JP2010000487A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】生産性の高い塗布装置を提供すること。
【解決手段】ノズル部をメンテナンスするメンテナンス部が、基板搬送部のうちノズル部に平面視で重なる位置に設けられているので、ノズル部とメンテナンス部との間の平面視での相対位置を変化させること無くノズル部のメンテナンスを行うことができる。このため、ノズル部のメンテナンスを短時間で行うことができ、スループットへの影響を抑えることができる。これにより、生産性の高い塗布装置を得ることができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、塗布装置に関する。

半導体基板やガラス基板などの基板に半導体層や配線層、レジスト層などを形成する手段として、液体噴射（インクジェット）型のノズルを備えた塗布装置が知られている。このような塗布装置では、半導体材料や配線材料、レジスト材料などの各種材料を溶媒に分散させ、液状体としてノズルから基板へ向けて噴射するようになっている。噴射型のノズルを有する塗布装置の構成として、例えば基板とノズルとを相対移動させながら液状体を塗布する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。

このような塗布装置においては、例えばノズルを用いるインターバルが長い場合、ノズル内部で液状体が固化して付着したり、空気中の塵や埃等が付着したりして、ノズルの吐出環境が悪化する可能性がある。また、塗布装置を初めて用いる場合など、塗布環境が不明な場合もある。このように塗布環境が良好で無い可能性のある場合に塗布動作を行うと塗布不良が発生する虞があるため、ノズルの吐出環境を改善させるためのメンテナンスを適宜行うことが好ましい。

ノズルのメンテナンスの一例として、例えば基板上以外の場所へノズルから液状体を吐出するいわゆる捨て打ちと呼ばれる動作や、ノズルの洗浄動作などが挙げられる。メンテナンスを行う部位は、基板に液状体を塗布する塗布部に対して離れた位置に設けられていることが多い。
特開２００７−１０３３０２号公報

しかしながら、上記構成においては、ノズルのメンテナンスを行う場合、ノズルをメンテナンス位置まで移動させる必要があったり、ノズルとメンテナンス位置との間で位置を合わせる必要があったりする。これらの動作は基板への液状体の塗布動作とは別個に行うため、時間をその分要することになる。このため、スループットの低下を招き、生産性が低下してしまう虞がある。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、生産性の高い塗布装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明に係る塗布装置は、基板に液状体を塗布する塗布装置であって、前記基板を搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部上に設けられ、前記基板へ向けて前記液状体を吐出するノズルを有するノズル部と、前記基板搬送部のうち前記ノズル部に平面視で重なる位置に設けられ、前記ノズル部をメンテナンスするメンテナンス部とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、ノズル部をメンテナンスするメンテナンス部が、基板搬送部のうちノズル部に平面視で重なる位置に設けられているので、ノズル部とメンテナンス部との間の平面視での相対位置を変化させること無くノズル部のメンテナンスを行うことができる。このため、ノズル部のメンテナンスを短時間で行うことができ、スループットへの影響を抑えることができる。これにより、生産性の高い塗布装置を得ることができる。

上記の塗布装置は、前記ノズル部は、前記基板搬送部上に固定されていることを特徴とする。
本発明によれば、ノズル部が基板搬送部上に固定されているので、装置稼動時にノズル部の移動や位置合わせなどを行う必要が無く、高い生産性を確保することができる。

上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板を搬送する複数の搬送ローラを有し、前記メンテナンス部は、搬送ローラ間に設けられることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬送部が基板を搬送する複数の搬送ローラを有し、メンテナンス部が搬送ローラ間に設けられることとしたので、搬送ローラ間のスペースを活用してノズル部のメンテナンスを行うことができる。本発明の構成では、ノズル部と搬送ローラとが平面視で重なるのを防ぐことにもなるので、例えば搬送ローラに液状体が誤って付着するのを防ぐこともできる。

上記の塗布装置は、前記搬送ローラ間は、前記基板の搬送方向に並んだ前記搬送ローラの間であることを特徴とする。
本発明によれば、搬送ローラ間が基板の搬送方向に並んだ搬送ローラの間のスペースを活用することができる。

上記の塗布装置は、前記搬送ローラ間は、前記基板の搬送方向の直交方向に並んだ前記搬送ローラの間であることを特徴とする。
本発明によれば、搬送ローラ間が基板の搬送方向の直交方向に並んだ搬送ローラの間のスペースを活用することができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部が設けられる前記搬送ローラ間は、前記メンテナンス部が設けられない前記搬送ローラ間に比べて広くなっていることを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部の設けられる搬送ローラ間が、メンテナンス部の設けられない搬送ローラ間に比べて広くなっていることとしたので、その分メンテナンスが行いやすくなる。

上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、前記基板に気体を噴出して浮上させる複数の気体噴出部を有し、前記メンテナンス部は、複数の前記気体噴出部の間に設けられることを特徴とする。
本発明によれば、基板搬送部が基板に気体を噴出して浮上させる複数の気体噴出部を有し、メンテナンス部が複数の気体噴出部の間に設けられることとしたので、基板を浮上させて搬送する場合であっても、ノズル部のメンテナンスを容易に行うことができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、前記ノズルから吐出された前記液状体を保持する保持部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部がノズルから吐出された液状体を保持する保持部を有することとしたので、ノズル部のメンテナンスに保持された当該液状体を容易に用いることができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部が保持された液状体を排出する排出部を有することとしたので、保持部において液状体を非保持状態にすることができる。これにより、必要に応じて保持部における液状体の保持及び非保持を選択することができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、前記ノズル部にアクセス可能となるように当該メンテナンス部を移動させる移動部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部がノズル部にアクセス可能となるように当該メンテナンス部を移動させる移動部を有することとしたので、メンテナンス部をノズル部にアクセスさせることができ、より幅広いメンテナンスが可能となる。移動部としては、例えばメンテナンス部をノズル部に対して昇降移動させる昇降機構などが挙げられる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、前記ノズル部にアクセスした状態において前記ノズル部に当接し前記メンテナンス部と前記ノズル部との間の空間を密閉させる当接部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部が、ノズル部にアクセスした状態においてノズル部に当接しメンテナンス部とノズル部との間の空間を密閉させる当接部を有することとしたので、ノズル内の液状体が乾燥するのを防ぐことができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、前記ノズル部を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部がノズル部を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部を有することとしたので、ノズル部を清浄化することができる。

上記の塗布装置は、前記保持部は、前記洗浄液を保持することを特徴とする。
本発明によれば、保持部が洗浄液を保持することとしたので、例えば保持部に洗浄液を保持させた状態でノズル部を洗浄することができる。これにより、幅広いメンテナンスが可能となる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有し、前記排出部は、前記洗浄液を排出することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部が保持された液状体を排出する排出部を有し、排出部が洗浄液を排出することとしたので、保持部において洗浄液を非保持状態にすることができる。これにより、必要に応じて保持部における洗浄液の保持及び非保持を選択することができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、前記ノズル部との間の空間を吸引可能な吸引部を有することを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部がノズル部との間の空間を吸引可能な吸引部を有することとしたので、ノズル部に対するメンテナンスの幅が一層広がることになる。

上記の塗布装置は、前記ノズル部は、前記メンテナンス部を介して当該ノズル部に前記液状体を充填させることを特徴とする。
本発明によれば、ノズル部がメンテナンス部を介して当該ノズル部に液状体を充填させることとしたので、別途充填機構などを配置する必要が無い。このため、装置構成が複雑化するのを抑えることができる。

上記の塗布装置は、前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有し、前記吸引部は、前記排出部に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、メンテナンス部が保持された液状体を排出する排出部を有し、吸引部が排出部に設けられていることとしたので、液状体の排出を吸引部の吸引によって行うことができる。これにより、短時間で確実に液状体を排出することができる。

上記の塗布装置は、前記基板搬送部は、搬送される前記基板と前記ノズルから吐出される前記液状体の吐出位置とのズレを補正する補正部を有することを特徴とする。
本発明によれば、基板搬送部が搬送される基板とノズルから吐出される液状体の吐出位置とのズレを補正する補正部を有することとしたので、基板に高精度に液状体を塗布することができる。

上記の塗布装置は、前記補正部は、前記基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を検出する検出部と、前記検出機構の検出結果に基づいて前記液状体の吐出位置を調整する調整部とを有することを特徴とする。
本発明によれば、補正部が基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を検出する検出部と、検出機構の検出結果に基づいて液状体の吐出位置を調整する調整部とを有することとしたので、基板により高精度に液状体を塗布することができる。

上記の塗布装置は、前記補正部は、前記基板に当接することで前記基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を規制する規制部を有することを特徴とする。
本発明によれば、補正部が基板に当接することで基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を規制する規制部を有することとしたので、基板上の液状体の塗布位置がずれるのを防ぐことができ、基板により高精度に液状体を塗布することができる。

上記の塗布装置は、前記ノズル部は、複数配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、ノズル部が複数配置されていることとしたので、複数のノズル部によって基板に液状体を塗布することができる。これにより、高いスループットを確保することができる。

上記の塗布装置は、複数の前記ノズル部のうち前記基板の搬送方向の最も上流側に配置されるノズル部は、平面視で前記搬送方向の直交方向の中央に配置されることを特徴とする。
本発明によれば、複数のノズル部のうち基板の搬送方向の最も上流側に配置されるノズル部が平面視で搬送方向の直交方向の中央に配置されることとしたので、搬送される基板に最初に塗布される液状体が、基板搬送方向の直交方向の中央部に配置されることになる。これにより、塗布された液状体によって基板の重心が当該直交方向においてずれてしまうのを防ぐことができ、搬送時の基板の姿勢を安定させることができる。

上記の塗布装置は、複数の前記ノズル部は、前記基板の搬送方向の上流側に位置するノズル部に対して前記搬送方向に対する前記基板搬送部の側方に配置されることを特徴とする。
本発明によれば、複数のノズル部が、基板の搬送方向の上流側に位置するノズル部に対して当該搬送方向に対する基板搬送部の側方に配置されることとしたので、基板の搬送方向の直交方向において中央から端部へと液状体を塗布することができる。これにより、搬送時の基板の姿勢を安定させることができ、基板上に液状体を高精度に塗布することができる。

上記の塗布装置は、複数の前記ノズル部は、前記基板の搬送方向の直交方向に重ならないように配置されることを特徴とする。
本発明によれば、複数のノズル部が基板の搬送方向の直交方向に重ならないように配置されることとしたので、当該ノズル部に平面視で重なる位置に設けられるメンテナンス部が基板の搬送方向の直交方向に重なって配置されるのを防ぐことができる。これにより、搬送時の基板の姿勢をより安定させることができる。

ノズル部をメンテナンスするメンテナンス部が、基板搬送部のうちノズル部に平面視で重なる位置に設けられているので、ノズル部とメンテナンス部との間の平面視での相対位置を変化させること無くノズル部のメンテナンスを行うことができる。このため、ノズル部のメンテナンスを短時間で行うことができ、スループットへの影響を抑えることができる。これにより、生産性の高い塗布装置を得ることができる。

本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は、本実施形態に係る塗布装置の平面図である。図２は、当該塗布装置の正面図である。図３は、当該塗布装置の側面図である。これらの図を参照して、塗布装置１の詳細な構成を説明する。

以下、塗布装置の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該ＸＹＺ座標系においては、基板の搬送方向をＸ方向と表記し、平面視でＸ方向（搬送方向）に直交する方向をＹ方向と表記する。Ｘ方向軸及びＹ方向軸を含む平面に垂直な方向はＺ方向と表記する。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。

図１〜図３に示すように、本実施形態に係る塗布装置１は、基板搬送部２と、塗布部３と、メンテナンス部４とを備えている。塗布装置１は、例えばシリコンやガラスなどによって構成される矩形の基板Ｓを搬送しながら当該基板Ｓ上に半導体層やレジスト層などの薄膜を塗布する装置である。塗布装置１は、例えばコンクリートの床上など振動の少ない環境下に配置されて用いられることが好ましい。

塗布装置１のうち、基板搬送部２の側部は下部カバー部材５によってカバーされた状態になっており、基板搬送部２の上部及び塗布部３は上部カバー部材６によってカバーされた状態になっている。下部カバー部材５は耐久性に優れ軽量な材料、例えば例えばＳＵＳなどによって形成されている。上部カバー部材６は、軽量で光透過性を有する材料、例えばＰＥＴなどによって形成されており、当該上部カバー部材６によってカバーされた部分が外部から視認可能になっている。当該塗布装置１には、基板搬送部２、塗布部３及びメンテナンス部４を統括的に制御する制御部７が設けられている。

（基板搬送部）
基板搬送部２は、搬送機構２０を有している。搬送機構２０は、基板Ｓを＋Ｘ方向へ平流し搬送するように構成されている。搬送機構２０は、架台２１と、搬送ローラ２２とを有している。

架台２１は、基板搬送部２のうちＹ軸方向の中央部に配置されており、基板搬送部２のＸ軸方向に沿った領域に設けられている。架台２１は、側面視（又は断面視）でＵ字状に設けられている。架台２１のＹ軸方向の両端はローラ支持部２１ａとなっており、架台２１のＹ軸方向の中央部は凹部２１ｂとなっている。架台２１は、ＸＹ平面に平行な状態を保つように例えば不図示の支持部によって支持されている。

搬送ローラ２２は、架台２１の凹部２１ｂに設けられた円柱状部材であり、Ｙ軸方向が長手になっている。搬送ローラ２２のＹ軸方向の両端は、回転可能な状態で架台２１のローラ支持部２１ａに支持されている。搬送ローラ２２はＸ軸方向に複数設けられている。複数の搬送ローラ２２は等しいピッチで配置されており、Ｘ軸方向に隣接する搬送ローラ２２の間（搬送ローラ間）２２ａには隙間が設けられている。各搬送ローラ２２は例えば不図示の回転機構に接続されており、当該回転機構の駆動によってＹ軸方向を回転軸として回転するようになっている。基板Ｓは、複数の搬送ローラ２２によって支持されるようになっている。搬送ローラ２２の回転により基板Ｓが支持位置で摩擦力を受け、当該摩擦力によって基板Ｓが＋Ｘ方向へ搬送されるようになっている。

基板搬送部２は、基板搬入領域ＬＤＲ、アライメント領域ＡＬＮ及び塗布領域ＡＰＬの３つの処理領域を有している。このうち、基板Ｓの搬送方向の最も上流側の領域が基板搬入領域ＬＤＲであり、当該基板搬入領域ＬＤＲの下流側に隣接する領域がアライメント領域ＡＬＮである。基板Ｓの搬送方向の最も下流側の領域であって塗布部３に平面視で重なる領域が塗布領域ＡＰＬである。

基板搬入領域ＬＤＲでは、基板Ｓの搬入処理が行われるようになっている。上部カバー部材６の−Ｘ側には、基板搬入口６ａが設けられている。基板Ｓは、当該基板搬入口６ａを介して搬入位置ＬＤＰに搬入されるようになっている。基板搬入口６ａを介して基板Ｓを搬入することで上部カバー部材６を外すことなく搬入処理を行うことが可能になっており、基板搬送部２内の環境を維持することができるようになっている。

基板搬入領域ＬＤＲには、２つのセンサ２３（搬送確認センサ２３ａ及び基板有無センサ２３ｂ）が設けられている。搬送確認センサ２３ａは、基板Ｓの搬入の有無を確認するセンサであり、凹部２１ｂ内のうち基板搬入口６ａの近傍に配置されている。基板有無センサ２３ｂは、基板Ｓが搬入位置ＬＤＰに配置されているか否かを確認するセンサであり、凹部２１ｂ内のうち当該搬入位置ＬＤＰに平面視で重なる位置に設けられている。

アライメント領域ＡＬＮでは、基板Ｓのアライメント処理（位置合わせ）が行われるようになっている。アライメント領域ＡＬＮには、当接部材（規制部）２６が設けられている。当接部材２６は、基板Ｓのアライメント位置ＡＬＰの＋Ｙ側及び＋Ｘ側にそれぞれ１つずつ設けられた一対のピン状部材である。当接部材２６が例えば矩形である基板Ｓの４辺のうち直交する２辺に当接することにより、基板Ｓの回転方向の姿勢を規制できるようになっている。

アライメント領域ＡＬＮには、基板有無センサ２４が設けられている。当該基板有無センサ２４は、基板Ｓがアライメント位置ＡＬＰに配置されているか否かを確認するセンサであり、例えば凹部２１ｂのうちアライメント位置ＡＬＰのほぼ中央部に平面視で重なる位置に配置されている。

塗布領域ＡＰＬでは、基板Ｓに対する液状体の塗布処理、基板Ｓの搬出処理及び塗布部３のメンテナンス処理が行われるようになっている。液状体の塗布処理は、塗布部３が設けられる位置（塗布位置）ＡＰＰで行われるようになっている。基板Ｓの搬出処理は、塗布位置ＡＰＰよりも搬送方向の下流側に設けられた搬出位置ＵＬＰから開始されるようになっている。上部カバー部材６の＋Ｘ側には、基板搬出口６ｂが設けられている。基板Ｓは当該基板搬出口６ｂを介して搬出されるようになっている。

塗布領域ＡＰＬには、３つの基板有無センサ２５が設けられている。このうち基板Ｓの搬送方向の最も上流側の基板有無センサ２５ａは、基板Ｓが塗布位置ＡＰＰに配置されているか否かを確認するセンサであり、例えば凹部２１ｂのうち塗布位置ＡＰＰに平面視で重なる位置に配置されている。３つのセンサのうち基板Ｓの搬送方向中央の基板有無センサ２５ｂは、基板Ｓが塗布位置ＡＰＰの外側へ移動したかどうかを確認するセンサであり、例えば凹部２１ｂのうち塗布位置ＡＰＰから下流側へ外れた位置に配置されている。３つのセンサのうち搬送方向の最も下流側の基板有無センサ２５ｃは、搬出位置ＵＬＰに基板Ｓが配置されているか否かを確認するセンサであり、例えば凹部２１ｂのうち当該搬出位置ＵＬＰに平面視で重なる位置に配置されている。

（塗布部）
塗布部３は、ノズル部３０と、支持部３１とを有している。塗布部３は、ノズル部３０が支持部３１によって支持された構成になっている。ノズル部３０が支持部３１によって支持されていることにより、基板搬送部２に対するノズル部３０の位置が固定された状態になっている。

ノズル部３０は、基板搬送部２の上方（＋Ｚ方向側）の同一平面上に複数箇所設けられている。本実施形態では、ノズル部３０は例えば５箇所に設けられている。当該ノズル部３０は、４箇所以下に設けても構わないし、６箇所以上に設けても構わない。各ノズル部３０には、ヘッド部材３２が設けられている。

ヘッド部材３２は、液状体を貯留する貯留機構及び液状体を噴射する噴射機構を内部に有する筐体である。貯留機構は、例えばヘッド部材３２の外部に設けられる液状体の供給源（例えば図１５に示す供給源４６を参照）に接続可能に設けられている。噴射機構としては、例えば電気信号を圧力に変換するピエゾ素子などを用いることができる。各ヘッド部材３２は、平面視でＹ軸方向に長手を有する矩形状に形成されている。

図４は、ヘッド部材３２の構成を示す斜視図である。同図は、ヘッド部材３２を＋Ｚ方向に見たときの図であり、−Ｚ側の面が示されている。図４に示すように、ヘッド部材３２は、液状体の吐出面３２ａを−Ｚ側に有している。ヘッド部材３２の吐出面３２ａには、ノズル３３が設けられている。上記の貯留機構、噴射機構及びノズル３３は、ヘッド部材３２の内部において連通されている。

ノズル３３は、液状体が吐出される吐出部である。ノズル３３は、各ヘッド部材３２について複数設けられている。複数のノズル３３は、各吐出面３２ａの中央部に設けられており、一定のピッチでＹ軸方向に配列されている。本実施形態では、ノズル３３の列が２列設けられている。ヘッド部材３２に設けられるノズル３３の列は１列であっても３列以上であっても構わない。各ノズル３３は、液状体の吐出を独立して制御可能になっている。

図５を参照して、ノズル部３０及びノズル３３の配置について説明する。図５は、ノズル部３０及びノズル３３の平面視での位置関係を示す図である。
同図に示すように、各ノズル部３０は、搬送ローラ２２に平面視で重なる位置に配置されている。５箇所のノズル部３０のうち基板Ｓの搬送方向の最も上流側（−Ｘ側）に配置されるノズル部３０は、基板搬送部２においてＹ軸方向の中央部に配置されている。この配置では、基板Ｓに最初に塗布される液状体が基板ＳのＹ軸方向中央部に塗布されるようになっている。

残りのノズル部３０については、各々自身よりも基板搬送方向の上流側（−Ｘ側）に位置するノズル部３０に対して基板搬送部２のＹ軸方向の両端部側（側方）に配置されている。したがって、ノズル部３０がＹ軸方向の中央部から両端部へ広がるように平面視Ｖ字状に配置されることになる。この配置により、基板Ｓを搬送しながら液状体を塗布したときに、基板ＳのＹ軸方向中央部から端部側へ液状体が塗布されるようになっている。これらの５箇所のノズル部３０は、搬送方向の直交方向（Ｙ軸方向）に見たときに互いに重ならない位置に配置されている。

図５には、ヘッド部材３２に設けられる複数のノズル３３の形成領域が斜線部分３３Ａで示されている。各形成領域３３Ａは、各ヘッド部材３２から吐出される液状体のＹ軸方向における吐出範囲であり、Ｙ軸方向における塗布膜の形成範囲である。各ヘッド部材３２についての形成領域３３ＡをＹ軸方向に合わせると、各形成領域３３ＡがＹ軸方向に隙間無くかつ重ならずに配置されることになる（破線部で示す）。

なお、５箇所のノズル部３０について、ノズル３３の形成領域３３ＡがＹ軸方向に重なるように配置されている構成であっても構わない。この構成では、例えばあるノズル部３０のノズル３３が詰まっている場合に、形成領域３３Ａが重なる他のノズル部３０のノズル３３によって代わりに吐出を行うことができるようになる。この場合、例えばレーザセンサなど、ノズル３３の詰まり具合を検出可能なセンサを基板搬送部２側などに配置しておく構成としても構わない。ノズル部３０を６箇所以上に配置する構成においても、各ノズル部３０におけるノズル３３の形成領域３３ＡをＹ軸方向に重ねて配置することは勿論可能である。

図１〜図３に戻って、支持部３１は、板状部材３１ａと、脚部材３１ｂとを有している。板状部材３１ａは、基板搬送部２に対向して設けられており、ヘッド部材３２を支持している。板状部材３１ａは、ヘッド部材３２の支持位置に開口部を有しており、当該開口部にヘッド部材３２の先端が挿入された状態になっている。ヘッド部材３２は、当該板状部材３１ａによって着脱可能に支持された状態になっている。５箇所のノズル部３０に設けられる各ヘッド部材３２は、独立して着脱させることが可能になっている。板状部材３１ａの−Ｘ側端部には、不図示のセンサが設けられている。当該センサは、基板Ｓが塗布領域ＡＰＰに搬送されるタイミングを検出するセンサであり、例えば光学式センサなどを用いることができる。板状部材３１ａは、脚部材３１ｂによって架台２１に支持されている。

（メンテナンス部）
メンテナンス部４は、ノズル部３０の洗浄、保湿などのメンテナンスを行う部位であり、当該ノズル部３０ごとに設けられている。メンテナンス部４は、架台２１の凹部２１ｂ内に設けられている。メンテナンス部４は、ヘッド部材３２のメンテナンスを行うメンテナンス部材４０と、当該メンテナンス部材４０をＺ軸方向に移動（昇降）させる昇降機構（移動部）４１とを有している。

図６は、基板搬送部２の構成を示す平面図であり、メンテナンス部４と他の部位との間の位置関係を示す図である。
同図に示すように、メンテナンス部４はノズル部３０の数に対応して５箇所に設けられている。５箇所のメンテナンス部４は、それぞれ平面視でノズル部３０に重なる位置に設けられている。より具体的には、メンテナンス部４は、平面視でノズル３３の形成領域３３Ａを平面視で含む位置に設けられている。基板搬送部２のうちメンテナンス部４が設けられる部分の搬送ローラ２２は、当該メンテナンス部４の領域に隙間２２ｂを空けるようにＹ軸方向に分離されている。本実施形態では、Ｙ軸方向に分離された搬送ローラ２２の当該隙間２２ｂを搬送ローラ間２２ｂとする。したがって、本実施形態では、メンテナンス部４は搬送ローラ間２２ｂに設けられていることになる。分離された搬送ローラ２２のうちメンテナンス部４側の端部は、ローラ支持部材２２ａに支持されている。ローラ支持部材２２ａは、メンテナンス部４をＹ軸方向に挟むように一対設けられており、例えば架台２１の凹部２１ｂの底部に支持されている。一対のローラ支持部材２２ａは、一のノズル部３０に平面視で含まれる位置に配置されている。

昇降機構４１は、図２に示すように、メンテナンス部材４０ごとに設けられている。各昇降機構４１は、各メンテナンス部材４０の昇降動作を独立して制御可能になっている。昇降機構４１によってメンテナンス部材４０が昇降することで、メンテナンス部材４０がヘッド部材３２に対してアクセスするようになっている。例えばメンテナンス動作を行う場合以外には、メンテナンス部材４０を搬送ローラ２２の下方（−Ｚ方向側）に配置させるようになっている。

本実施形態では、各メンテナンス部４がノズル部３０に平面視で重なる位置に設けられているため、図２に示すように、昇降機構４１がメンテナンス部材４０をＺ軸方向にのみ移動させることで、メンテナンス部材４０がヘッド部材３２にアクセスするようになっている。

図７及び図８を参照して、メンテナンス部４の具体的な構成を説明する。図７は、メンテナンス部４の構成を示す斜視図である。図８は、図７におけるＡ−Ａ断面に沿った構成を示す図である。これら図７及び図８に示すように、メンテナンス部４は、上記のメンテナンス部材４０及び昇降機構４１のほか、洗浄液供給部４３と、排出部４４と、吸引部４５とを有している。メンテナンス部４の構成をわかりやすくするため、図７では洗浄液供給部４３、排出部４４及び吸引部４５の図示を省略している。

メンテナンス部材４０は、凹部（保持部）４０ａ、孔部４０ｂ、４０ｃ、４０ｄを有する枡状部材である。凹部４０ａは、メンテナンス部材４０の＋Ｚ側の面（上面）４０ｅに設けられており、液状体を収容可能に設けられている。平面視での凹部４０ａの面積はノズル３３の形成領域の面積よりも大きくなっており、全てのノズル３３が平面視で凹部４０ａの形成領域に含まれるようになっている。

孔部４０ｂは、例えばメンテナンス部材４０の＋Ｙ側の面（側面）に設けられており、洗浄液供給部４３（図８参照）に接続されている。孔部４０ｃは、例えばメンテナンス部材４０の−Ｙ側の面（側面）に設けられており、排出部４４に接続されている。孔部４０ｄは、例えばメンテナンス部材４０の−Ｚ側の面（底面）に設けられており、凹部４０ａに収容された液状体が流出するようになっている。孔部４０ｄは、排出部４４に接続されている。

メンテナンス部材４０の上面４０ｅは、凹部４０ａを囲うように封止部材（当接部）４２が設けられている。当該封止部材４２としては、例えばＯリングなどを用いることができる。封止部材４２は、メンテナンス部材４０がヘッド部材３２にアクセスする際に、当該ヘッド部材３２の吐出面３２ａ（図４参照）に当接するようになっている。封止部材４２が吐出面３２ａに当接することで、吐出面３２ａとメンテナンス部材４０の上面４０ｅとの間が隙間無く封止され、ノズル３３の形成領域３３Ａ（図５、図６等参照）上の空間が密閉されるようになっている。

洗浄液供給部４３は、例えば流路４３ａなどを介して孔部４０ｂに接続されている。流路４３ａとしては、例えばチューブなどの管状部材を用いることができる。洗浄液供給部４３は、孔部４０ｂを介して凹部４０ａ内に洗浄液を供給するようになっている。洗浄液供給部４３によって供給される洗浄液は、ヘッド部材３２の吐出面３２ａやノズル３３を洗浄するための液体である。当該洗浄液は、１種類に限られず、複数種類の洗浄液を供給することが可能である。この場合、例えば洗浄液供給部４３が供給する洗浄液を切り替える切替機構を有する構成であっても良い。

排出部４４は、孔部４０ｄを介して凹部４０ａから流出した液状体を収容し排出するようになっている。排出部４４は、収容部４４ａ、ドレイン部４４ｂ及びバルブ４４ｃを有している。収容部４４ａは液状体を収容する部分であり、例えば流路４４ｄを介して孔部４０ｄに接続されている。当該収容部４４ａは、例えば流路４４ｅを介して孔部４０ｃにも接続されている。流路４４ｅには、バルブ４４ｆが設けられている。ドレイン部４４ｂは収容部４４ａ内の液状体を排出する排出口であり、例えば収容部４４ａの底部に設けられている。バルブ４４ｃはドレイン部４４ｂに設けられており、ドレイン部４４ｂにおける液状体の流通量を調節する。流路４４ｄ及び流路４４ｅとしては、例えばチューブなどの管状部材を用いることができる。

吸引部４５は、排出部４４を吸引する部位であり、例えば吸引ポンプなどによって構成されている。吸引部４５は流路４５ａを介して排出部４４の収容部４４ａに接続されており、当該収容部４４ａ内を吸引するようになっている。吸引部４５が収容部４４ａ内を吸引することにより、当該収容部４４ａに接続される凹部４０ａが吸引されるようになっている。凹部４０ａは、孔部４０ｃ及び孔部４０ｄの２箇所の経路を介して吸引されるようになっている。孔部４０ｄを介する経路での吸引について、当該経路は液状体を流出する経路でもあるため、吸引によって液状体の流出が促進されるようになっている。孔部４０ｃを介する経路での吸引について、当該孔部４０ｃに接続される流路４４ｅにバルブ４４ｆが設けられているため、吸引量の調節が可能になっている。凹部４０ａが密閉されている場合、孔部４０ｃを介する経路を用いて吸引することにより、当該密閉空間を吸引することが可能になっている。

（塗布装置の動作）
次に、上記のように構成された塗布装置１の動作を説明する。
まず、制御部７は、搬送ローラ２２の駆動機構を作動させ、搬送ローラ２２を回転させておく。搬送ローラ２２を回転させた後、外部の搬送装置等によって基板Ｓを基板搬入口６ａから基板搬送部２内へ搬入する。搬入後、基板Ｓは、搬送ローラ２２の回転によって搬送方向の下流側に搬送される。搬送中、基板搬入領域ＬＤＲにおいて基板Ｓの搬入処理が完了したか否かが確認され、アライメント領域ＡＬＮにおいて基板Ｓの回転方向の姿勢が規制される。

アライメント処理が完了した後、基板Ｓは塗布領域ＡＰＬに搬送される。塗布領域ＡＰＬでは、板状部材３１ａに設けられたセンサによって基板Ｓが塗布位置ＡＰＰ内に搬送されてきたことが検出されると、各ヘッド部材３２による塗布動作が開始される。制御部７からの信号に基づいてヘッド部材３２内の噴射機構が制御され、当該制御に基づいてノズル３３から液状体が吐出される。吐出された液状体は基板Ｓ上に液滴として付着し、当該液滴が結合されて所定のパターンの薄膜として塗布されることになる。当該塗布動作において基板Ｓに形成する液状体のパターンについては、例えば予め制御部７に記憶させておくことができる。制御部７からの信号により、所望のパターンの薄膜が塗布されることになる。

この塗布動作では、搬送ローラ２２によって基板Ｓが搬送されたまま、液状体が吐出される。塗布装置１は、基板搬送方向の最も上流側に配置されるノズル部３０がＹ軸方向の中央に配置されているため、搬送されてくる基板Ｓに最初に塗布される液状体がＹ軸方向の中央部に配置されることになる。このため、塗布された液状体によって基板Ｓの重心がずれてしまうこともなく、搬送時の基板Ｓの姿勢が安定することになる。

また、他の４箇所のノズル部３０については基板搬送方向の上流側に位置するノズル部３０に対して基板搬送部２のＹ軸方向の側方（端部側）に配置されているため、基板Ｓ上にはＹ軸方向の中央から端部へと液状体が塗布されることになる。このため、搬送時の基板Ｓの姿勢が一層安定することになり、基板Ｓ上に液状体が高精度に塗布されることになる。

メンテナンス部４が設けられる領域には搬送ローラ２２は設けられず、当該領域では基板Ｓに対して搬送力が働かない状態になっている。このような搬送力の働かない部分を密集させると、基板Ｓの搬送速度がＸ軸方向上の位置において異なってしまうため、好ましくない。これに対して、本実施形態では、ノズル部３０がＹ軸方向上に重ならないように配置されているため、当該ノズル部３０の位置に対応して配置されるメンテナンス部４についても基Ｙ軸方向に重ならないように配置されることになる。したがって、搬送力の働かない領域が分散された状態になり、搬送時の基板の姿勢がより安定することになる。

基板Ｓが塗布位置ＡＰＰから退去したら、塗布処理が完了となる。塗布処理が完了した後、基板Ｓはそのまま搬送方向下流側の搬出位置ＵＬＰへ搬送される。搬出位置ＵＬＰにおいて基板Ｓの有無が確認された後、当該基板Ｓは、基板搬出口６ｂを介して基板搬送部２の外側へ搬出される。

例えば塗布装置１を初めて用いる場合、インターバル期間をおいて塗布装置１を用いる場合など、ノズル部３０による液状体の吐出環境が良好でない可能性のある状態から塗布動作を行う場合には、当該ノズル部３０のメンテナンスが必要になる。以下、ノズル部３０のメンテナンス動作を説明する。ノズル部３０のメンテナンス動作には、主として上記のメンテナンス部４が用いられる。

まず、ノズル部３０の吐出環境を改善するためのメンテナンス動作を説明する。図９に示すように、昇降機構４１によってメンテナンス部材４０を上昇させる。メンテナンス部材４０は、メンテナンス動作を行う場合以外は搬送ローラ２２の下方に配置されている。メンテナンス部材４０が搬送ローラ間２２ｂに設けられているため、上昇する際にメンテナンス部材４０と搬送ローラ２２とが接触することは無い。メンテナンス部材４０がノズル部３０に平面視で重なる位置に配置されているため、メンテナンス部材４０を昇降させるだけでノズル部３０にアクセスすることになる。メンテナンス部材４０とノズル部３０との間のＸＹ方向の位置合わせが不要であるため、メンテナンスに要する時間が短縮されることになる。

メンテナンス部材４０の上昇により、上面４０ｅに配置された封止部材４２がヘッド部材３２の吐出面３２ａに当接し、各ノズル３３上の空間が封止部材４２によって封止される。この状態においては、全てのノズル３３がメンテナンス部材４０の凹部４０ａの領域内に配置された状態となる。

次に、図１０に示すように、全てのノズル３３から液状体を吐出させる（捨て打ち）。吐出のインターバル期間が長い場合、液状体がヘッド部材３２の内部で乾燥し、ヘッド部材３２内を流通しにくくなることがある。これに対して、液状体の捨て打ちを行うことにより、乾燥した液状体を吐出させ、ヘッド部材３２内を液状体が流通しやすい状態に戻すことができる。このため、ノズル部３０の吐出環境を良好な状態にすることができる。

この捨て打ち動作においては、ノズル３３の周囲が封止部材４２によって封止されているため、液状体は周囲に飛散することなく凹部４０ａ内に収容される。ノズル３３から吐出された液状体８０は、メンテナンス部材４０の凹部４０ａ内に保持され、例えば排出部４４を作動させることでドレイン部４４ｂから排出させることができる。

次に、塗布装置１の使用期間が長くなると、ヘッド部材３２の吐出面３２ａやノズル３３の先端に固化した液状体や空気中の埃等が付着し、汚れてしまう場合がある。この状態で吐出動作を行うと、例えば付着していた液状体や埃等が基板Ｓに付着してしまう虞がある。このような事態を回避するため、ノズル部３０の洗浄メンテナンスが必要になる。以下、ノズル部３０の洗浄動作を説明する。

まず、図９に示すように、メンテナンス部材４０の上面４０ｅに配置された封止部材４２をヘッド部材３２の吐出面３２ａに当接させ、ノズル３３上の空間を封止部材４２によって封止させる。この動作は、上記捨て打ちの動作で説明したメンテナンス部材４０の動作と同一である。

次に、図１１に示すように、洗浄液供給部４３から孔部４０ｂを介してメンテナンス部材４０の凹部４０ａ内に洗浄液を供給する。洗浄液は凹部４０ａ内に満たされてヘッド部材３２の吐出面３２ａ及びノズル３３を浸し、当該洗浄液によって吐出面３２ａ及びノズル３３が洗浄されることになる。洗浄後、当該洗浄液は孔部４０ｃや孔部４０ｄを介して排出部４４から排出させるようにする。

以上のように、本実施形態によれば、ノズル部３０をメンテナンスするメンテナンス部４が、基板搬送部２のうちノズル部３０に平面視で重なる位置に設けられているので、ノズル部３０とメンテナンス部４との間の平面視での相対位置を変化させること無くノズル部３０のメンテナンスを行うことができる。このため、ノズル部３０のメンテナンスを短時間で行うことができ、スループットへの影響を抑えることができる。これにより、生産性の高い塗布装置１を得ることができる。

本実施形態では、基板搬送部２が基板Ｓを搬送する複数の搬送ローラ２２を有し、メンテナンス部４が搬送ローラ間２２ｂに設けられることとしたので、搬送ローラ間２２ｂのスペースを活用してノズル部３０のメンテナンスを行うことができる。また、本実施形態によれば、ノズル部３０が基板搬送部２上に対して固定されているので、装置稼動時にノズル部３０の移動や位置合わせなどを行う必要が無く、高い生産性を確保することができる。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態においては、洗浄液を供給するための孔部４０ｂをメンテナンス部材４０の＋Ｘ側のみに配置する構成であったが、これに限られることは無く、例えば図１２に示すように、メンテナンス部４０の−Ｙ側に、洗浄液供給のための孔部４０ｆを別途配置する構成としても構わない。この場合、同図に示すように、凹部４０ａ側の孔部４０ｆの開口部がヘッド部材３２に向けられている構成とすることが好ましい。この構成では、洗浄液を凹部４０ａ内に供給したとき、洗浄液の供給圧を調整することによって孔部４０ｆから凹部４０ａ内に洗浄液を噴射させることができる。噴射された洗浄液８２はヘッド部材３２へ向けて飛び出し、ヘッド部材３２に設けられるノズル３３の形成領域３３Ａに沿って凹部４０ａの＋Ｙ側まで移動する。この洗浄液の移動によって、ノズル３３の形成領域３３Ａが洗い流されることになる。このようにすれば、凹部４０ａ内に洗浄液を満たす必要が無く、当該洗浄液を満たすまでの時間を短縮することができると共に、洗浄液を効率的に使用することができる。

また、上記実施形態においては、メンテナンス部４がＹ軸方向に分離された２つの搬送ローラ２２の搬送ローラ間２２ｂに配置された構成であったが、これに限られることは無い。例えばメンテナンス部４の配置として、図１３に示すように、Ｘ軸方向に隣接する搬送ローラ２２の間を搬送ローラ間２２ｃとし、当該搬送ローラ間２２ｃにメンテナンス部４を配置させる構成としても構わない。この場合、例えばメンテナンス部４が設けられる部分における搬送ローラ間２２ｃのＸ軸方向の寸法ｄ１を、メンテナンス部４が設けられない部分における搬送ローラ間２２ｃのＸ軸方向の寸法ｄ２よりも大きくすることが好ましい。搬送ローラ間２２ｃの寸法を全て上記ｄ１と等しくする構成であっても勿論構わない。

また、上記実施形態においては、例えば図１０に示すように、封止部材４２をヘッド部材３２の吐出面３２ａに当接させた状態で捨て打ちを行う例を説明したが、これに限られることは無く、例えば吐出面３２ａとメンテナンス部材４０とを離した状態で捨て打ちを行うようにしても勿論構わない。この場合には、メンテナンス部４０を上昇させる必要が無く、メンテナンス時間を短縮させることができる。

また、上記実施形態においては、搬送機構２０として複数の搬送ローラ２２を備えた構成として説明したが、これに限られることは無く、例えば基板Ｓを浮上させて搬送する構成であっても構わない。この場合、例えば図１４に示すように、基板Ｓの搬送機構として複数のブロック部材８５を用いることができる。当該ブロック部材８５は、気体の噴出口８６が複数設けられており、当該噴出口８６には不図示の気体供給機構が接続されている。当該搬送機構２０においては、噴出口８６から噴出される気体によって基板Ｓを浮上させることができるようになっている。これに加えて、浮上させた基板Ｓを保持して移動することで基板Ｓを搬送する不図示の搬送装置が別途設けられている。図１４に示す構成においては、当該搬送機構２０においては、例えばノズル部３０に平面視で重なる位置に隙間８７が形成されるようにブロック部材８５が配列されている。この隙間８７には、上記実施形態に記載のメンテナンス部４が配置されている。このように、基板搬送部２が基板Ｓに気体を噴出して浮上させる複数の噴出口８６を有し、メンテナンス部４が噴出口８６の間に設けられる構成としても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。この他、基板Ｓの搬送機構としては、基板Ｓを水平に移動させることができる機構であればベルトコンベア等他の搬送機構を用いることができ、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。

また、上記実施形態では、吸引部４５の説明において、メンテナンス部材４０の凹部４０ａ内に保持された液状体及び洗浄液を吸引部４５によって排出促進させる例を説明したが、これに限られることは無い。例えば、図１５に示すように、液状体の供給源４６をヘッド部材３２に接続させて当該ヘッド部材３２の内部に液状体を充填させる際にメンテナンス部４を用いることができる。具体的には、封止部材４２をヘッド部材３２の吐出面３２ａに当接させることでノズル３３上の空間を密閉させ、当該密閉空間を吸引部４５によって吸引する。ヘッド部材３２において、ノズル３３の内外で圧力差が生じ、液状体の供給源４６からノズル３３側へヘッド部材３２内を液状体が移動することになる。液状体をこのように移動させることによって、ヘッド部材３２内に液状体を充填させることができる。

また、上記実施形態においては、５箇所のノズル部３０に設けられるそれぞれのヘッド部材３２はすべて同一の構成であるとしたが、これに限られることは無く、例えば寸法やノズル３３の個数、配列など、構成の異なるヘッド部材を配置するようにしても勿論構わない。この場合、メンテナンス部同士の構成については、ヘッド部材の構成に合わせて互いに異なる構成としても良いし、同一の構成としても良い。

また、ノズル部３０の配置としては、上記実施形態で説明した配置に限られることは無く、他の配置であっても勿論構わない。ノズル部３０の配置を他の配置にする場合には、メンテナンス部４についても当該ノズル部３０の配置に併せて配置させるようにすることが必要である。

また、上記実施形態においては、アライメント領域ＡＬＮにおいて当接部材２６を用いてアライメントを行う構成であったが、これに限られることは無く、当接部材２６を設ける代わりに例えば基板ＳのＺ軸周りの回転方向の姿勢を検出するセンサを設けても構わない。当該センサによって検出される基板Ｓの姿勢のデータは例えば制御部７に送信されるようにしておき、制御部７では基板Ｓの姿勢に応じてノズル３３の吐出位置を変化させるようにしておく。当該センサを配置する場合、例えば基板Ｓの＋Ｘ側の辺及び＋Ｙ側（又は−Ｙ側）の辺の２辺の位置を検出できるように光学的センサを配置させる構成が挙げられる。具体的には、アライメント位置ＡＬＰの＋Ｘ側及び＋Ｙ側（又は−Ｙ側）の２箇所に光学的センサを配置させる構成とすることができる。この構成によれば、基板ＳのＺ軸周りの回転方向の姿勢がずれている場合であっても、当該姿勢に応じてノズル３３の吐出位置が調節されるので、基板Ｓ上に液状体を正確に配置することができる。また、当接部材２６を用いてアライメントを行う場合には、当接部材２６の配置は上記実施形態で示した構成に限られることは無く、基板Ｓの他の辺に当接するように配置しても勿論構わない。

また、上記実施形態においては、メンテナンス部材４０に複数の孔部４０ｂ〜４０ｄ（４０ｆ）を配置する構成としたが、例えばこれらの孔部のうちいくつかを兼用する構成としても構わない。例えばメンテナンス部材４０に孔部を１つだけ形成して当該１つの孔部に洗浄液供給部４３、排出部４４及び吸引部４５を接続し、これらを切り替えて用いることができる構成であっても構わない。

また、上記実施形態においては、メンテナンス部材４０が昇降機構４１、封止部材４２、洗浄液供給部４３、排出部４４及び吸引部４５を有する構成としたが、これらの各部を全て有する構成に限られず、上記各部のうち一部のみを有する構成であっても勿論構わない。

また、上記実施形態においては、ノズル部３０が基板搬送部２に対して固定された構成であったが、これに限られることは無く、例えばノズル３０と基板搬送部２とを相対的に移動可能に設けられた構成であっても、本発明の適用は可能である。例えばノズル部３０を固定させ基板搬送部２を移動させる構成の場合、メンテナンス部４の平面視での位置はノズル部３０に平面視で重なる位置に固定させておくことができる。また、例えばノズル部３０を移動させ基板搬送部２を固定させる場合には、メンテナンス部４の位置はノズル部３０の移動領域内に固定させる構成であっても構わないし、メンテナンス部４をノズルと共に移動させる構成であっても構わない。

本発明の実施の形態に係る塗布装置の構成を示す平面図。 本実施形態に係る塗布装置の構成を示す正面図。 本実施形態に係る塗布装置の構成を示す側面図（上流側）。 本実施形態に係る塗布装置のノズル部の構成を示す斜視図。 本実施形態に係る塗布装置の一部の構成を示す平面図。 本実施形態に係る塗布装置の一部の構成を示す平面図。 本実施形態に係る塗布装置のメンテナンス部の構成を示す斜視図。 本実施形態に係るメンテナンス部の構成を示す断面図。 本実施形態に係る塗布装置の動作を示す図。 同、動作図。 同、動作図。 本発明に係る塗布装置のメンテナンス部の他の構成を示す側面図。 本発明に係る塗布装置の基板搬送部の他の構成を示す平面図。 本発明に係る塗布装置の基板搬送部の他の構成を示す平面図。 本発明に係る塗布装置のメンテナンス部の他の構成を示す正面図。

符号の説明

Ｓ…基板 １…塗布装置 ２…基板搬送部 ３…塗布部 ４…メンテナンス部 ７…制御部 ２０…搬送機構 ２２…搬送ローラ ２２ｂ、２２ｃ…搬送ローラ間 ２６…当接部材 ３０…ノズル部 ３３…ノズル ４０…メンテナンス部材 ４１…昇降機構 ４２…封止部材 ４３…洗浄液供給部 ４４…排出部 ４５…吸引部 ４６…供給源 ８０…液状体 ８２…洗浄液 ８５…ブロック部材 ８６…噴出口 ８７…隙間

Claims (24)

1. 基板に液状体を塗布する塗布装置であって、
   前記基板を搬送する基板搬送部と、
   前記基板搬送部上に設けられ、前記基板へ向けて前記液状体を吐出するノズルを有するノズル部と、
   前記基板搬送部のうち前記ノズル部に平面視で重なる位置に設けられ、前記ノズル部をメンテナンスするメンテナンス部と
   を備えることを特徴とする塗布装置。
2. 前記ノズル部は、前記基板搬送部上に固定されている
   ことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記基板搬送部は、前記基板を搬送する複数の搬送ローラを有し、
   前記メンテナンス部は、搬送ローラ間に設けられる
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記搬送ローラ間は、前記基板の搬送方向に並んだ前記搬送ローラの間である
   ことを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。
5. 前記搬送ローラ間は、前記基板の搬送方向の直交方向に並んだ前記搬送ローラの間である
   ことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の塗布装置。
6. 前記メンテナンス部が設けられる前記搬送ローラ間は、前記メンテナンス部が設けられない前記搬送ローラ間に比べて広くなっている
   ことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の塗布装置。
7. 前記基板搬送部は、前記基板に気体を噴出して浮上させる複数の気体噴出部を有し、
   前記メンテナンス部は、複数の前記気体噴出部の間に設けられる
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
8. 前記メンテナンス部は、前記ノズルから吐出された前記液状体を保持する保持部を有する
   ことを特徴とする請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
9. 前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有する
   ことを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
10. 前記メンテナンス部は、前記ノズル部にアクセス可能となるように当該メンテナンス部を移動させる移動部を有する
    ことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の塗布装置。
11. 前記メンテナンス部は、前記ノズル部にアクセスした状態において前記ノズル部に当接し前記メンテナンス部と前記ノズル部との間の空間を密閉させる当接部を有する
    ことを特徴とする請求項１０に記載の塗布装置。
12. 前記メンテナンス部は、前記ノズル部を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給部を有する
    ことを特徴とする請求項８から請求項１１のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
13. 前記保持部は、前記洗浄液を保持する
    ことを特徴とする請求項１２に記載の塗布装置。
14. 前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有し、
    前記排出部は、前記洗浄液を排出する
    ことを特徴とする請求項１２に記載の塗布装置。
15. 前記メンテナンス部は、前記ノズル部との間の空間を吸引可能な吸引部を有する
    ことを特徴とする請求項８から請求項１４のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
16. 前記ノズル部は、前記メンテナンス部を介して当該ノズル部に前記液状体を充填させる
    ことを特徴とする請求項１５に記載の塗布装置。
17. 前記メンテナンス部は、保持された前記液状体を排出する排出部を有し、
    前記吸引部は、前記排出部に設けられている
    ことを特徴とする請求項１５に記載の塗布装置。
18. 前記基板搬送部は、搬送される前記基板と前記ノズルから吐出される前記液状体の吐出位置とのズレを補正する補正部を有する
    ことを特徴とする請求項１から請求項１７のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
19. 前記補正部は、
    前記基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を検出する検出部と、
    前記検出機構の検出結果に基づいて前記液状体の吐出位置を調整する調整部と
    を有することを特徴とする請求項１５に記載の塗布装置。
20. 前記補正部は、前記基板に当接することで前記基板の位置及び姿勢のうち少なくとも一方を規制する規制部を有する
    ことを特徴とする請求項１９に記載の塗布装置。
21. 前記ノズル部は、複数配置されている
    ことを特徴とする請求項１から請求項２０のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
22. 複数の前記ノズル部のうち前記基板の搬送方向の最も上流側に配置されるノズル部は、平面視で前記搬送方向の直交方向の中央に配置される
    ことを特徴とする請求項２１に記載の塗布装置。
23. 複数の前記ノズル部は、前記基板の搬送方向の上流側に位置するノズル部に対して前記搬送方向に対する前記基板搬送部の側方に配置される
    ことを特徴とする請求項２２に記載の塗布装置。
24. 複数の前記ノズル部は、前記基板の搬送方向の直交方向に重ならないように配置される
    ことを特徴とする請求項２１から請求項２３のうちいずれか一項に記載の塗布装置。

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