにより、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が長手方向に亘ってほぼ等しくなるように設定されている。

まず、基板１０上に塗布液を塗布する本塗布工程を行う前に予備塗布工程として、塗布ユニット３０の初期化が行われる（ステップＳ１）。この予備塗布工程は、図９に示すフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ１４に従って行われる。まず、塗布ユニット３０の位置決め（予備塗布時）が行われる（ステップＳ１１）。具体的には、リニアモータを駆動させることにより塗布ユニット３０を移動させ、塗布ユニット３０が予備塗布位置（位置Ａ）に位置させたところで停止させる。そして、サーボモータを駆動させることにより口金部３４を下降させ、口金部３４のスリット３４ａとローラ外周面４１との距離が所定値になる位置で停止させる。

次に、予備塗布装置２を稼働させる（ステップＳ１２）。すなわち、洗浄液供給器５０から洗浄液を吐出させるとともに、ガスノズル７０からガスを噴出させた状態で、ローラ４を回転させる。これにより、ローラ外周面４１全体が洗浄され、外周面４１が予備塗布を行える状態に形成される。

次に、予備塗布が行われる（ステップＳ１３）。具体的には、塗布ユニット３０から所定量の塗布液を回転しているローラ外周面４１に吐出させる。これにより、塗布ユニット３０のスリット３４ａとローラ外周面４１とが塗布液で連結された状態になる。すなわち、本実施形態では、ローラ外周面４１とスリット３４ａとのＺ方向寸法が長手方向に亘ってほぼ等しくなるように設定されているため、スリット３４ａとローラ外周面４１とが長手方向に亘って、塗布液で連結された状態になる。そして、この状態でローラ４が回転していることにより、一定厚さの塗布膜がローラ外周面４１の長手方向に亘って形成され、所定量の塗布液を吐出した後、口金部３４を上昇させる。これにより、スリット３４ａとローラ４との間に形成された塗布膜が断ち切られ、塗布ユニット３０の初期化が完了する。

一方、図８に示すように、この塗布ユニット３０の初期化と同時に、ステップＳ２において基板１０の搬入が行われる。具体的には、ステージ２１の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、図示しないロボットハンドにより、リフトピンの先端部分に基板１０が載置される。そして、リフトピンの先端部分に基板１０が載置された状態から、リフトピンを下降させて、基板１０をステージ２１の表面に載置される。

次に、ステップＳ３により、基板１０がステージ２１上に保持される。具体的には、真空ポンプを駆動させることにより、吸引孔に急速に吸引力を発生させる。すなわち、吸引孔内の大気が真空ポンプにより急速に吸引されることにより、吸引孔に吸引力が発生し、瞬時に基板１０がステージ２１上に吸着されて保持される。

次に、ステップＳ４により、塗布ユニット３０が本塗布位置に位置決めされる。具体的には、ステップＳ１３により、予備塗布が完了した後、リニアモータを駆動させることにより塗布ユニット３０を本塗布位置（位置Ｂ）まで移動させる。そして、サーボモータを駆動させることにより口金部３４を下降させ、口金部３４のスリット３４ａと基板１０表面との距離が所定値になる位置で停止させる。

次に、ステップＳ５において、塗布動作が行われる。すなわち、塗布ユニット３０を特定の方向に走行させつつ、塗布液を吐出させることにより、基板１０の表面に塗布膜を形成させる。

次に、ステップＳ６において、基板１０の取出しが行われる。すなわち、Ｓ５における塗布動作により基板１０表面に塗布膜が形成された後、真空ポンプを停止させて、吸引孔２１ａにおける圧力を大気圧に戻す。そして、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板１０を保持させ、図示しないロボットハンドに基板１０の受け渡しが行われ、ステージ２１の表面から基板１０が排出される。

このような塗布装置１によれば、スリット３４ａとローラ４との重力方向寸法について、ローラ４の中央部分４ｃと両端部４ａ，４ｂとでその差を小さくすることができるため、予備塗布装置２において、ローラ４に撓み変形が発生する場合であっても十分に塗布ユニット３０の初期化を行うことができる。これにより、ローラ４に対してスリット３４ａを長手方向に亘って近接させることができるため、スリット３４ａからの塗布液がローラ外周面４１に付着させた状態でローラ４を回転させることにより、スリット３４ａ内の塗布液が長手方向に亘ってほぼ均等に吐出することができ、十分に塗布ユニット３０を初期化することができる。

上記実施形態では、ローラ４自体を基準姿勢に対して変位させて配置する例について説明したが、予備塗布装置２全体を回動させることにより、ローラ４を基準姿勢に対して変位させるものであってもよい。具体的には、ローラ４の中心点Ｍ直下の基台２０には、軸部材が設けられており、この軸部材と予備塗布装置２のケース部２４とがベアリングを介して連結されている。すなわち、ケース部２４がローラ４の中心点Ｍを中心に回動するようになっており、ケース部２４を回動させることにより、ローラ４が中心点Ｍを中心に基準姿勢に対して変位できるようになっている。これにより、ケース部２４を回動させることにより、ローラ４の変位量ΔＸを調節できるようになっている。これにより、ローラ４のみを変位させる構成に比べて装置構成を簡素化することができるため、予備塗布装置２のセッティング及び調整を簡略化することができる。

本発明の実施形態に係る塗布装置を概略的に示す正面図である。上記塗布装置における塗布ユニットの脚部付近を示す概略図である。塗布ユニットの口金部とローラとを模式的に示した図であり、（ａ）は、塗布ユニットが予備塗布位置以外の位置に配置された状態を示す図であり、（ｂ）は、塗布ユニットが予備塗布位置に配置された状態を示す図である。口金部のスリットとローラとの位置関係を示す図であり、（ａ）は、Ｘ軸方向から見た図、（ｂ）はＺ軸方向（上方）から見た図である。ローラに撓み変形が発生しないと仮定した場合のローラとスリットとの位置関係を示す図である。式（１）、式（２）で使用する記号を説明するための図である。変位量ΔＸとギャップΔＺとの関係を示す図である。塗布装置の動作を示すフローチャートである。予備塗布装置の動作を示すフローチャートである。

符号の説明

１塗布装置
２予備塗布装置
４ローラ
１０基板
３０塗布ユニット
３４口金部
３４ａスリット
４１ローラ外周面

Claims

基板を載置するステージと、一方向に延びるとともに塗布液を吐出するスリットを有する塗布ユニットと、この塗布ユニットを初期化する予備塗布装置とを備え、前記予備塗布装置により初期化された塗布ユニットが、ステージ上の基板に対して相対的に移動しつつ前記スリットから塗布液を吐出することにより基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記予備塗布装置は、一方向に延びるとともに前記スリットから吐出される塗布液を付着させるローラを有しており、このローラは、ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差する状態で配置されていることを特徴とする塗布装置。
前記予備塗布装置は、前記ローラを収容するケース部を有しており、このケース部がローラの長手方向中心点を中心にして回動するように構成されており、このケース部を回動させることにより前記ローラを変位させて、前記ローラの延びる方向と前記スリットの延びる方向とが交差するように調節できることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。