JP2009536373A - 光学レンズ系 - Google Patents

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Abstract

【課題】光学レンズ系、及び関連のマイクロリソグラフィシステム及び方法を提供する。
【解決手段】一般的に、一態様では、本発明は、複数の水銀輝線の放射を放出するように構成された水銀光源、水銀光源によって放出された放射を受光するように位置決めされた投影対物レンズ、及び投影対物レンズに対してウェーハを位置決めするように構成された台を含むシステムを特徴とする。作動中に、投影対物レンズは、光源からウェーハへ放射を方向付けし、ウェーハでの放射は、1つよりも多い輝線からのエネルギを含む。投影対物レンズに使用するための光学レンズ系を開示する。
【選択図】図6

Description

関連出願への相互参照
本出願は、2006年5月5日出願の「光学レンズ系」という名称の米国特許仮出願第60/798、157号に対する優先権を請求し、かつ2006年8月17日出願の「光学レンズ系」という名称の米国特許仮出願第60/838、213号に対する優先権を請求するものである。両方の米国特許仮出願の全内容は、引用によって本明細書に組み込まれている。
本発明の開示は、光学レンズ系、及び関連のマイクロリソグラフィシステム及び方法に関する。
光学レンズ系は、光学的放射を方向付けるために用いることができる。光学レンズ系は、放射を物体から像領域へ方向付けし、それによって像領域に物体の像を形成する結像系とすることができる。ある一定の用途では、光学レンズ系は、マイクロリソグラフィシステムにおいて用いることができる。例えば、光学レンズ系は、マスク像を基板上の感光層(例えば、フォトレジスト)上に投影するために用いることができる。
米国特許仮出願第60/798、157号 米国特許仮出願第60/838、213号 Michael J.Kidger著「基礎光学デザイン」、第2章、「SPIE Press」、2002年 M.J.Kidger著「基礎光学デザイン」、p7
ある一定の態様では、本発明の開示は、比較的低い縦色収差(例えば、比較的低い1次及び/又は2次の縦色収差)を有するように設計された結像光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、少なくとも2つの異なる材料から形成されたレンズを含む。一部の実施形態は、少なくとも3つの異なる材料から形成されたレンズを特徴とする。各レンズの配置及びデザインは、低い縦色収差に加えて、光学レンズ系が、比較的低い像面湾曲、比較的低い横色収差(例えば、1次及び/又は2次の横色収差)のような他の好ましい結像特性を有するように選択される。実施形態は、水銀光源のi−、h−、及びg−輝線に対応する波長の放射を結像させるように設計された結像光学系を含む。
一般的に、第1の態様では、本発明は、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第1のレンズ群、光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第2のレンズ群、光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第3のレンズ群、並びに光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第4のレンズ群を含む。第1、第2、第3、及び第4のレンズ群の各々における第1及び第2のレンズは、シリカを含む。第1、第2、第3、及び第4のレンズ群は、光軸に直角な平面に関して対称に位置決めされる。第1のレンズ群は、放射に対して第1の色収差を有する。第2のレンズ群は、放射に対して第2の色収差を有する。第2の色収差のマグニチュードと第1の色収差のマグニチュードの間の差は、約λよりも小さい。第2の色収差の符号は、第1の色収差の符号と反対である。光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の一部分を形成する。
一般的に、別の態様では、本発明は、放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第1のレンズ群、及び光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第2のレンズ群を含む。第1のレンズ群は、放射に対して第1の色収差を有する。第2のレンズ群は、放射に対して第2の色収差を有する。放射は、波長λを含み、第2の色収差のマグニチュードと第1の色収差のマグニチュードの間の差は、約λよりも小さい。光学レンズ系は、波長λの放射を像領域に結像し、第2の色収差の符号は、第1の色収差の符号と反対である。光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の一部分を形成し、第1のレンズ群は、像領域における波長λの像の湾曲をマイクロリソグラフィ光学レンズ系の像領域におけるマイクロリソグラフィ光学レンズ系の焦点深度未満に低減する。
一般的に、別の態様では、本発明は、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた正の屈折力を有する第1のレンズ群と、第1のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされて正の屈折力を有し、第1のダブレット及び第2のダブレットを含み、第1のダブレットが第1の材料から形成されたレンズ及び第2の材料から形成されたレンズを含み、第1及び第2の材料がλにおいて異なる分散を有する第2のレンズ群と、第2のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされて正の屈折力を有し、第1のダブレット及び第2のダブレットを含み、第1のダブレットが第3の材料から形成されたレンズ及び第4の材料から形成されたレンズを含み、第3及び第4の材料がλにおいて異なる分散を有する第3のレンズ群と、第3のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた正の屈折力を有する第4のレンズ群とを含む。第2のレンズ群の第1及び第2のダブレットは、光軸に対して直角な平面に関して第3のレンズ群の第1及び第2のダブレットと対称に配置される。光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する。
一般的に、更に別の態様では、本発明は、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた正の屈折力を有する第1のレンズ群と、第1の値の正の屈折力を有し、第1のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされ、第1の材料から形成されたレンズ、第2の材料から形成されたレンズ、及び第3の材料から形成されたレンズを含み、第1、第2、及び第3の材料がλにおいて異なる分散を有する第2のレンズ群と、正の屈折力を有し、第2のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた第3のレンズ群と、第3のレンズ群と像領域の間に光軸に沿って位置決めされて正の屈折力を有する第4のレンズ群とを含む。第2のレンズ群のレンズは、光学レンズ系の瞳平面に関して第3のレンズ群のレンズと対称に配置される。光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する。
一般的に、更に別の態様では、本発明は、波長λ及びλ’の放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた複数のレンズを含み、光学レンズ系のレンズの全数の少なくとも半分は、溶融シリカから形成され、|λ−λ’|≧20nmであり、光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する。
一般的に、更に別の態様では、本発明は、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光軸を有する光学レンズ系を特徴とする。光学レンズ系は、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた複数のレンズを含む。光学レンズ系は、0.2又はそれ未満の最大開口数、及び0.33未満のΓ比を有し、かつ光学レンズ系は、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する。
一般的に、別の態様では、本発明は、複数の水銀輝線の放射を放出するように構成された水銀光源と、水銀光源によって放出された放射を受光するように位置決めされた投影対物レンズと、投影対物レンズに対してウェーハを位置決めするように構成された台とを含むシステムを特徴とする。作動中には、投影対物レンズは、光源からウェーハへと放射を方向付けし、ウェーハでの放射は、輝線の1つよりも多くからのエネルギを含む。
実施形態は、以下の利点のうちの1つ又はそれよりも多くを含むことができる。例えば、本明細書に開示する光学レンズ系は、フォトリソグラフィツールにおける投影レンズとして用いることができ、ウェーハを1つよりも多くの波長の放射に露光させることができる。従って、放射源の放出波長の僅か1つの放射にウェーハを露光する系に比較して、1つよりも多くの波長の放射を放出する放射源をより効率的に用いることができる。その結果、そのような単一波長の系に比較して、より高い電力の露光を用いることができる。逆に、より高い電力の露光は、露光時間を短縮し、リソグラフィツールの収量を高めることができる。
実施形態は、1つよりも多くの波長(例えば、2つ又は3つの波長)で低い色収差及び他の望ましい結像特性を示し、かつ比較的少数の異なる材料から作成された構成要素を利用するデザインを含む。例えば、実施形態は、2つのみの異なる種類の材料の一方で構成されたレンズから形成された光学レンズ系を含む。また、3つのみの異なる種類の材料のうちの1つで構成されたレンズを含む実施形態も開示する。実施形態においては、材料は、全て市販で入手可能であり、個々のレンズのデザインは、製造可能である。異なる材料のレンズを含むある一定の実施形態では、大部分のレンズは、フォトリソグラフィ投影対物レンズに用いるのに十分な品質で市販で容易に入手可能な材料から形成することができる。例えば、一部の実施形態では、大部分(例えば、少なくとも半分)のレンズは、溶融シリカから形成することができる。
また、実施形態は、レンズ加熱効果に対して比較的低い感受性を有する光学レンズ系を含む。投影対物レンズの結像特性に対するレンズ加熱効果は、結像放射がレンズを不均一に照らす位置で低減した数のレンズを含むレンズ配置を用いることによって低減することができる。加熱効果に対する低い感受性は、能動制御なしに達成することができ、結像誤差のこの発生源を低減する経済的な手法を提供する。
従って、1つよりも多くの波長で有用な投影対物レンズのための商業的に実用性のあるデザインを開示する。
他の特徴及び利点は、本明細書の説明、図面、及び特許請求の範囲から明らかになるであろう。
様々な図面の同じ参照記号は、同じ要素を表している。
図1は、光源18から物品16に放射を方向付けるための光学レンズ系2の実施形態の概略図である。光学レンズ系2は、各々が光学レンズ系2の光軸8に沿って位置決めされた第1のレンズ群10及び第2のレンズ群12を含む。光源18は、光源平面4から光軸8に沿って第1のレンズ群10及び続く第2のレンズ群12を通過して出力平面6に伝播する光源放射14を供給する。物品16は、放射を受光するように出力平面6内又はその近くに位置決めすることができる。
出力平面6は、光学レンズ系2の焦点面とすることができる。代替的に、出力平面6は、光学レンズ系2の像平面又は光学レンズ系2に関する別の種類の平面とすることができる。例えば、光学レンズ系2は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の一部分(例えば、マイクロリソグラフィ光学投影レンズ系の一部分)を形成することができ、光源平面4は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の対物面であり、対物面6は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の像平面である。対物面6内又はその近くに位置決めされた物品16は、ウェーハのような基板とすることができる。
また、光学レンズ系2は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の開口を形成するための開口絞りのような要素24を含むことができる。要素24は、開口を形成するために、光軸8に沿った位置に位置決めすることができる。例えば、一部の実施形態では、要素24は、第2のレンズ群12内に位置決めすることができる。ある一定の実施形態では、要素24は、出力平面6に隣接して位置決めすることができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系2は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の照明開口を形成するために、可調節マスク又は絞りのような開口(示していない)を含むことができる。例えば、開口は、マイクロリソグラフィ光学レンズ系に双極照明、四重極照明、環状照明、又は別種の照明を供給するために用いることができる。
光源18によって供給される光源放射14は、ある一定の分布の放射波長成分を含む。この分布は、中心波長λ及び半値全幅のスペクトル帯域幅Δλを有する。光学系では、色収差は、光学構成要素内での分散(例えば、各構成要素における屈折率のλによる変化)に起因して発生する。一般的に、光源放射14のスペクトル帯域幅Δλが大きい程、光学系における色収差のマグニチュードは増大する。
色収差は、光源放射14のスペクトル帯域幅Δλ内の3つの波長成分の光軸8に沿った焦点位置を用いて説明することができる。そのような色収差は、光軸に対して直角方向の異なる波長の焦点位置変化を意味する横色収差に対して縦色収差とも呼ばれる。3つの波長成分は、λ1<λ2<λ3になるように波長λ1、λ2、及びλ3を有する。例えば、一部の実施形態では、光源放射は、電磁スペクトルの可視及び近UV領域内の波長を有する放射を含むことができ、波長λ1、λ2、及びλ3は、水銀原子の放出スペクトル内のi、h、及びgスペクトル線に対応するものとすることができる。水銀スペクトルのi線は、365.01nmの波長を有し、h線は、404.65nmの波長を有し、g線は、435.84nmの波長を有する。
色収差のマグニチュードは、光源放射14内の波長成分を合焦させる光軸8に沿った焦点領域の最大距離を意味する。例えば、スペクトル帯域幅Δλにわたる光源放射14内の波長成分は、様々なレンズ材料の波長依存分散に起因して光軸8に沿って異なる位置に合焦される。光源放射14の波長成分の中の1つの成分は、光学レンズ系により、あらゆる他の波長成分の焦点位置よりも光学レンズ系に近い光軸8に沿った位置に合焦されることになる。別の波長成分は、光学レンズ系により、あらゆる他の波長成分の焦点位置よりも光学レンズ系から遠く離れた光軸8に沿った位置に合焦されることになる。光源放射14の波長成分の最も近い焦点位置と最も遠い焦点位置の間の光軸8に沿った距離は、光源放射14における光学レンズ系の色収差のマグニチュードである。光源放射14の中心波長λの光軸8に沿った焦点位置は、焦点領域内にある出力平面6の位置を定める。
色収差の符号は、光軸8に沿ったレンズ系の焦点領域内での波長成分λ1及びλ2の相対順序を意味する。例えば、レンズ材料内での正常光学分散は、短い波長の光学放射成分が、長い波長の光学放射成分よりも光軸8に沿ってレンズ系に近い位置に合焦することを引き起こす。波長λ3を有する放射の光軸8に沿った焦点位置よりも光軸8に沿ってレンズ系に近い位置に合焦する波長λ1を有する放射をもたらす色収差は、正の色収差と呼ばれる。一方、負の色収差は、波長λ3を有する放射が、波長λ1を有する放射の光軸8に沿った焦点位置よりも光軸8に沿ってレンズ系に近い位置に合焦することを引き起こす。
本明細書に開示する光学系により、様々な種類の色収差を補正することができる。第1の種類の色収差は、波長λ1を有する光学放射成分と波長λ3を有する光学放射成分の間の光軸108に沿った焦点位置の差を意味する1次の色収差である。光学レンズ系2は、第1のレンズ群10及び第2のレンズ群12からの1次の色収差への寄与を選択的に調節することにより、1次の色収差を補正するように構成することができる。1次の色収差が完全に補償されると、波長λ1及びλ3を有する光学放射成分は、光学レンズ系2によって光軸8に沿った共通位置に合焦される。
第2の種類の色収差は、波長λ1及びλ3の共通焦点と波長λ2を有する光学的放射の間の焦点位置の差を意味する2次の色収差である。2次の色収差は、材料、距離、及びレンズ寸法の適切な選択を通じて光学レンズ系2によって同様に補償することができる。2次の色収差が完全に補償されると、波長λ1、λ2、及びλ3を有する光学放射成分は、光学レンズ系2によって光軸8に沿った共通位置に合焦される。
高次の色収差も同様に存在する可能性があり、光学レンズ系2の一部の実施形態は、これらの高次の収差を補正するように構成することができる。例えば、ある一定の実施形態では、光学レンズ系2は、3次の色収差を補正することができる。3次の色収差が完全に補償されると、4つの異なる波長を有する光学放射成分は、光学レンズ系2により、光軸8に沿った共通位置へと各々合焦される。一般的に、レンズ系の色収差は、1次の色収差、2次の色収差、及び高次の色収差(例えば、3次の色収差)を含む。
第1のレンズ群10及び第2のレンズ群12は、出力平面6に対して光学レンズ系2の選択された色収差を与えるように構成される。第1のレンズ群10は、1つ又はそれよりも多くのレンズを含む。第1のレンズ群10の各個々のレンズは、色収差を発生させる。第1のレンズ群10のレンズにおける寸法、間隔、及び材料は、第1のレンズ群10において特定のマグニチュードの第1の色収差を発生させるように選択される。第2のレンズ群12は、第2のレンズ群12において特定のマグニチュードの第2の色収差を発生させるように構成された2つ又はそれよりも多くのレンズを含む。ある一定の実施形態では、第2のレンズ群12内のレンズにおける寸法、間隔、及び材料は、第1の色収差のマグニチュードと第2の色収差のマグニチュードの間の差が、光源放射14の波長よりも短く(例えば、λよりも短く)なるように選択される。更に、第2のレンズ群12は、第2の色収差が、第1の色収差の符号と反対の符号を有するように構成される。すなわち、第2の色収差は、第1の色収差を補償するように選択することができる。
ある一定の実施形態では、波長λ1、λ2、及びλ3を有する光学放射成分が、実質的に共通の焦点面、例えば、出力平面6に合焦されるように合計色収差のマグニチュードを選択することができる。一部の実施形態では、波長λ1、λ2、及びλ3を有する近軸光線のみを共通焦点面に合焦させることができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系2の色収差のマグニチュードは、第1のレンズ群10と第2のレンズ群12の間の光軸8に沿った距離dに従って変更することができる。距離dは、出力平面6に対して光学レンズ系2の特定のマグニチュードの色収差を発生させるように選択することができる。例えば、dは、出力平面6に対する光学レンズ系2の色収差のマグニチュードが、約光源放射14の波長よりも短いように選択することができる。一部の実施形態では、dは、約5センチメートル又はそれよりも大きい(例えば、約10センチメートル又はそれよりも大きく、約15センチメートル又はそれよりも大きく、約20センチメートル又はそれよりも大きい)とすることができる。
一般的に、第1のレンズ群10は、様々な構成を有することができ、様々なレンズを含むことができる。例えば、一部の実施形態では、第1のレンズ群10は、3つのレンズ、4つのレンズ、5つのレンズ、又は5つよりも多くのレンズのような2つ又はそれよりも多くのレンズを含むことができる。例えば、ある一定の実施形態では、第1のレンズ群10は、1つのみのレンズを含むことができる。レンズの各々は、凹面、凸面、又は凹凸両方の表面を有することができる。
また、第2のレンズ群12も様々な構成を有することができ、様々なレンズを含むことができる。一般的に、第2のレンズ群12は、2つ又はそれよりも多くのレンズ、例えば、3つのレンズ、4つのレンズ、5つのレンズ、又は5つよいも多くのレンズを含む。レンズの各々は、凹面、凸面、又は凹凸両方の表面を有することができる。
一部の実施形態では、第1のレンズ群のレンズの最大直径は、第2のレンズ群のレンズの最大直径よりも少なくとも1.5倍大きい。例えば、第1のレンズ群のレンズの最大直径は、第2のレンズ群のレンズの最大直径よりも少なくとも2倍(例えば、少なくとも約3倍、少なくとも約4倍)とすることができる。第1のレンズ群のレンズの最大直径は、例えば、光学レンズ系2が、光源18によって供給される大きな直径の光学視野を受け入れることができるように選択することができる。
一部の実施形態では、第1のレンズ群10の主平面と第2のレンズ群12の第1のレンズとの間の距離は、第1のレンズ群の焦点距離よりも長い。主平面は、例えば、Michael J.Kidger著「基礎光学デザイン」、第2章、「SPIE Press」、2002年において説明されている。第1のレンズ群10の主平面は、以下の通りに判断することができる。光軸8に対して平行に伝播する光源平面4からの近軸光線は、第1のレンズ群10に入射する。第1のレンズ群10は、光線が、光軸8に対してある一定の角度で第1のレンズ群10から現れるように光線を合焦させる。この光線は、光軸8のある一定の点に合焦される。合焦された光線を逆方向に投影し、光源の光線を順方向に投影することにより、光線間の交点が判断される。交点を通じて光軸8に対して直角に延びる平面が光学系の主平面である。
第1のレンズ群10の主平面30を図1に示している。主平面30と第2のレンズ群12の第1のレンズとの間の距離pは、第1のレンズ群10の焦点距離fよりも長い。一般的に、pは、fよりも少なくとも約5%長い(例えば、fよりも少なくとも約10%長い、fよりも少なくとも約20%長い、fよりも少なくとも約40%長い、fよりも少なくとも約60%長い、fよりも少なくとも約80%長い)とすることができる。
ある一定の実施形態では、第1のレンズ群10において光源平面4に最も近く(光軸8に沿って測定して)、光源平面4に対面するレンズの表面は、凹面とすることができる。凹面は、130mm未満、例えば、120mm未満、110mm未満、100mm未満、90mm未満、70mm未満、50mm未満の曲率半径を有することができる。他の実施形態では、第1のレンズ群10において光軸8に沿って光源平面4に最も近く、光源平面4に対面するレンズの表面は、凸面とすることができる。例えば、一部の実施形態では、凹又は凸レンズ表面の曲率半径は、130mmよりも大きいとすることができる。
一部の実施形態では、第1のレンズ群10において要素24に最も近く(光軸8に沿って測定して)、要素24に対面するレンズの表面は、凹面とすることができる。凹面は、130mm未満、例えば、120mm未満、110mm未満、100mm未満、90mm未満、70mm未満、50mm未満の曲率半径を有することができる。他の実施形態では、第1のレンズ群10において光軸8に沿って要素24に最も近く、要素24に対面するレンズの表面は、凸面とすることができる。例えば、一部の実施形態では、凹又は凸レンズ表面の曲率半径は、130mmよりも大きいとすることができる。
ある一定の実施形態では、第1のレンズ群10は、負の屈折力を有する第1のレンズ小群と正の屈折力を有する第2のレンズ小群とに分割することができる。例えば、第1及び第2のレンズ小群の各々は、1つ又はそれよりも多くのレンズを含むことができる。第1のレンズ小群は、第2のレンズ小群から光学的に上流に位置決めすることができ、すなわち、第1のレンズ小群は、光源平面4と第2のレンズ小群の間に位置決めすることができる。
光源放射14は、光軸8を横断する1つ又はそれよりも多くの方向に空間強度変調を有することができる。空間強度変調は、光源パターンを形成することができる。例えば、光源パターンは、マイクロリソグラフィのマスク又はレチクルの像とすることができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系2は、光源パターンを光源平面4から出力平面6へと伝達し、出力平面6内に光源パターンの像を形成するように構成することができる。例えば、この像は、基板を露光するのに用いることができる。
一般的に、レンズは、光源平面4からの放射を出力平面ではなく出力表面に合焦させる。一般的に、出力表面は、レンズの寸法、材料、及び配置によって判断される曲率半径を有する曲面である。光学レンズ系2が、光源パターンを光源平面4から伝達し、出力平面6内に光源パターン像を形成するように構成された場合には、光源パターン像は、湾曲した出力表面内に形成することができる。像の湾曲は、湾曲した出力表面内の像の中心の位置と、湾曲した出力表面内の像の縁上の点の位置との間の光軸8に対して平行方向に測定された差として定められる。一部の実施形態では、第1のレンズ群10は、像の湾曲が光学レンズ系2の焦点深度未満になるように構成することができ、ここで、焦点深度は、光源パターンの像が合焦されている光軸8に対して平行方向に測定した距離である。
光学レンズ系2が結像系である場合には、光学レンズ系2の倍率Mは、出力平面6内の対応する光源パターン像の寸法に対する光源平面4内の光源パターンの光軸8の横断平面内での寸法比率として定められる。ある一定の実施形態では、Mは、1とすることができる。一部の実施形態では、Mは、1よりも大きいものとすることができる。例えば、Mは、少なくとも約2(例えば、少なくとも約3、少なくとも約4、少なくとも約5、少なくとも約10)とすることができる。本明細書に用いる1よりも大きいMを有する光学レンズ系2は、縮小光学レンズ系であり、例えば、出力平面6内の光源パターン像は、光源平面4内の光源パターンよりも小さい。
ある一定の実施形態では、光学レンズ系2は、テレセントリックとすることができる。すなわち、光学レンズ系2は、光軸8に沿って第1及び第2のレンズ群10及び12を光源平面4に対して平行移動することにより、第1のレンズ群10と光源平面4の間の距離を変更しても、光学レンズ系2の倍率Mが実質的に変化せずに出力平面6内に光源放射14の像が生成されるように構成することができる。光軸8に沿って第1及び第2のレンズ群10及び12を光源平面4に対して平行移動することにより、光源平面4に対する出力平面6の位置を光学レンズ系2の倍率Mを著しく変化させることなしに選択することができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系2は、系の倍率Mを調節するためのマニピュレータ(示していない)を含むことができる。ある一定の実施形態では、マニピュレータは、光学レンズ系2内の様々なレンズ位置を調節するのに用いることができる1つ又はそれよりも多くの可動構成要素に結合されたアクチュエータ(例えば、圧電アクチュエータ、軸線方向に移動する回転シャフトを有するモータのような電気機械アクチュエータ、又は別種のアクチュエータ)とすることができる。例えば、マニピュレータは、1つ又はそれよりも多くのレンズを支持するように構成されて可動台に取り付けられたレンズマウントを含むことができる。レンズマウントは、第1のレンズ群10又は第2のレンズ群12のうちの1つ又はそれよりも多くのレンズを支持するように位置決めすることができる。レンズマウントは、光軸8の方向に沿って手動又は自動のいずれかで平行移動させることができる。例えば、可動台は、コンピュータによって制御されるモータによって平行移動させることができる。可動台のコンピュータ制御は、受動的なもの(例えば、光学レンズ系2の構築中)及び/又は能動的なもの(例えば、光学レンズ系2の作動中)とすることができる。
一部の実施形態では、第1のレンズ群10及び第2のレンズ群12のレンズの寸法、材料、及び配置は、光学レンズ系2に特定の開口数をもたらすように選択することができる。例えば、光学レンズ系2の開口数は、出力平面6において少なくとも約0.1(例えば、少なくとも約0.15、少なくとも約0.2、少なくとも約0.25、少なくとも約0.5)とすることができる。
光源放射14の視野サイズは、光軸8を横断する平面内のある方向に沿って測定された出力平面6内での光源放射14の強度分布の半値全幅として定められる。一部の実施形態では、最大視野サイズは、約10ミリメートル又はそれよりも大きいとすることができる。例えば、最大視野サイズは、約20ミリメートル又はそれよりも大きい(例えば、約30ミリメートル又はそれよりも大きく、約50ミリメートル又はそれよりも大きく、約8Oミリメートル又はそれよりも大きく、約90ミリメートル又はそれよりも大きく、約100ミリメートル又はそれよりも大きく、約120ミリメートル又はそれよりも大きい)とすることができる。ある一定の実施形態では、光源放射14は、光軸8を横断する平面内に実質的に円形の強度分布を有する。例えば、他の実施形態では、光源放射14の横断強度分布は、楕円のような非円形形状を有する。
光学レンズ系2の長さLは、光学レンズ系2内のいずれか2つのレンズ間の光軸8に沿った最大距離として定められる。一部の実施形態では、Lは、約10メートル又はそれ未満(例えば、約5メートル又はそれ未満、約4メートル又はそれ未満、約3メートル又はそれ未満、約2メートル又はそれ未満、約1メートル又はそれ未満)とすることができる。
一部の実施形態では、長さLは、光源放射14の最大視野サイズの約20倍又はそれ未満である。例えば、長さLは、光源放射14の最大視野サイズの約16倍又はそれ未満(例えば、約14倍又はそれ未満、約12倍又はそれ未満、約10倍又はそれ未満、約8倍又はそれ未満、約6倍又はそれ未満)とすることができる。
光学レンズ系2内のレンズは、球面又は非球面表面を有することができる。一般的に非球面表面は、球面レンズ表面のみを有する光学レンズ系に関するある一定の結像収差を排除又は低減するように選択された寸法を有することができる。例えば、光学レンズ系2は、非球面表面を有する少なくとも1つのレンズを含むことができる。ある一定の実施形態では、光学レンズ系2は、各々が少なくとも1つの非球面表面を有する少なくとも2つのレンズを含むことができる。例えば、第1のレンズ群10内のレンズの少なくとも1つは、非球面表面を有することができ、第2のレンズ群12内のレンズの少なくとも1つは、非球面表面を有することができる。レンズの非球面表面は、次式によって説明することができる。
Figure 2009536373
ここでP(h)は、光軸からの直角距離hの関数としての光軸に対して直角な平面からの非球面表面の距離であり、Rは、レンズの頂点におけるレンズの曲率半径である。パラメータCCは、非球面表面の円錐定数であり、パラメータC1からCnは、非球面定数である。
一部の実施形態では、光源18は、広帯域光源放射14を供給するように構成することができる。例えば、光源放射14は、約0.5ナノメートル又はそれよりも大きい(例えば、約5ナノメートル又はそれよりも大きく、約10ナノメートル又はそれよりも大きく、約25ナノメートル又はそれよりも大きく、約50ナノメートル又はそれよりも大きく、約70ナノメートル又はそれよりも大きい)スペクトル帯域幅Δλを有する電磁放射の波長分布を有することができる。一部の実施形態では、光源14は、光源放射14に対して特定の中心波長及び/又は帯域幅を選択するために、1つ又はそれよりも多くの光学フィルタ要素を含むことができる。フィルタ要素は、干渉フィルタ、液晶変調器のような光学変調器、及びスペクトルフィルタリング機能を実行する他の要素を含むことができる。
ある一定の実施形態では、光源放射14は、電磁スペクトルの可視領域内に少なくとも1つの波長を有することができる。代替的又は追加的に、光源放射14は、電磁スペクトルの紫外領域内に少なくとも1つの波長を有することができる。例えば、光源放射14の中心波長λは、電磁スペクトルの紫外領域内のものとすることができるが、光源放射14は、電磁スペクトルの可視領域内に1つ又はそれよりも多くの波長を含むことができる。代替的に、例えば、光源放射14の中心波長λは、電磁スペクトルの可視領域内のものとすることができるが、光源放射14は、電磁スペクトルの紫外領域内に1つ又はそれよりも多くの波長を含むことができる。一般的に、光源放射14の中心波長λは、約450nm又はそれ未満(例えば、約400nm又はそれ未満、約350nm又はそれ未満、約300nm又はそれ未満、約300nm又はそれ未満、約250nm又はそれ未満、約200nm又はそれ未満)とすることができる。一部の実施形態では、光源放射14は、2つ又はそれよりも多く(例えば、3つ、4つ、5つ又はそれよりも多く)の個別の波長において有意な電力を含む。例えば、光源放射14は、光源18の輝線に応じて2つ又はそれよりも多くの波長において有意な電力を含むことができる。例示的に、光源放射14は、水銀光源のi、h、及びg輝線において有意な電力を含むことができる。
光源18は、光源放射14を供給する。例えば、一部の実施形態では、光源18は、水銀蒸気ランプとすることができる。一部の実施形態では、光源18は、発光ダイオード(LED)を含むことができる。発光ダイオードは、全て同様の光放出スペクトルを有することができ、又は発光ダイオードの一部又は全ては、異なる放出スペクトルを有することができる。スペクトルは、光源放射14の合計スペクトル帯域幅Δλを個々のダイオードのあらゆるものの放出帯域幅よりも広くすることができるように、補完的なものとすることができる。一部の実施形態では、適切なスペクトル帯域幅を有する光源放射14を生成するために、光源18は、広帯域レーザシステムのようなレーザシステムを含むことができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系は、2つよりも多くのレンズ群を含む。図2Aは、結像光学レンズ系として構成された結像光学レンズ系50の実施形態の概略図である。光学レンズ系50は、光源平面4内の空間的な位置から現れる光源放射14を出力平面6内の対応する空間的な位置へと伝達するように構成される。一部の実施形態では、光源平面4と第1のレンズ群10の間の距離gを光学レンズ系50の倍率Mを変化させることなく変更することができるように、光学レンズ系50は、テレセントリック結像系(例えば、ダブルテレセントリック結像系)として構成することができる。
第1のレンズ群10及び第2のレンズ群12に加えて、光学レンズ系50は、同様に第3のレンズ群20及び第4のレンズ群22を含むことができる。第3のレンズ群20及び第4のレンズ群22の各々は、光軸8に沿って位置決めされた1つ又はそれよりも多くのレンズを含むことができる。一般的に、第3のレンズ群20の特性及び特徴は、第2のレンズ群12に関連して上述した特性及び特徴と同様のものとすることができる。更に、第4のレンズ群22の特性及び特徴は、第1のレンズ群10に関連して上述した特性及び特徴と同様のものとすることができる。
ある一定の実施形態では、光学レンズ系50は、対称レンズ系とすることができ、第1、第2、第3、及び第4のレンズ群10、12、20、及び22は、光軸8に対して直角な対称平面26に対して対称に位置決めされる。対称レンズ系では、第2のレンズ群12内の各レンズは、第3のレンズ群20内に同様の対応するレンズを有し、第2及び第3のレンズ群12及び20内のレンズは、光軸8に沿って対称平面26に関して対称に位置決めされる。更に、第1のレンズ群10内の各レンズは、第4のレンズ群22内に同様の対応するレンズを有し、第1及び第4のレンズ群10及び22内のレンズは、光軸8に沿って対称平面26に関して対称に位置決めされる。同様のレンズは、同じデザインを有し、同じ材料から形成される。
図2Bを参照すると、ある一定の実施形態では、光学レンズ系60は、レンズ群10、13、12、20、23、及び22で示す6つのレンズ群を含む結像光学レンズ系である。光学レンズ系60は、平面26に関して対称である。ある一定の実施形態では、対称平面26は、光学レンズ系60の瞳平面に対応する。
一部の実施形態では、レンズ群10、12、20、及び22は、全て正のレンズ群である。レンズ群10は、入射瞳の像を形成するのに役立ち、一方、レンズ群12は、光源平面4に配置された物体の像を形成するのに役立つ。レンズ群13及び23は、負のレンズ群であり、同様に平面26に関して対称に位置決めされる。一般的に、レンズ群10、12、13、20、22、及び23は、各々1つ又はそれよりも多くのレンズを含むことができる。
一部の実施形態では、レンズ群10は、正の屈折力を有する第1のレンズ小群(例えば、1つ又はそれよりも多くのレンズ)、及び負の屈折力を有する第2のレンズ小群(例えば、1つ又はそれよりも多くのレンズ)を含む。第1及び第2のレンズ小群は、後方焦点系として設計することができ、負のレンズ小群は、光源平面4と正のレンズ小群の間に配置される。そのような配置は、他の配置と比較して、光学レンズ系の像の湾曲を低減することができると考えられる。当然ながら、対称レンズ系であるから、レンズ群22は、同様にレンズ群10の第1及び第2のレンズ小群に対して対称に位置決めされた正及び負のレンズ小群を含む。
更に、ある一定の実施形態では、レンズ群10及び22は、第1及び第2のレンズ小群に加えて、第3のレンズ小群(例えば、1つ又はそれよりも多くのレンズ)を含むことができる。第3のレンズ小群は、正の屈折力を有することができ、レンズ群10では、第3のレンズ小群は、負のレンズ小群と光源平面4の間に位置決めすることができる。相応に、レンズ群22内の第3のレンズ小群は、負のレンズ小群と出力平面6の間に位置決めすることができる。正の屈折力を有する第3のレンズ小群は、非球面表面を用いずに、テレセントリシティ誤差及び他の視野依存収差を低減するのに役立たせることができると考えられる。
光学レンズ系60の色収差(例えば、1次及び/又は2次の色収差)は、周縁光線が光軸8から比較的遠くに位置する光学レンズ系の部分において僅かに弱い色収差補正のみを与えることによって低減することができると考えられる。一般的に、光学レンズ系60では、周縁光線は、光軸8からの最大距離(光軸8から直角に測定された)をレンズ群12及び20の領域内に有する。従って、レンズ群12及び20は、これらの群が僅かに弱い色収差補正(又は過補正)のみを与えるように設計することができる。
一部の実施形態では、レンズ群12及び20は、正のレンズが相対的に弱い分散を示すのに対して負のレンズが比較的強い分散を示す少なくとも1つの正−負のレンズダブレット(PNダブレット)を含む。ある一定の実施形態では、レンズ群12及び20は、各々1つよりも多い(例えば、2つ、3つ、4つ、4つよりも多い)正−負のレンズダブレットを含むことができる。
レンズ群12及び20内の正−負のレンズダブレットの一方における負のレンズは、対称平面26のそれぞれの側の対称平面26の最も近くに位置決めすることができる。そのような配置を用いることで、より優れた色収差低減を達成することができると考えられる。更に、そのような配置は、光学レンズ系60内の瞳像を均一化することに寄与することができ、それによって系内の全光線束のより優れた対称性維持を達成することができると考えられる。
一般的に、光学レンズ系2、50、及び60内のレンズは、材料の分散、吸収特性、機械的特性、化学特性(例えば、純度)のような基準、並びに市販での入手可能性のような他の基準に基づいて選択される材料で形成される。光学レンズ系内の異なるレンズは、異なる材料から形成することができる。例えば、実施形態においては、色収差を低減するために2つ又はそれよりも多くの異なるレンズ材料が用いられる。
レンズ材料は、特定の波長における屈折率によって特徴付けることができる。一般的に、レンズ材料は、屈折率を約1.4から約1.7の範囲に有するが、ある一定の材料は、1.7よりも高い屈折率を有する。また、レンズ材料は、様々な波長にわたって材料の分散の特徴付けを可能にするアッベ数Vによって特徴付けることができる。材料のアッベ数は、次式に従って計算することができる。
Figure 2009536373
(2)
ここで、n1、n2、及びn3は、λ1<λ2<λ3である波長λ1、λ2、及びλ3における材料の屈折率値である。一般的に、低いアッベ数は、比較的強い分散を有する材料を示し、高いアッベ数は、比較的弱い分散を有する材料を示している。
図3を参照すると、UV内にある放射に対して用いるのに適切なレンズ材料は、これらのレンズ材料のアッベ数及び屈折率に基づいて3つの異なる群に分類することができる。群Aと示した第1の群は、40以上70以下の範囲のアッベ数Viを有する材料を含む。ここでは、アッベ数は、水銀光源のi、h、g輝線に対応する波長λ1=365.01nm、λ2=404.65nm、及びλ3=435.84nmに対して計算される。群A内の材料は、屈折率を1.46から1.56の範囲に有する。群A内の材料は、溶融シリカ(SiO2)のようなクラウンガラス及びホウケイ酸塩ガラス(例えば、BK7ガラス)を含むことができる。他の例は、K5ガラス、K7ガラス、及びFK5ガラスを含む。
群Bと示した第2の群は、70よりも高いアッベ数を有する材料を含む。群B内の材料は、約1.46よりも低い屈折率を有する。CaF2は、群B内の材料の例である。
群Cと示した第3の群は、40よりも低いアッベ数を有する材料を含む。群C内の材料は、約1.56よりも高い屈折率を有する。群C内の材料は、LLF−6ガラス、LLF−1ガラス、又はLF−5ガラスのようなフリントガラスを含むことができる。
一般的に、色収差を低減するためには、光学レンズ系は、異なる分散を有する少なくとも2つの材料から形成されたレンズを含まなければならない。従って、図3に示す2つの異なる群から形成された少なくとも1つのレンズを含む実施形態を下記に開示している。更に、異なる分散を有する少なくとも3つの材料から形成されたレンズを用いて更なる低減を達成することができると考えられる。従って、3つの異なる材料から形成されたレンズを含む実施形態を下記に開示している。例えば、実施形態は、群A内の材料から形成された少なくとも1つのレンズ、群B内の材料から形成された少なくとも1つのレンズ、及び群C内の材料から形成された少なくとも1つのレンズを含むことができる。
光学レンズ系2を参照すると、一部の実施形態では、光学レンズ系2内のレンズ群10及び/又はレンズ群12のレンズのうちの一部は、UV対応溶融シリカのようなシリカ材料から作成することができる。第1のレンズ群10及び/又は第2のレンズ群12のレンズのうちの一部は、群C内の材料から作成することができる。一般的に、光学レンズ系2の実施形態は、群B内の材料で形成された少なくとも1つのレンズ、及び群A内の材料で形成された少なくとも1つのレンズを含むことができる。例えば、光学レンズ系2は、溶融シリカで形成された少なくとも1つのレンズ、及びLLF−1ガラスで形成された少なくとも1つのレンズを含むことができる。
一部の実施形態では、レンズ群10は、異なる材料で形成され、光源放射14の波長に関して異なる分散を有する2つのレンズを含むことができる。例えば、レンズ群10内のレンズの少なくとも1つは、群A内の材料(例えば、溶融シリカ)で形成されたレンズとすることができ、第1のレンズ群10内のレンズのうちの少なくとも1つの他のものは、群C内の材料(例えば、LLF−1ガラス)で形成されたレンズとすることができる。実施形態では、群C内の材料で形成されたレンズは、光源平面4の近くに位置決めすることができる。
更に、一部の実施形態では、レンズ群12は、異なる材料で形成され、光源放射14の波長に関して異なる分散を有する2つのレンズを含むことができる。例えば、第2のレンズ群12内のレンズの少なくとも1つは、群A内の材料(例えば、溶融シリカ)で形成されたレンズとすることができ、第2のレンズ群12内のレンズのうちの少なくとも1つの他のものは、群C内の材料(例えば、LLF−1ガラス)で形成されたレンズとすることができる。ある一定の実施形態では、第2のレンズ群12は、少なくとも1つのレンズダブレットを含むことができ、ダブレットの第1のレンズは、正の屈折力を有し、ダブレットの第2のレンズは、負の屈折力を有する。光学レンズ系60に関して上述したように、一部の実施形態では、正のレンズは、群A内の材料(例えば、BK7)又は群B内の材料(例えば、CaF2)のような比較的弱い分散を有する材料で形成することができ、一方、負のレンズは、群C内の材料(例えば、LLF−1ガラス)のような比較的強い分散を有する材料から形成される。
ある一定の実施形態では、レンズに用いられる材料は、光源放射14における波長に対して非常に低い光学吸収性を有することができる。レンズ材料による放射の吸収は、レンズの熱膨張を引き起こす可能性があり、レンズ材料の屈折率変化、及びレンズの形状変化を発生させる。光源放射14における波長を弱く吸収するシリカ及びCaF2のようなレンズ材料を選択することにより、レンズの熱膨張に起因する効果を低減することができる。シリカ及びCaF2のような材料は、LLF−1ガラスのような材料よりも少ない2次色収差しか生み出さない。従って、光学レンズ系2では、例えば、第1のレンズ群10と第2のレンズ群12の間の間隔dは、より大きな2次色収差を含むレンズ系と比較して短くすることができる。
一部の実施形態では、光学レンズ系2、50、又は60は、僅か2つの異なる材料から形成されたレンズを用いて、色収差のマグニチュードが、ほぼ光源放射14の波長又はそれ未満になるように構成することができる。例えば、これらの光学レンズ系は、群Aからの材料(例えば、溶融シリカ)から形成された少なくとも1つのレンズ、及び群Cからの材料(例えば、LLF−1ガラス)から形成された少なくとも1つのレンズを含むことができる。
代替的に、ある一定の実施形態では、光学レンズ系2、50、又は60は、僅か3つの異なる材料から形成されたレンズを用いて、色収差のマグニチュードが、ほぼ光源放射14の波長又はそれ未満になるように構成することができる。例えば、これらの光学レンズ系は、群Aからの材料(例えば、溶融シリカ)から形成された少なくとも1つのレンズ、群Bからの材料(例えば、CaF2)から形成された少なくとも1つのレンズ、及び群Cからの材料(例えば、LLF−1ガラス)から形成された少なくとも1つのレンズを含むことができる。
一般的に、光学レンズ系2、50、及び60は、各々複数のレンズ群を含むことができ、複数のレンズ群の各々は、1つ又は複数のレンズを含むことができる。各場合に、レンズ群は、光学レンズ系によって形成される像の湾曲を光学レンズ系の焦点深度未満に低減するように構成することができる。第1及び第2のレンズ群10及び12に関連して開示する寸法、及び/又は特性、及び/又は材料、及び/又は特徴は、一般的に他の群及びこれらの群のレンズが適宜共有することができるものである。
ある一定の実施形態では、光学レンズ系は、放射の断面強度分布が実質的に不均一である位置に比較的少数のレンズしか配置されないように構成することができる。
レンズ表面上の放射の断面強度分布を特徴付ける1つの手法は、各レンズ表面の放射の全開口CAに対する部分開口SAの比によるものである。レンズ表面における全開口CAは、物体領域における全ての視野点から照らされるレンズ区域を意味する。レンズ表面における部分開口SAは、物体領域における単一の視野点から照らされる最大レンズ区域を意味する。最大開口数NAmax及び最大物体サイズdmaxを有する光学レンズ系の物体43、レンズ44、及び絞り45を示している図4Aを参照すると、レンズ位置zにおける比SA/CAは、次式によって近似することができる。
Figure 2009536373
(3)
ここで、HS(z)は、位置zにおける周縁光線の高さを表している。RS(z)は、位置zにおけるHS(z)と最上部の視野点の主光線の高さとの間の差である(例えば、M.J.Kidger著「基礎光学デザイン」、p7を参照されたい)。全ての量は、子午平面内に定められる。例えば長さl及び幅wを有する矩形視野では、dmaxは、
Figure 2009536373
のように与えられる。また、非矩形視野も予想される。例えば、円形視野では、dmaxは、円の半径に対応する。楕円形視野では、dmaxは、半長軸に沿った半径に対応する。一般的に、本明細書に開示する分析は、任意の視野サイズ及び形状に適用することができる。更に、図4Aでは、絞り45が瞳平面46に配置され、物体43が物体領域42に配置されていることに注意されたい。
典型的には、小さいSA/CA比(例えば、0.2又はそれ未満)では、レンズは、物体領域の付近に置かれる。代替的に、SA/CA比が1の場合には、レンズは、瞳平面内に位置決めされる。
一般的に、所定の投影対物レンズでは、SA/CA比は、投影対物レンズの開口数及び視野サイズに依存する。すなわち、可能な最大開口数NAmaxを有する所定のレンズ系が開口数NAまで絞り込まれ、最大視野サイズdmaxが視野サイズdまで縮小された場合には、比SA/CAは、典型的には変化する。この依存性を回避するために、所定の投影対物レンズに対して固有の新しい量が定義される。
Figure 2009536373
(4)
光学レンズ系は、各レンズ表面に関する|SA/CA|’の値に関連する平均パラメータによって特徴付けることができる。例えば、光学レンズ系は、次式で判断されるΓ比と呼ばれるパラメータによって特徴付けることができる。
Figure 2009536373
ここでMaは、光学レンズ系の物体領域と瞳平面の間に配置されたレンズにおいて0.6未満の全ての|SA/CA|’値の数値平均である。Mbは、光学レンズ系の物体領域と瞳平面の間に配置されたレンズにおいて0.6に等しいか又はそれよりも大きい全ての|SA/CA|’値の数値平均である。従って、Γ比は、光学レンズ系内のレンズの幾何学的分布の尺度、従って、同様にレンズ上への強度分布の予測される均一性の尺度を提供する。
同じく図4Bを参照すると、光学レンズ系は、物体領域と瞳平面の間に3つの異なる区画を含むと考えることができる。図4Bでは、これらの区画を領域A、B、及びCとして示している。相応に、この光学レンズ系は、瞳平面と像領域の間に領域C’、B’、A’を含む。領域A及びA’は、レンズが比較的小さい|SA/CA|’値(例えば、0.35未満)を有する領域である。領域C及びC’は、レンズが比較的大きい|SA/CA|’値(例えば、0.75よりも大きい)を有する領域である。領域B及びB’は、レンズが中間の|SA/CA|’値(例えば、0.35以上0.75以下の範囲内)を有する領域である。
ある一定の実施形態では、光学レンズ系は、物体領域と瞳平面の間に|SA/CA|’値が0.35から0.75の範囲内(例えば、0.4から0.7の範囲内)にある表面を有するレンズを比較的少数しか含まなくてもよい。例えば、光学レンズ系は、物体領域と瞳平面の間に配置された|SA/CA|’値が0.35から0.75の範囲にあるレンズを2つ又はそれよりも少なく(例えば、1つ又はゼロ個)しか含まなくてもよい。
一部の実施形態では、光学レンズ系内の比較的少数のレンズしかMbに寄与する表面を含まない場合がある。言い換えれば、物体領域と瞳平面の間に配置された比較的少数のレンズが、0.6に等しいか又はそれよりも大きい|SA/CA|’値を有する。例えば、光学レンズ系は、Mbに寄与する表面を含むレンズを4つを上回らない数(例えば、3又はそれよりも少なく、2又はそれよりも少なく)しか含まない場合がある。ある一定の実施形態では、物体領域と瞳平面の間に配置されたレンズの全数の40%又はそれ未満(例えば、35%又はそれ未満、30%又はそれ未満、25%又はそれ未満、20%又はそれ未満)が、Mbに寄与する表面を含む。
放射の断面強度分布が実質的に不均一な位置に比較的少数のレンズしか配置されない実施形態は、放射による加熱に起因するレンズ変化による波面収差において低減値を示すことができると考えられる。例えば、そのような光学レンズ系は、像及び物体領域、並びに瞳平面に関して、光軸に沿ったレンズ分布が異なる他の系に比較して入力電力範囲にわたって歪曲、非点収差、及び/又はコマ収差における変化の低減値を示すことができる。
例えば、Γが小さい場合(例えば、Maが約0.3又はそれ未満のように比較的小さい、及び/又はMbが0.9又はそれよりも大きいのように比較的大きい場合)には、レンズは、物体領域の近く及び/又は瞳平面の近くのいずれかに配置される傾向を有する。この場合、レンズ上の強度分布は比較的均一であり、レンズ加熱効果は比較的小さくなる。
一方、Γが大きい場合(例えば、Maが約0.31又はそれよりも大きいのように比較的大きい、及び/又はMbが0.85又はそれ未満のように比較的小さい場合)には、レンズのうちの多くの部分が、レンズ表面にわたって照明が比較的不均一である物体領域と瞳平面の間の中ほどにある中間のB区画内に配置される傾向を有する。この場合、光学レンズ系の結像特性に対するレンズ加熱効果は、比較的大きいであろう。
一部の実施形態では、光学レンズ系は、0.33未満(例えば、0.32又はそれ未満、0.31又はそれ未満、0.30又はそれ未満、0.29又はそれ未満、0.28又はそれ未満、0.27又はそれ未満、0.26又はそれ未満、0.25又はそれ未満)のΓ比を有することができる。0.33よりも低いΓ比を有する光学レンズ系は、良好なレンズ加熱特性を有することができる。言い換えれば、0.33未満のΓ比を有する光学レンズ系における結像収差変動は、様々な入力電力にわたって比較的小さいものとすることができる。例えば、光学レンズ系が0.2のNAmaxを有する実施形態では、0.33未満のΓ比は、良好なレンズ加熱特性に対応するものとすることができる。光学レンズ系が0.16のNAmaxを有する実施形態では、例えば、0.28よりも低いΓ比は、良好なレンズ加熱特性に対応するものとすることができる。
一般的に、光学レンズ系の加熱特性は、上述のように視野サイズに依存する。ある一定の実施形態では、光学レンズ系内の大きい視野サイズを有するレンズは、良好な加熱特性を有する系を達成するために、小さい視野サイズを有する同様のレンズと比較して、比較的小さいΓ値を有するように配置すべきである。表1を参照すると、異なる視野サイズ(dmaxによって与えられる)及び異なるNAmaxを有する光学レンズ系におけるΓ比の例示的範囲を提供している。これらのΓ比は、良好な加熱特性を有する光学レンズ系に対応するものとすることができる。例えば、レンズが瞳平面に関して対称に位置決めされ、光学レンズ系が1の倍率を有する実施形態では、対応するNAmax値及び視野サイズに対するΓ比のこれらの範囲は、良好な加熱特性をもたらす。
光学レンズ系における結像特性に対するレンズ加熱効果は、様々な手法で特徴付けることができる。例えば、この効果は、光学レンズ系内への波長λの放射電力入力の関数としての結像収差変動によって特徴付けることができる。これの例は、入力電力範囲にわたる非点収差変動である。この非点収差変動は、光軸と交わるx方向に沿って延びる線の焦点位置と、光軸と交わるy方向に沿って延びる線の焦点位置との間の距離における入力電力に対する変化を意味する。一部の実施形態では、光学レンズ系は、作動波長における40Wまでの入力放射電力に対して、像領域において400nm/W又はそれ未満(例えば、300nm/W又はそれ未満、250nm/W又はそれ未満、200nm/W又はそれ未満、175nm/W又はそれ未満、160nm/W又はそれ未満、150nm/W又はそれ未満、140nm/W又はそれ未満)の最大非点収差変動を有することができる。
レンズ加熱効果を如何に特徴付けることができるかということの更に別の例は、ピーク−谷間焦点面偏差の変化である。ピーク−谷間焦点面偏差は、z軸に関して測定された視野をわたる最大焦点位置変化を意味する。ある一定の実施形態では、光学レンズ系は、作動波長における40Wまでの入力放射電力に対して、像領域において700nm/W又はそれ未満(例えば、500nm/W又はそれ未満、400nm/W又はそれ未満、300nm/W又はそれ未満、290nm/W又はそれ未満、280nm/W又はそれ未満、270nm/W又はそれ未満、260nm/W又はそれ未満)のピーク−谷間焦点面偏差変化を有することができる。
レンズ加熱効果が光学レンズ系の結像特性に如何に影響を及ぼすかに関する情報を提供することができる別のパラメータは、ピーク−谷間像面湾曲の変化である。像面湾曲は、視野の高さに対する焦点位置の変化を意味する。ある一定の実施形態では、光学レンズ系は、作動波長における40Wまでの入力放射電力に対して、像領域において600nm/W又はそれ未満(例えば、500nm/W又はそれ未満、400nm/W又はそれ未満、300nm/W又はそれ未満、280nm/W又はそれ未満、260nm/W又はそれ未満、250nm/W又はそれ未満、240nm/W又はそれ未満、230nm/W又はそれ未満)のピーク−谷間像面湾曲変化を有することができる。
同様にレンズ加熱効果は、光学レンズ系の軸上非点収差の変化によって特徴付けることができる。軸上非点収差は、光軸と交わるx方向に沿って延びる線の焦点位置と、光軸と交わるy方向に沿って延びる線の焦点位置との間の軸上で測定した距離を意味する。一部の実施形態では、光学レンズ系は、作動波長における40Wまでの入力放射電力に対して、像領域において−120nm/W又はそれ未満(例えば、−100nm/W又はそれ未満、−80nm/W又はそれ未満、−70nm/W又はそれ未満、−60nm/W又はそれ未満、−55nm/W又はそれ未満、−52nm/W又はそれ未満、−50nm/W又はそれ未満、−48nm/W又はそれ未満、−45nm/W又はそれ未満)の最大軸上非点収差変動を有する。この場合、「最大」という用語は、変化の絶対値を意味する。
レンズ加熱効果が光学レンズ系の結像特性に如何に影響を及ぼすかということに関する情報を提供することができる更に別のパラメータは、最大歪曲の変化である。歪曲は、物体及び像領域における視野点の相対的な位置ずれの変化を意味する。一部の実施形態では、光学レンズ系は、作動波長における40Wまでの入力放射電力に対して、像領域において12nm/W又はそれ未満(例えば、10nm/W又はそれ未満、9nm/W又はそれ未満、8nm/W又はそれ未満、7nm/W又はそれ未満、6nm/W又はそれ未満、5nm/W又はそれ未満、4nm/W又はそれ未満)の最大歪曲変化を有する。
最大非点収差、ピーク−谷間焦点面偏差、ピーク−谷間像面湾曲、軸上非点収差、及び最大歪曲は、コンピュータモデリングを用いて光学レンズ系に対して判断される。コンピュータモデリングは、以下の通りに実施することができる。最初に、光線追跡ソフトウエア(例えば、カリフォルニア州パサデナ所在のORAからの「Code V」のような市販の光線追跡ソフトウエア)を用いて、各レンズ表面上の放射負荷を判断する。この判断は、表面を横切る光線を単純に計数することによって実施される。各レンズ材料に関する適切な吸収係数を用いて、各レンズによって吸収される放射量を上記放射負荷に基づいて計算することができる。
いくつかの異なる入射電力値に対して、各レンズに対する熱輸送方程式を解き、屈折率変化及び/又は表面変形のようなレンズにおける熱誘発変化を計算するために有限要素解析を用いることができる。熱誘発変化は、不安定な光学レンズ系を生じ、これに対して補足的な結像計算を実施することができる。例えば、物体領域における異なる向きの構造及び物体領域内の異なる視野点に対して、予測区域像を模擬することができるように光線追跡を実施することができる。区域像のシミュレーションは、部分干渉問題に対処する2ビーム干渉に基づいて、系の光学伝達関数を考慮に入れる。模擬区域像を用いると、光学レンズ系における最良の焦点に加えて、異なる構造におけるx及びy方向のパターンシフトも判断することができる
光学レンズ系の加熱を特徴付ける情報を提供するために、非点収差のような収差、焦点面偏差、及び他のパラメータを計算することができる。
光学レンズ系2、50、及び60は、マイクロリソグラフィシステムにおいて用いることができる。例えば、光学レンズ系2、50、及び/又は光学レンズ系60は、マイクロリソグラフィ光学投影レンズ系の一部分を形成することができる。光学レンズ系2、50、及び60は、光学レンズ系の出力平面6がマイクロリソグラフィシステムの像平面と一致するように構成することができる。使用中は、基板のような物品16は、出力平面6内又はその近くに位置決めすることができ、基板を放射に露光するために、光源放射14を光学レンズ系2及び/又は50を通じて方向付けることができる。
図5を参照すると、例示的マイクロリソグラフィシステム70は、光源71、照明系72、レチクル台74上に配置されたレチクル76、光学レンズ系73、及びウェーハ77を支持する台75を含む。ウェーハ77は、光学レンズ系73の像領域に配置される。レチクル76は、光学レンズ系73の物体領域に配置される。
レジスト(感光材料)の層が、ウェーハ77の表面上に置かれる。作動中には、光源71は、放射R71を照明系72に方向付けし、照明系72は、矢印R72で示すように、放射をレチクル76に方向付ける。光学レンズ系73は、矢印R73で示すように、放射を用いてレチクル76上のパターン像をレジスト層上に投影する。台75は、ウェーハ77を光学レンズ系73に対して移動し、レジスト層の異なる領域を放射に露光する。
実施形態は、水銀光源のi線を利用するいわゆる「I線」リソグラフィツールにおいて用いることができる。そのような実施形態では、光学レンズ系は、水銀光源の他の波長において(例えば、g及びh線において)低い色収差を有するように設計することができ、i線及び他の波長の両方の放射を用いて基板を露光することを可能にする。補足的波長は、基板をi線放射だけに露光するためのシステムと比較して、基板により高い電力供給をもたらすことができ、より短い露光時間及び高い収量が可能になる。例えば、マイクロリソグラフィシステム70は、直径30mmのウェーハで毎時約125枚(WPH)又はそれよりも多く(例えば、約150WPH又はそれよりも多く、約175WPH又はそれよりも多く、約200WPH又はそれよりも多く、約225WPH又はそれよりも多く、約250WPH又はそれよりも多く)の収量を有することができる。
一部の実施形態では、複数の基板を光源放射14に露光することができる。例えば、複数の基板は複数のダイとすることができ、複数のダイを放射に同時に露光することができるように、光源放射14の視野サイズは、十分に大きいものとすることができる。
次に、出力平面6内の異なる開口数、及び異なるレンズ材料のような異なる特性を有する光学レンズ系の様々な実施形態を解説する。これらの光学レンズ系の各々は、マイクロリソグラフィシステムにおいて用いることができる。
結像光学レンズ系100の実施形態を図6に示している。光学レンズ系100は、対物面102から対称平面106を通じて像平面104へと光パターンを伝達するように構成される。光学レンズ系100は、第1のレンズ群110、第2のレンズ群112、第3のレンズ群114、及び第4のレンズ群116を含む。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸108に対して回転対称である。光学レンズ系100は、0.20の最大開口数をもたらすように構成される。
光学レンズ系100は、0.31のMa値、0.82のMb値、及び0.38のΓ比を有する。
光学レンズ系100内のレンズの各々は、対物面102に対面する第1の表面、及び像平面104に対面する第2の表面を有する。各レンズの第1の表面は、「a」というラベル付けによって示している。例えば、レンズ118の第1の表面は、118aとラベル付けする。各レンズの第2の表面は、「b」というラベル付けによって示している。従って、レンズ118の第2の表面は、118bとラベル付けする。明瞭化のために、図6ではレンズの第1及び第2の表面に対応する全てのラベル付けを示してはいないが、各レンズは、それぞれ「a」及び「b」とラベル付けした第1及び第2の表面を含む。
第1のレンズ群110は、レンズ118、120、122、124、126、及び128を含む。レンズ118、120、及び126は、溶融シリカで形成される。レンズ122、124、及び128は、LLF−1ガラスのようなフリントガラス材料で形成される。光学レンズ系100内のレンズの厚みは、軸108に沿って測定される。レンズ118は、10.0mmの厚みを有する。レンズ120は、10.0mmの厚みを有する。レンズ122は、41.1mmの厚みを有する。レンズ124は、47.3mmの厚みを有する。レンズ126は、10.0mmの厚みを有する。レンズ128は、45.2mmの厚みを有する。
2つのレンズの間の間隔は、軸108に沿って2つのレンズの対面する表面の間で測定される。レンズ118は、レンズ120から29.6mmの距離だけ分離される。レンズ120は、レンズ122から3.6mmの距離だけ分離される。レンズ122は、レンズ124から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ124は、レンズ126から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ126は、レンズ128から1.0mmの距離だけ分離される。第1のレンズ群110は、第2のレンズ群112から171.2mmの軸108に沿って測定された距離d1(例えば、軸108に沿って表面128bと表面130aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第2のレンズ群112は、レンズ130、132、134、及び136を含む。レンズ132及び136は、溶融シリカで形成される。レンズ130及び134は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ130は、10.0mmの厚みを有する。レンズ132は、33.0mmの厚みを有する。レンズ134は、10.0mmの厚みを有する。レンズ136は、20.0mmの厚みを有する。
レンズ130は、レンズ132から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ132及び134は、軸108に沿って直近して存在する。レンズ134は、レンズ136から1.0mmの距離だけ分離される。第2のレンズ群112は、対称平面106から5.8mmの距離(例えば、軸108に沿って表面136bと対称平面106との間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群114は、レンズ138、140、142、及び144を含む。レンズ138及び142は、溶融シリカで形成される。レンズ140及び144は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ138は、20.0mmの厚みを有する。レンズ140は、10.0mmの厚みを有する。レンズ142は、33.0mmの厚みを有する。レンズ144は、10.0mmの厚みを有する。
第3のレンズ群114は、対称平面106から5.8mmの距離(例えば、軸108に沿って対称平面106と表面138aとの間で測定された距離)だけ分離される。レンズ138は、レンズ140から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ140及び142は、軸108に沿って直近して存在する。レンズ142は、レンズ144から1.0mmの距離だけ分離される。第3のレンズ群114は、第4のレンズ群116から171.2mmの軸108に沿って測定された距離d2(例えば、軸108に沿って表面144bと表面146aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群114内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第2のレンズ群112内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第3のレンズ群114内のレンズは、第2のレンズ群112と第3のレンズ群114が対称平面106に関して対称なレンズ配置を形成するように軸108に沿って位置決めされる。
第4のレンズ群116は、レンズ146、148、150、152、154、及び156を含む。レンズ148、154、及び156は、溶融シリカで形成される。レンズ146、150、及び152は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ146は、45.2mmの厚みを有する。レンズ148は、10.0mmの厚みを有する。レンズ150は、47.3mmの厚みを有する。レンズ152は、41.1mmの厚みを有する。レンズ154は、10.0mmの厚みを有する。レンズ156は、10.0mmの厚みを有する。
レンズ146は、レンズ148から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ148は、レンズ150から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ150は、レンズ152から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ152は、レンズ154から3.6mmの距離だけ分離される。レンズ154は、レンズ156から29.6mmの距離だけ分離される。第4のレンズ群116は、像平面104から48.1mmの距離(例えば、軸108に沿って表面156bと像平面104との間で測定された距離)だけ分離される。
第4のレンズ群116内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第1のレンズ群110内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第4のレンズ群116内のレンズは、第1のレンズ群110と第4のレンズ群116が対称平面106に関して対称なレンズ配置を形成するように軸108に沿って位置決めされる。
光学レンズ系100内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表2Aに示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面102と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面104と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。
光学レンズ系100内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面118b、124a、126a、128b、130a、136b、138a、144b、146a、148b、150b、及び156aは、非球面表面である。光学レンズ系100内の他のレンズ表面は、球面表面である。表2Aでは、非球面表面を形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系100内のレンズの非球面表面に対して式1に対応する非球面定数を表2Bに示している。
第1のレンズ群110の主平面160を光学レンズ系100内に示している。主平面は、第1のレンズ群110と第2のレンズ群112の間に存在する。
結像光学レンズ系の別の実施形態を図7に示している。光学レンズ系200は、対物面202から対称平面206を通じて像平面204へと光パターンを伝達するように構成される。光学レンズ系200は、第1のレンズ群210、第2のレンズ群212、第3のレンズ群214、及び第4のレンズ群216を含む。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸208に対して対称に位置決めされる。光学レンズ系200は、0.16の最大開口数をもたらすように構成される。
光学レンズ系200は、0.28のMa値、0.8のMb値、及び0.35のΓ比を有する。
光学レンズ系200内のレンズの各々は、対物面202に対面する第1の表面、及び像平面204に対面する第2の表面を有する。各レンズの第1の表面は、「a」というラベル付けによって示している。例えば、レンズ218の第1の表面は、218aとラベル付けする。各レンズの第2の表面は、「b」というラベル付けによって示している。従って、レンズ218の第2の表面は、218bとラベル付けする。明瞭化のために、図7ではレンズの第1及び第2の表面に対応する全てのラベル付けを示してはいないが、各レンズは、それぞれ「a」及び「b」とラベル付けした第1及び第2の表面を含む。
第1のレンズ群210は、レンズ218、220、222、224、226、及び228を含む。レンズ218、220、及び226は、溶融シリカで形成される。レンズ222、224、及び228は、LLF−1ガラスのようなフリントガラス材料で形成される。光学レンズ系200内のレンズの厚みは、軸208に沿って測定される。レンズ218は、10.0mmの厚みを有する。レンズ220は、10.0mmの厚みを有する。レンズ222は、38.4mmの厚みを有する。レンズ224は、43.1mmの厚みを有する。レンズ226は、10.0mmの厚みを有する。レンズ228は、40.3mmの厚みを有する。
2つのレンズの間の間隔は、軸208に沿って2つのレンズの対面する表面の間で測定される。レンズ218は、レンズ220から27.1mmの距離だけ分離される。レンズ220は、レンズ222から4.0mmの距離だけ分離される。レンズ222は、レンズ224から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ224は、レンズ226から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ226は、レンズ228から1.0mmの距離だけ分離される。第1のレンズ群210は、第2のレンズ群212から178.2mmの軸208に沿って測定された距離d3(例えば、軸208に沿って表面228bと表面230aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第2のレンズ群212は、レンズ230、232、234、及び236を含む。レンズ232及び236は、溶融シリカで形成される。レンズ230及び234は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ230は、10.0mmの厚みを有する。レンズ232は、33.0mmの厚みを有する。レンズ234は、10.0mmの厚みを有する。レンズ236は、20.0mmの厚みを有する。
レンズ230は、レンズ232から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ232及び234は、軸208に沿って直近して存在する。レンズ234は、レンズ236から1.0mmの距離だけ分離される。第2のレンズ群212は、対称平面206から6.0mmの距離(例えば、軸208に沿って表面236bと対称平面206との間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群214は、レンズ238、240、242、及び244を含む。レンズ238及び242は、溶融シリカで形成される。レンズ240及び244は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ238は、20.0mmの厚みを有する。レンズ240は、10.0mmの厚みを有する。レンズ242は、33.0mmの厚みを有する。レンズ244は、10.0mmの厚みを有する。
第3のレンズ群214は、対称平面206から6.0mmの距離(例えば、軸208に沿って対称平面206と表面238aとの間で測定された距離)だけ分離される。レンズ238は、レンズ240から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ240及び242は、軸108に沿って直近して存在する。レンズ242は、レンズ244から1.0mmの距離だけ分離される。第3のレンズ群214は、第4のレンズ群216から178.2mmの軸208に沿って測定された距離d4(例えば、軸208に沿って表面244bと表面246aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群214内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第2のレンズ群212内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第3のレンズ群214内のレンズは、第2のレンズ群212と第3のレンズ群214が対称平面206に関して対称なレンズ配置を形成するように、軸208に沿って位置決めされる。
第4のレンズ群216は、レンズ246、248、250、252、254、及び256を含む。レンズ248、254、及び256は、溶融シリカで形成される。レンズ246、250、及び252は、LLF−1ガラスのようなフリントガラスで形成される。レンズ246は、40.3mmの厚みを有する。レンズ248は、10.0mmの厚みを有する。レンズ250は、43.1mmの厚みを有する。レンズ252は、38.4mmの厚みを有する。レンズ254は、10.0mmの厚みを有する。レンズ256は、10.0mmの厚みを有する。
レンズ246は、レンズ248から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ248は、レンズ250から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ250は、レンズ252から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ252は、レンズ254から4.0mmの距離だけ分離される。レンズ254は、レンズ256から27.1mmの距離だけ分離される。第4のレンズ群216は、像平面204から54.9mmの距離(例えば、軸208に沿って表面256bと像平面204との間で測定された距離)だけ分離される。
第4のレンズ群216内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第1のレンズ群210内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第4のレンズ群216内のレンズは、第1のレンズ群210と第4のレンズ群216が対称平面206に関して対称なレンズ配置を形成するように軸208に沿って位置決めされる。
光学レンズ系200内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表3Aに示している。
光学レンズ系200内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面218b、224a、226a、228b、230a、236b、238a、244b、246a、248b、250b、及び256aは非球面表面である。光学レンズ系200内の他のレンズ表面は球面表面である。表3Aでは、非球面表面は、形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系200内のレンズの非球面表面に対して、式1に対応する非球面定数を表3Bに示している。
一般的にレンズは、そのレンズを通過する光の一部分を吸収する1つ又はそれよりも多くの光学材料から形成される。ある一定のレンズによる有意な量の放射の吸収は、レンズの熱膨張をもたらす可能性があり、それによってレンズの幾何学及び光学特性において変化が作り出される場合がある。例えば、レンズの加熱又は冷却に起因する膨張又は収縮の結果として、いくつかのレンズの合焦特性は変化する場合がある。一部の実施形態では、レンズを形成する材料の一部又は全ては、光学吸収特性に基づいて選択することができる。例えば、電磁スペクトルのUV部分において作動するようにデザインされたレンズ系では、比較的低いUV吸収を有するレンズ材料(例えば、溶融シリカ、フッ化カルシウム、及び他のもののような材料)を用いることができる。
スペクトルのUV領域において比較的低い吸収を有する材料で形成されたレンズを有する結像光学レンズ系300の実施形態を図8に示している。光学レンズ系300は、対物面302から対称平面306を通じて像平面304へと光パターンを伝達するように構成される。光学レンズ系300は、第1のレンズ群310、第2のレンズ群312、第3のレンズ群314、及び第4のレンズ群316を含む。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸308に対して回転対称である。光学レンズ系300は、0.20の最大開口数をもたらすように構成される。
光学レンズ系300は、0.34のMa値、0.89のMb値、及び0.38のΓ比を有する。
光学レンズ系300内のレンズの各々は、対物面302に対面する第1の表面、及び像平面304に対面する第2の表面を有する。各レンズの第1の表面は、「a」というラベル付けによって示している。例えば、レンズ318の第1の表面は、318aとラベル付けする。各レンズの第2の表面は、「b」というラベル付けによって示している。従って、レンズ318の第2の表面は、318bとラベル付けする。明瞭化のために、図8ではレンズの第1及び第2の表面に対応する全てのラベル付けを示してはいないが、各レンズは、それぞれ「a」及び「b」とラベル付けした第1及び第2の表面を含む。
第1のレンズ群310は、レンズ318、320、322、324、326、及び328を含む。レンズ318、320、322、324、及び326は、溶融シリカで形成される。光学レンズ系300内のレンズの厚みは、軸308に沿って測定される。レンズ318は、10.0mmの厚みを有する。レンズ320は、16.4mmの厚みを有する。レンズ322は、42.0mmの厚みを有する。レンズ324は、35.9mmの厚みを有する。レンズ326は、32.6mmの厚みを有する。レンズ328は、10.0mmの厚みを有する。
2つのレンズの間の間隔は、軸308に沿って2つのレンズの対面する表面の間で測定される。レンズ318は、レンズ320から25.6mmの距離だけ分離される。レンズ320は、レンズ322から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ322は、レンズ324から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ324は、レンズ326から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ326は、レンズ328から54.5mmの距離だけ分離される。第1のレンズ群310は、第2のレンズ群312から127.3mmの軸308に沿って測定された距離d5(例えば、軸308に沿って表面328bと表面330aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第2のレンズ群312は、レンズ330、332、334、及び336を含む。レンズ330及び334は、溶融シリカで形成される。レンズ332及び336は、フッ化カルシウムで形成される。レンズ330は、7.0mmの厚みを有する。レンズ332は、44.3mmの厚みを有する。レンズ334は、7.0mmの厚みを有する。レンズ336は、31.9mmの厚みを有する。
レンズ330は、レンズ332から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ332は、レンズ334から1.3mmの距離だけ分離される。レンズ334は、レンズ336から0.1mmの距離だけ分離される。第2のレンズ群312は、対称平面306から5.0mmの距離(例えば、軸308に沿って表面336bと対称平面306との間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群314は、レンズ338、340、342、及び344を含む。レンズ338及び342は、フッ化カルシウムで形成される。レンズ340及び344は、溶融シリカで形成される。レンズ338は、31.9mmの厚みを有する。レンズ340は、7.0mmの厚みを有する。レンズ342は、44.3mmの厚みを有する。レンズ344は、7.0mmの厚みを有する。
第3のレンズ群314は、対称平面306から5.0mmの距離(例えば、軸308に沿って対称平面306と表面338aとの間で測定された距離)だけ分離される。レンズ338は、レンズ340から0.1mmの距離だけ分離される。レンズ340は、レンズ342から1.3mmの距離だけ分離される。レンズ342は、レンズ344から1.0mmの距離だけ分離される。第3のレンズ群314は、第4のレンズ群316から127.3mmの軸308に沿って測定された距離d6(例えば、軸308に沿って表面344bと表面346aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群314内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第2のレンズ群312内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第3のレンズ群314内のレンズは、第2のレンズ群312と第3のレンズ群314が対称平面306に関して対称なレンズ配置を形成するように、軸308に沿って位置決めされる。
第4のレンズ群314は、レンズ346、348、350、352、354、及び356を含む。レンズ346、348、350、352、354、及び356の各々は、溶融シリカで形成される。レンズ346は、10.0mmの厚みを有する。レンズ348は、32.6mmの厚みを有する。レンズ350は、35.9mmの厚みを有する。レンズ352は、42.0mmの厚みを有する。レンズ354は、16.4mmの厚みを有する。レンズ356は、10.0mmの厚みを有する。
レンズ346は、レンズ348から54.5mmの距離だけ分離される。レンズ348は、レンズ350から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ350は、レンズ352から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ352は、レンズ354から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ354は、レンズ356から25.6mmの距離だけ分離される。第4のレンズ群316は、像平面304から45.0mmの距離(例えば、軸308に沿って表面356bと像平面304との間で測定された距離)だけ分離される。
第4のレンズ群316内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第1のレンズ群310内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第4のレンズ群316内のレンズは、第1のレンズ群310と第4のレンズ群316が対称平面306に関して対称なレンズ配置を形成するように、軸308に沿って位置決めされる。
光学レンズ系300内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表4Aに示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面302と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面304と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。
光学レンズ系300内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面318a、324a、328a、330a、334b、340a、344b、346b、350b、及び356bは非球面表面である。光学レンズ系300内の他のレンズ表面は球面表面である。表4Aでは、非球面表面は、形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系300内のレンズの非球面表面に対して式1に対応する非球面定数を表4Bに示している。
一部の実施形態では、2つよりも多くの異なる材料から形成されたレンズを用いることができる。例えば、ある一定の実施形態では、系の設計中に系の全長を制限することができる(例えば、ある一定の用途において、このレンズ系をマイクロリソグラフィ光学レンズ系として用いることができるように)。適切に設定した色特性を光学レンズ系にもたらすようにレンズを形成するために、3つ又はそれよりも多く(例えば、4つ又はそれよりも多く、5つ又はそれよりも多く、6つ又はそれよりも多く、10又はそれよりも多く)の材料を個々に又は組み合わせて用いることができる。
3つの異なる材料のうちの1つから形成されたレンズを有する結像光学レンズ系400の実施形態の例を図9に示している。光学レンズ系400内のレンズの大部分は、溶融シリカ又はフッ化カルシウムから形成される。これらの材料は、電磁スペクトルのUV領域において比較的低い吸収を有する。しかし、同様に光学レンズ系400は、LLF−1ガラス又は別のフリントガラスから形成された2つのレンズを含む。一般的に、レンズ系400の光路に沿って最初及び最後のレンズであるこれらの2つのレンズは、レンズ系400に特定の色特性をもたらす。
光学レンズ系400は、対物面402から対称平面406を通じて像平面404へと光パターンを伝達するように構成される。光学レンズ系400は、第1のレンズ群410、第2のレンズ群412、第3のレンズ群414、及び第4のレンズ群416を含む。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸408に対して回転対称である。光学レンズ系400は、0.20の最大開口数をもたらすように構成される。更に、光学レンズ系400はテレセントリックであり、1の倍率、52mm×66mmの視野サイズを有する。従って、光学レンズ系400におけるdmaxは42mmである。
光学レンズ系400は、0.33のMa値、0.92のMb値、及び0.36のΓ比を有する。
光学レンズ系400内のレンズの各々は、対物面402に対面する第1の表面、及び像平面404に対面する第2の表面を有する。各レンズの第1の表面は、「a」というラベル付けによって示している。例えば、レンズ418の第1の表面は、418aとラベル付けする。各レンズの第2の表面は、「b」というラベル付けによって示している。従って、レンズ418の第2の表面は、418bとラベル付けする。明瞭化のために、図9ではレンズの第1及び第2の表面に対応する全てのラベル付けを示してはいないが、各レンズは、それぞれ「a」及び「b」とラベル付けした第1及び第2の表面を含む。
第1のレンズ群410は、レンズ418、420、422、424、426、及び428を含む。レンズ418は、LLF−1ガラスのようなフリントガラス材料で形成される。レンズ420、422、424、426、及び428は、溶融シリカで形成される。光学レンズ系400内のレンズの厚みは、軸408に沿って測定される。レンズ418は、13.0mmの厚みを有する。レンズ420は、10.0mmの厚みを有する。レンズ422は、47.4mmの厚みを有する。レンズ424は、33.0mmの厚みを有する。レンズ426は、32.8mmの厚みを有する。レンズ428は、10.0mmの厚みを有する。
2つのレンズの間の間隔は、軸408に沿って2つのレンズの対面する表面の間で測定される。レンズ418は、レンズ420から5.1mmの距離だけ分離される。レンズ420は、レンズ422から16.5mmの距離だけ分離される。レンズ422は、レンズ424から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ424は、レンズ426から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ426は、レンズ428から91.8mmの距離だけ分離される。第1のレンズ群410は、第2のレンズ群412から97.9mmの軸408に沿って測定された距離d7(例えば、軸408に沿って表面428bと表面430aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第2のレンズ群412は、レンズ430、432、434、及び436を含む。レンズ430及び434は、溶融シリカで形成される。レンズ432及び436はフッ化カルシウムで形成される。レンズ430は、7.0mmの厚みを有する。レンズ432は、50.1mmの厚みを有する。レンズ434は、7.0mmの厚みを有する。レンズ436は、32.0mmの厚みを有する。
レンズ430は、レンズ432から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ432は、レンズ434から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ434は、レンズ436から1.5mmの距離だけ分離される。第2のレンズ群412は、対称平面406から1.0mmの距離(例えば、軸408に沿って表面436bと対称平面406との間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群414は、レンズ438、440、442、及び444を含む。レンズ438及び442は、フッ化カルシウムで形成される。レンズ440及び444は、溶融シリカで形成される。レンズ438は、32.0mmの厚みを有する。レンズ440は、7.0mmの厚みを有する。レンズ442は、50.1mmの厚みを有する。レンズ444は、7.0mmの厚みを有する。
第3のレンズ群414は、対称平面406から1.0mmの距離(例えば、軸408に沿って対称平面406と表面438aとの間で測定された距離)だけ分離される。レンズ438は、レンズ440から1.5mmの距離だけ分離される。レンズ440は、レンズ442から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ442は、レンズ444から1.0mmの距離だけ分離される。第3のレンズ群414は、第4のレンズ群416から97.9mmの軸408に沿って測定された距離d8(例えば、軸408に沿って表面444bと表面446aとの間で測定された距離)だけ分離される。
第3のレンズ群414内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第2のレンズ群412内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第3のレンズ群414内のレンズは、第2のレンズ群412と第3のレンズ群414が対称平面406に関して対称なレンズ配置を形成するように、軸408に沿って位置決めされる。
第4のレンズ群416は、レンズ446、448、450、452、454、及び456を含む。レンズ446、448、450、452、及び454は、溶融シリカで形成される。レンズ456は、LLF−1ガラスで形成される。レンズ446は、10.0mmの厚みを有する。レンズ448は、32.8mmの厚みを有する。レンズ450は、33.0mmの厚みを有する。レンズ452は、47.4mmの厚みを有する。レンズ454は、10.0mmの厚みを有する。レンズ456は、13.0mmの厚みを有する。
レンズ446は、レンズ448から91.8mmの距離だけ分離される。レンズ448は、レンズ450から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ450は、レンズ452から1.0mmの距離だけ分離される。レンズ452は、レンズ454から16.5mmの距離だけ分離される。レンズ454は、レンズ456から5.1mmの距離だけ分離される。第4のレンズ群416は、像平面404から40.0mmの距離(例えば、軸408に沿って表面456bと像平面404との間で測定された距離)だけ分離される。
第4のレンズ群416内のレンズの寸法、間隔、及び材料は、第1のレンズ群410内のレンズの寸法、間隔、及び材料と同様である。第4のレンズ群416内のレンズは、第1のレンズ群410と第4のレンズ群416が対称平面406に関して対称なレンズ配置を形成するように、軸408に沿って位置決めされる。
光学レンズ400のコンピュータモデリングは、0Wから40Wまでの入力電力範囲において以下のレンズ加熱誘発収差を示している。
最大非点収差変動:263nm/W
ピーク−谷間焦点面偏差変化:481nm/W
ピーク−谷間像面湾曲変化:318nm/W
軸上非点収差変動:−62nm/W
最大歪曲変化:12nm/W
光学レンズ系400内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表5Aに示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面402と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面404と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。
光学レンズ系400内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面420b、422b、426b、428a、434b、440a、446b、448a、452a、及び454aは非球面表面である。光学レンズ系400内の他のレンズ表面は球面表面である。表5Aでは、非球面表面は、形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系400内のレンズの非球面表面に対して、式1に対応する非球面定数を表5Bに示している。
各レンズ表面に関する|SA/CA|’の値を表5Cに提供する。
図10を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系800である。光学レンズ系800は、対物面802における物体を光学レンズ系800の瞳平面に対応する対称平面806を通じて像平面804に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、448mmの焦点距離を有し、像平面804において0.16の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系800はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系800は、0.22のMa値、0.88のMb値、及び0.25のΓ比を有する。
光学レンズ系800は、レンズ群810、813、812、820、823、及び822を含む。レンズ群810、812、820、及び822は、正の屈折力を有する。レンズ群813及び823は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸808に対して回転対称である。
レンズ群810は、レンズ818、820、822、824、及び826を含む。レンズ818は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群810内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ818は、レンズ820と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群813は、レンズ828及び830を含む。レンズ828及びレンズ830は両方とも、溶融シリカから形成される。
レンズ群812は、レンズ832、834、836、838、及び840を含む。レンズ832、834、及び838は、CaF2から形成されるのに対して、レンズ836及び840は、溶融シリカから形成される。レンズ834及び836は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ838及び840は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群814は、平面806に関してレンズ群812と対称に位置決めされる。従って、レンズ842、844、846、848、及び850は、それぞれ、レンズ840、838、836、834、及び832と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群815は、平面806に関してレンズ群813と対称に位置決めされる。従って、レンズ852及び854は、それぞれ、レンズ830及び828と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群816は、平面806に関してレンズ群810と対称に位置決めされる。従って、レンズ856、858、860、862、及び864は、それぞれ、レンズ826、824、822、820、及び818と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ800のコンピュータモデリングは、0Wから40Wまでの入力電力範囲において以下のレンズ加熱誘発収差を示している。
最大非点収差変動:153nm/W
ピーク−谷間焦点面偏差変化:270nm/W
ピーク−谷間像面湾曲変化:175nm/W
軸上非点収差変動:−37nm/W
最大歪曲変化:8.6nm/W
光学レンズ系800内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表6Aに示している。対物面802に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面804に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面802と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面804と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。光学レンズ系800内の各レンズ表面は球面である。表6Aの「厚み」と示した列は、この表面から像平面804の方向にある隣接レンズまでを光軸808に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。DSとラベル付けした表の項目は、データを抽出するために系をモデリングする際に用いる仮想表面である「ダミー表面」を意味する。
各レンズ表面に関する|SA/CA|’の値を表6Bに提供する。
図11を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系900である。光学レンズ系900は、対物面902における物体を光学レンズ系900の瞳平面に対応する対称平面906を通じて像平面904に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、433mmの焦点距離を有し、像平面904において0.16の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系900はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系900は、0.22のMa値、0.88のMb値、及び0.26のΓ比を有する。
光学レンズ系900は、レンズ群910、913、912、920、923、及び922を含む。レンズ群910、912、920、及び922は、正の屈折力を有する。レンズ群913及び923は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸908に対して回転対称である。
レンズ群910は、レンズ918、920、922、924、及び926を含む。レンズ918は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群910内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ918は、レンズ920と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群913は、レンズ928及び930を含む。レンズ928及びレンズ930は両方とも、溶融シリカから形成される。
レンズ群912は、レンズ932、934、936、938、及び940を含む。レンズ932、934、及び938は、CaF2から形成される。レンズ936は溶融シリカから形成され、レンズ940はBK7ガラスから形成される。レンズ934及び936は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ938及び940は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群914は、平面906に関してレンズ群912と対称に位置決めされる。従って、レンズ942、944、946、948、及び950は、それぞれ、レンズ940、938、936、934、及び932と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群915は、平面906に関してレンズ群913と対称に位置決めされる。従って、レンズ952及び954は、それぞれ、レンズ930及び928と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群916は、平面906に関してレンズ群910と対称に位置決めされる。従って、レンズ956、958、960、962、及び964は、それぞれ、レンズ926、924、922、920、及び918と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ系900内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表7に示している。対物面902に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面904に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面902と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面904と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。光学レンズ系900内の各レンズ表面は球面である。表7の「厚み」と示した列は、この表面から像平面904の方向にある隣接レンズまでを光軸908に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
図12を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系1000である。光学レンズ系1000は、対物面1002における物体を光学レンズ系1000の瞳平面に対応する対称平面1006を通じて像平面1004に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、375mmの焦点距離を有し、像平面1004において0.2の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1000はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系1000は、0.3のMa値、0.88のMb値、及び0.34のΓ比を有する。
光学レンズ系1000は、レンズ群1010、1013、1012、1020、1023、及び1022を含む。レンズ群1010、1012、1020、及び1022は、正の屈折力を有する。レンズ群1013及び1023は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸1008に対して回転対称である。
レンズ群1010は、レンズ1018、1020、1022、1024、及び1026を含む。レンズ1018は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群1010内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ1018は、レンズ1020と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群1013は、レンズ1028及び1030を含む。レンズ1028及びレンズ1030は両方とも、溶融シリカから形成される。
レンズ群1012は、レンズ1032、1034、1036、1038、及び1040を含む。レンズ1032、1034、及び1038は、CaF2から形成される。レンズ1036は溶融シリカから形成され、レンズ1040はLLF−1ガラスから形成される。レンズ1034及び1036は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ1038及び1041は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群1014は、平面1006に関してレンズ群1012と対称に位置決めされる。従って、レンズ1042、1044、1046、1048、及び1050は、それぞれ、レンズ1040、1038、1036、1034、及び1032と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1015は、平面1006に関してレンズ群1013と対称に位置決めされる。従って、レンズ1052及び1054は、それぞれ、レンズ1030及び1028と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1016は、平面1006に関してレンズ群1010と対称に位置決めされる。従って、レンズ1056、1058、860、1062、及び1064は、それぞれ、レンズ1026、1024、1022、1020、及び1018と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ系1000内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表8Aに示している。対物面1002に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1004に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1002と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1004と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。表8Aの「厚み」と示した列は、この表面から像平面1004の方向にある隣接レンズまでを光軸1008に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
光学レンズ系1000内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面1028b、1036b、1046a、及び1054aは非球面表面である。光学レンズ系1000内の他のレンズ表面は球面表面である。光学レンズ系1000内のレンズの非球面表面に対して式1に対応する非球面定数を表8Bに示している。
図13を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系1100である。光学レンズ系1100は、対物面1102における物体を光学レンズ系1100の瞳平面に対応する対称平面1106を通じて像平面1104に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、375mmの焦点距離を有し、像平面1104において0.2の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1100はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系1100は、0.28のMa値、0.88のMb値、及び0.32のΓ比を有する。
光学レンズ系1100は、レンズ群1110、1113、1112、1120、1123、及び1122を含む。レンズ群1110、1112、1120、及び1122は、正の屈折力を有する。レンズ群1113及び1123は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸1108に対して回転対称である。
レンズ群1110は、レンズ1118、1120、1122、1124、及び1126を含む。レンズ1118は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群1110内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ1118は、レンズ1120と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群1113は、レンズ1128及び1130を含む。レンズ1128及びレンズ1130は両方とも、溶融シリカから形成される。
レンズ群1112は、レンズ1132、1134、1136、1138、及び1140を含む。レンズ1132、1134、及び1138は、CaF2から形成される。レンズ1136は溶融シリカから形成される。レンズ1140はBK7ガラスから形成される。レンズ1134及び1136は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ1138及び1140は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群1114は、平面1106に関してレンズ群1112と対称に位置決めされる。従って、レンズ1142、1144、1146、1148、及び1150は、それぞれ、レンズ1140、1138、1136、1134、及び1132と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1115は、平面1106に関してレンズ群1113と対称に位置決めされる。従って、レンズ1152及び1154は、それぞれ、レンズ1130及び1128と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1116は、平面1106に関してレンズ群1110と対称に位置決めされる。従って、レンズ1156、1158、1160、1162、及び1164は、それぞれ、レンズ1126、1124、1122、1120、及び11l8と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ系1100内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表9Aに示している。対物面1102に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1104に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1102と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1104と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。表9Aの「厚み」と示した列は、この表面から像平面1104の方向にある隣接レンズまでを光軸1108に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
光学レンズ系1100内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面1128b、1136b、1146a、及び1154aは非球面表面である。光学レンズ系400内の他のレンズ表面は球面表面である。光学レンズ系1100内のレンズの非球面表面に対して、式1に対応する非球面定数を表9Bに示している。
図14を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系1200である。光学レンズ系1200は、対物面1202における物体を光学レンズ系1200の瞳平面に対応する対称平面1206を通じて像平面1204に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、526mmの焦点距離を有し、像平面1204において0.16の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1200はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系1200は、0.23のMa値、0.89のMb値、及び0.26のΓ比を有する。
光学レンズ系1200は、レンズ群1210、1213、1212、1220、1223、及び1222を含む。レンズ群1210、1212、1220、及び1222は、正の屈折力を有する。レンズ群1213及び1223は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸1208に対して回転対称である。
レンズ群1210は、レンズ1218、1220、1222、1224、及び1226を含む。レンズ1218は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群1210内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ1218は、レンズ1220と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群1213は、レンズ1228及び1230を含む。レンズ1228は、溶融シリカから形成される。レンズ1230は、LLF−1ガラスから形成される。
レンズ群1212は、レンズ1232、1234、1236、1238、及び1240を含む。レンズ1232、1234、及び1238は、CaF2から形成されるのに対して、レンズ1236及び1240は、溶融シリカから形成される。レンズ1234及び1236は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ1238及び1240は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群1214は、平面1206に関してレンズ群1212と対称に位置決めされる。従って、レンズ1242、1244、1246、1248、及び1250は、それぞれ、レンズ1240、1238、1236、1234、及び1232と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1215は、平面1206に関してレンズ群1213と対称に位置決めされる。従って、レンズ1252及び1254は、それぞれ、レンズ1230及び1228と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1216は、平面1206に関してレンズ群1210と対称に位置決めされる。従って、レンズ1256、1258、1260、1262、及び1264は、それぞれ、レンズ1226、1224、1222、1220、及び1218と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ系1200内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表10に示している。対物面1202に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1204に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1202と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1204と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。光学レンズ系1200内の各レンズ表面は球面である。表10の「厚み」と示した列は、この表面から像平面1204の方向にある隣接レンズまでを光軸1208に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
図15を参照すると、6つのレンズ群を有する結像光学レンズ系の例は、光学レンズ系1300である。光学レンズ系1300は、対物面1302における物体を光学レンズ系1300の瞳平面に対応する対称平面1306を通じて像平面1304に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、522mmの焦点距離を有し、像平面1304において0.16の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1300はテレセントリックであり、1の倍率を有する。
光学レンズ系1300は、0.25のMa値、0.89のMb値、及び0.28のΓ比を有する。
光学レンズ系1300は、レンズ群1310、1313、1312、1320、1323、及び1322を含む。レンズ群1310、1312、1320、及び1322は、正の屈折力を有する。レンズ群1313及び1323は、負の屈折力を有する。レンズ群のレンズの各々は、図示の座標系内のz軸に対して平行な軸1308に対して回転対称である。
レンズ群1310は、レンズ1318、1320、1322、1324、及び1326を含む。レンズ1318は、LLF−1ガラスから形成されるのに対して、レンズ群1310内の全ての他のレンズは、溶融シリカから形成される。レンズ1318は、レンズ1320と共にPNダブレットを形成する。
レンズ群1313は、レンズ1328及び1330を含む。レンズ1328及びレンズ1330は両方とも、溶融シリカから形成される。
レンズ群1312は、レンズ1332、1334、1336、1338、及び1340を含む。レンズ1332、1334、及び1338は、CaF2から形成される。レンズ1336は溶融シリカから形成され、レンズ1340はLLF−1から形成される。レンズ1334及び1336は、第1のPNダブレットを形成する。レンズ1338及び1340は、PNの第2のダブレットを形成する。
レンズ群1314は、平面1306に関してレンズ群1312と対称に位置決めされる。従って、レンズ1342、1344、1346、1348、及び1350は、それぞれ、レンズ1340、1338、1336、1334、及び1332と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1315は、平面1306に関してレンズ群1313と対称に位置決めされる。従って、レンズ1352及び1354は、それぞれ、レンズ1330及び1328と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
レンズ群1316は、平面1306に関してレンズ群1310と対称に位置決めされる。従って、レンズ1356、1358、1360、1362、及び1364は、それぞれ、レンズ1326、1324、1322、1320、及び1318と同じ材料から形成され、かつ同じ形状である。
光学レンズ系1300内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径を含むレンズデータを表11に示している。対物面1302に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1304に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1302と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1304と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。光学レンズ系1300内の各レンズ表面は球面である。表11の「厚み」と示した列は、この表面から像平面1304の方向にある隣接レンズまでを光軸1308に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
図16を参照すると、結像光学レンズ系の別の例は、光学レンズ系1600である。光学レンズ系1600は、対物面1602における物体を光学レンズ系1600の瞳平面に対応する対称平面1606を通じて像平面1604に結像するように構成される。光学レンズ系は、1、948mmの焦点距離を有し、像平面1604において0.2の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1600はテレセントリックであり、1の倍率、及び52mm×66mmの視野サイズを有する。従って、Γ比の計算における最大視野サイズは、次式になる。
Figure 2009536373
光学レンズ系1600は、0.28のMa値、0.88のMb値、及び0.32のΓ比を有する。
光学レンズ1600のコンピュータモデリングは、0Wから40Wまでの入力電力範囲において以下のレンズ加熱誘発収差を示している。
最大非点収差変動:150nm/W
ピーク−谷間焦点面偏差変化:273nm/W
ピーク−谷間像面湾曲変化:232nm/W
軸上非点収差変動:−52nm/W
最大歪曲変化:5nm/W
光学レンズ系1600は、レンズ1618、1620、1622、1624、1626、1628、1630、1632、1634、1636、1638、1640、1642、1644、1648、1650、1652、1654、及び1656を含む。光学レンズ系1600内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径、及びレンズ組成を含むレンズデータを表12Aに示している。対物面1602に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1604に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1602と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1604と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。表12Aの「厚み」と示した列は、この表面から像平面1604の方向にある隣接レンズまでを光軸1608に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
光学レンズ系1600内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面1620b、1622b、1626b、1628a、1634b、1640a、1646b、1648a、1652a、及び1654aは非球面表面である。光学レンズ系1600内の他のレンズ表面は球面表面である。表12Bでは、非球面表面は、形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系1600内のレンズの非球面表面に対して式1に対応する非球面定数を表12Bに示している。
各レンズ表面に関する|SA/CA|’の値を表12Cに提供する。
図17を参照すると、結像光学レンズ系の別の例は、光学レンズ系1700である。光学レンズ系1700は、対物面1702における物体を光学レンズ系1700の瞳平面に対応する対称平面1706を通じて像平面1704に結像するように構成される。光学レンズ系は、像平面1704において0.16の最大開口数をもたらす。更に、光学レンズ系1700はテレセントリックであり、1の倍率、及び52mm×66mmの視野サイズを有する。従って、dmaxは42mmである。
光学レンズ系1700は、0.39のMa値、0.92のMb値、及び0.42のΓ比を有する。
光学レンズ1700のコンピュータモデリングは、0Wから40Wまでの入力電力範囲において以下のレンズ加熱誘発収差を示している。
最大非点収差変動:362nm/W
ピーク−谷間焦点面偏差変化:703nm/W
ピーク−谷間像面湾曲変化:583nm/W
軸上非点収差変動:−119nm/W
最大歪曲変化:9nm/W
光学レンズ系1700は、レンズ1718、1720、1722、1724、1726、1728、1730、1732、1734、1736、1738、1740、1742、1744、1748、1750、1752、1754、1756、1758、及び1760を含む。光学レンズ系1700内のレンズの各々の表面のうちの各々の曲率半径、及びレンズ組成を含むレンズデータを表13Aに示している。対物面1702に対面する各レンズの表面を「a」という文字で示し、像平面1704に対面する各レンズの表面を「b」という文字で示している。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の対物面1702と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は負である。レンズ表面の曲率中心が、そのレンズ表面の像平面1704と同じ側にある場合には、レンズ表面の曲率半径は正である。表13Aの「厚み」と示した列は、この表面から像平面1704の方向にある隣接レンズまでを光軸1708に沿って測定した距離を意味する。波長365nmに対する屈折率の値が提供されている。
光学レンズ系1700内のレンズの表面のうちの一部は、非球面表面である。具体的には、表面1720b、1730a、1738b、1740a、1748b、及び1758aは非球面表面である。光学レンズ系1700内の他のレンズ表面は球面表面である。表13Bでは、非球面表面は、形状「AS」を有するものとして識別している。光学レンズ系1700内のレンズの非球面表面に対して式1に対応する非球面定数を表13Bに示している。
各レンズ表面に関する|SA/CA|’の値を表13Cに提供する。
他の実施形態は、特許請求の範囲に説明している。
(表1)
Figure 2009536373
(表2A)
Figure 2009536373
(表2B)
Figure 2009536373
(表2B続き)
Figure 2009536373
(表3A)
Figure 2009536373
(表3B)
Figure 2009536373
(表3B続き)
Figure 2009536373
(表4A)
Figure 2009536373
(表4B)
Figure 2009536373
(表5A)
Figure 2009536373
(表5B)
Figure 2009536373
(表5C)
Figure 2009536373
(表6A)
Figure 2009536373
(表6A続き)
Figure 2009536373
(表6B)
Figure 2009536373
(表7)
Figure 2009536373
(表7続き)
Figure 2009536373
(表8A)
Figure 2009536373
(表8A続き)
Figure 2009536373
(表8B)
Figure 2009536373
(表9A)
Figure 2009536373
(表9A続き)
Figure 2009536373
(表9B)
Figure 2009536373
(表10)
Figure 2009536373
(表10続き)
Figure 2009536373
(表11)
Figure 2009536373
(表11続き)
Figure 2009536373
(表12A)
Figure 2009536373
(表12B)
Figure 2009536373
(表12C)
Figure 2009536373
(表13A)
Figure 2009536373
(表13A続き)
Figure 2009536373
(表13B)
Figure 2009536373
(表13C)
Figure 2009536373
光学レンズ系の実施形態の概略図である。 光学レンズ系の実施形態の概略図である。 光学レンズ系の実施形態の概略図である。 異なる材料の屈折率及びアッベ数を比較する図表である。 光学レンズ系の一部分の概略図である。 光学レンズ系の異なる領域を示す光学レンズ系の実施形態の概略図である。 マイクロリソグラフィシステムの実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。 結像光学レンズ系の実施形態の概略図である。
符号の説明
100 結像光学レンズ系
102 対物面
104 像平面
110 第1のレンズ群
112 第2のレンズ群
114 第3のレンズ群
116 第4のレンズ群

Claims (179)

  1. 光軸を有し、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第1のレンズ群と、
    光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第2のレンズ群と、
    光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第3のレンズ群と、
    光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第4のレンズ群と、
    を含み、
    前記第1、第2、第3、及び第4のレンズ群の各々における前記第1及び第2のレンズは、シリカを含み、
    前記第1、第2、第3、及び第4のレンズ群は、前記光軸に直角な平面に関して対称に位置決めされ、
    前記第1のレンズ群は、波長λの放射に対して第1の色収差を有し、
    前記第2のレンズ群は、前記放射に対して第2の色収差を有し、
    前記第2の色収差のマグニチュードと前記第1の色収差のマグニチュードの間の差は、約λよりも小さく、かつ
    前記第2の色収差の符号は、前記第1の色収差の符号と反対であり、かつ
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の一部分を形成する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  2. 前記レンズの少なくとも1つは、フリントガラスを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学レンズ系。
  3. 光軸を有し、放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    光学レンズ系の光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第1のレンズ群と、
    光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第2のレンズ群と、
    を含み、
    前記第1のレンズ群は、放射に対して第1の色収差を有し、
    前記第2のレンズ群は、前記放射に対して第2の色収差を有し、
    前記放射は、波長λを含み、
    前記第2の色収差のマグニチュードと前記第1の色収差のマグニチュードの間の差は、約λよりも小さく、
    光学レンズ系が、前記波長λの放射を像領域に結像し、かつ
    前記第2の色収差の符号は、前記第1の色収差の符号と反対であり、かつ、
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ光学レンズ系の一部分を形成し、かつ前記第1のレンズ群は、前記像領域における前記波長λの像の湾曲をマイクロリソグラフィ光学レンズ系の該像領域における該マイクロリソグラフィ光学レンズ系の焦点深度よりも小さく低減する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  4. 光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1のレンズを含む第3のレンズ群と、
    光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第1及び第2のレンズを含む第4のレンズ群と、
    を更に含むことを特徴とする請求項3に記載の光学レンズ系。
  5. 前記第3のレンズ群は、光学レンズ系の前記光軸に沿って位置決めされた第2のレンズを更に含むことを特徴とする請求項4に記載の光学レンズ系。
  6. 前記レンズ群は、前記光軸に直角な平面に関して対称に位置決めされることを特徴とする請求項4に記載の光学レンズ系。
  7. 前記平面は、瞳平面であることを特徴とする請求項6に記載の光学レンズ系。
  8. 中継結像系であることを特徴とする請求項4に記載の光学レンズ系。
  9. テレセントリック結像系であることを特徴とする請求項4に記載の光学レンズ系。
  10. 前記マイクロリソグラフィ光学レンズ系の像領域における前記放射に対する該マイクロリソグラフィ光学レンズ系の色収差のマグニチュードが、前記第1の色収差の前記マグニチュードよりも小さいことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  11. 前記波長λの放射を像領域に結像し、
    前記第1のレンズ群は、前記像領域における前記波長λの像の湾曲を前記マイクロリソグラフィ光学レンズ系の該像領域における該マイクロリソグラフィ光学レンズ系の焦点深度よりも小さく低減する、
    ことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  12. 前記第1のレンズ群内の前記レンズの少なくとも1つは、非球面表面を有することを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  13. 前記第2のレンズ群内の前記レンズの少なくとも1つは、非球面表面を有することを特徴とする請求項12に記載の光学レンズ系。
  14. 前記第1及び第2のレンズ群の間の前記光軸に沿った最短距離は、約5センチメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  15. 前記第1及び第2のレンズ群の間の前記光軸に沿った最短距離は、約10センチメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  16. 前記第1及び第2のレンズ群の間の前記光軸に沿った最短距離は、約15センチメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  17. 前記第1及び第2のレンズ群の間の前記光軸に沿った最短距離は、約20センチメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  18. 前記第1のレンズ群内の前記レンズのうちの第1のものは、第1の材料で形成され、該第1のレンズ群内の該レンズのうちの第2のものは、第2の材料で形成され、該第1の材料は、第1の分散を有し、該第2の材料は、該第1の分散とは異なる第2の分散を有することを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  19. 前記第2のレンズ群内の前記レンズのうちの第1のものは、第1の材料で形成され、該第2のレンズ群内の該レンズのうちの第2のものは、第2の材料で形成され、該第1の材料は、第1の分散を有し、該第2の材料は、該第1の分散とは異なる第2の分散を有することを特徴とする請求項18に記載の光学レンズ系。
  20. 前記第2のレンズ群内の前記レンズのうちの第1のものは、第1の材料で形成され、該第2のレンズ群内の該レンズのうちの第2のものは、第2の材料で形成され、該第1の材料は、第1の分散を有し、該第2の材料は、該第1の分散とは異なる第2の分散を有することを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  21. 前記第2の色収差の前記マグニチュードは、前記第2のレンズ群内の前記レンズの各々の色収差のマグニチュードよりも大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  22. 前記第2のレンズ群は、凸レンズ及び凹レンズを含むレンズのダブレットを含むことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  23. 前記凸レンズは、クラウンガラスを含み、前記凹レンズは、フリントガラスを含むことを特徴とする請求項22に記載の光学レンズ系。
  24. 前記凸レンズ及び前記凹レンズは、離間していることを特徴とする請求項22に記載の光学レンズ系。
  25. 前記第2の色収差の前記符号は、前記第2のレンズ群内の少なくとも1つのレンズの色収差の符号と反対であることを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  26. 前記第1のレンズ群は、約130mm又はそれ未満の曲率半径を備えた凹面を有するレンズを含むことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  27. 前記波長λの放射を像領域に結像し、前記レンズの前記凹面が、該像領域から該レンズの反対側であることを特徴とする請求項26に記載の光学レンズ系。
  28. 絞りを更に含み、前記レンズの前記凹面が、該絞りと該レンズの同じ側であることを特徴とする請求項26に記載の光学レンズ系。
  29. 前記第1のレンズ群は、正の屈折力を有する第1のレンズ小群、及び負の屈折力を有する第2のレンズ小群を含むことを特徴とする請求項1又は請求項3に記載の光学レンズ系。
  30. 前記波長λの放射を像領域に結像し、前記第2のレンズ小群が、前記第1のレンズ小群と該像領域の間に位置決めされることを特徴とする請求項29に記載の光学レンズ系。
  31. 前記第1のレンズ群は、焦点距離及び主平面を有し、該主平面と前記第2のレンズ群の間の最短距離は、該第1のレンズ群の該焦点距離よりも長いことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  32. 前記光軸を横切る方向の前記第1のレンズ群の最大寸法は、該光軸を横切る方向の前記第2のレンズ群の最大寸法よりも約1.5又はそれよりも大きい倍数だけ大きいことを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  33. 前記第1の色収差は、前記放射に対する前記第1のレンズ群内の前記レンズのうちの1つの色収差のマグニチュードよりも小さいマグニチュードを有することを特徴とする請求項1又は請求項3のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  34. 光軸を有し、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    正の屈折力を有し、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた第1のレンズ群と、
    正の屈折力を有し、前記第1のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、第1のダブレット及び第2のダブレットを含み、該第1のダブレットが第1の材料から形成されたレンズ及び第2の材料から形成されたレンズを含み、該第1及び第2の材料がλにおいて異なる分散を有する第2のレンズ群と、
    正の屈折力を有し、前記第2のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、第1のダブレット及び第2のダブレットを含み、該第1のダブレットが第3の材料から形成されたレンズ及び第4の材料から形成されたレンズを含み、該第3及び第4の材料がλにおいて異なる分散を有する第3のレンズ群と、
    正の屈折力を有し、前記第3のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされた第4のレンズ群と、
    を含み、
    前記第2のレンズ群の前記第1及び第2のダブレットは、前記光軸に直角な平面に関して前記第3のレンズ群内の前記第1及び第2のダブレットと対称に配置され、かつ
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  35. 前記対称平面は、光学レンズ系の瞳平面であることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  36. 前記平面に位置決めされた絞りを更に含むことを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  37. 前記第2のレンズ群内の各レンズは、前記第3のレンズ群内に同一設計の対応するレンズを有し、該第2及び第3のレンズ群の該レンズは、前記光軸に直角な前記平面に関して対称に配置されることを特徴とする請求項34に記載の光学系。
  38. 前記第1の材料から形成された前記レンズは、負のレンズであることを特徴とする請求項34に記載の光学系。
  39. 前記第1の材料から形成された前記レンズは、メニスカスレンズであることを特徴とする請求項34に記載の光学系。
  40. 前記第1の材料は、クラウンガラスであることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  41. 前記第1の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対して40≦V1≦70であるアッベ数V1を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  42. 前記第1の材料は、SiO2、FK5、K7、BK7、及びK5から成る群から選択されることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  43. 前記第3の材料は、クラウンガラスであることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  44. 前記第3の材料は、SiO2、FK5、K7、BK7、及びK5から成る群から選択されることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  45. 前記第3の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対して40≦V3≦70であるアッベ数V3を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  46. 前記第1の材料は、前記第3の材料と同じであることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  47. 前記第2の材料から形成された前記レンズは、正のレンズであることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  48. 前記第2の材料は、CaF2であることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  49. 前記第2の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対して70<V2であるアッベ数V2を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  50. 前記第4の材料は、CaF2であることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  51. 前記第4の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対して70<V4であるアッベ数V4を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  52. 前記第2の材料は、前記第4の材料と同じであることを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  53. 前記第2のレンズ群の前記第2のダブレットは、前記第1の材料から形成されたレンズ及び第5の材料から形成されたレンズを含み、該第1、第2、及び第5の材料は、λにおいて異なる分散を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  54. 前記第5の材料は、フリントガラスであることを特徴とする請求項53に記載の光学レンズ系。
  55. 前記第5の材料は、LLF1、LLF5、及びLLF6から成る群から選択されることを特徴とする請求項53に記載の光学レンズ系。
  56. 前記第5の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対してV5<40であるアッベ数V5を有することを特徴とする請求項53に記載の光学レンズ系。
  57. 前記第3のレンズ群の前記第2のダブレットは、前記第3の材料から形成されたレンズ及び第6の材料から形成されたレンズを含み、該第3、第4、及び第6の材料は、λにおいて異なる分散を有することを特徴とする請求項53に記載の光学レンズ系。
  58. 前記第6の材料は、LLF1、LLF5、及びLLF6から成る群から選択されることを特徴とする請求項57に記載の光学レンズ系。
  59. 前記第6の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対してV6<40であるアッベ数V6を有することを特徴とする請求項57に記載の光学レンズ系。
  60. 前記第5の材料は、前記第6の材料と同じであることを特徴とする請求項57に記載の光学レンズ系。
  61. 前記第1のレンズ群内の各レンズは、前記第4のレンズ群内と同一設計の対応するレンズを有し、該第1及び第4のレンズ群内の該レンズは、前記光軸に直角な前記平面に関して対称に配置されることを特徴とする請求項34に記載の光学系。
  62. 前記第1のレンズ群は、第5の材料から形成されたレンズを含み、前記第1、第2、及び第5の材料は、λにおいて異なる分散を有することを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  63. 前記第5の材料は、フリントガラスであることを特徴とする請求項62に記載の光学レンズ系。
  64. 前記第5の材料は、LLF1、LLF5、及びLLF6から成る群から選択されることを特徴とする請求項62に記載の光学レンズ系。
  65. 前記第5の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対してV5<40であるアッベ数V5を有することを特徴とする請求項62に記載の光学レンズ系。
  66. 前記第5の材料から形成された前記レンズは、前記物体領域から前記像領域への前記放射の経路における最初のレンズであることを特徴とする請求項62に記載の光学レンズ系。
  67. 前記第4の群は、第6の材料から形成されたレンズを含み、前記第3、第4、及び第6の材料は、λにおいて異なる分散を有することを特徴とする請求項62に記載の光学レンズ系。
  68. 前記第6の材料は、LLF1、LLF5、及びLLF6から成る群から選択されることを特徴とする請求項67に記載の光学レンズ系。
  69. 前記第6の材料は、λ1=365nm、λ2=405nm、及びλ3=436nmに対してV6<40であるアッベ数V6を有することを特徴とする請求項67に記載の光学レンズ系。
  70. 前記第6の材料から形成された前記レンズは、前記物体領域から前記像領域への前記放射の経路における最後のレンズであることを特徴とする請求項67に記載の光学レンズ系。
  71. 前記第5の材料は、前記第6の材料と同じであることを特徴とする請求項67に記載の光学レンズ系。
  72. 前記第1のレンズ群と前記第2のレンズ群の間に前記光軸に沿って位置決めされた第5のレンズ群を更に含むことを特徴とする請求項34に記載の光学レンズ系。
  73. 前記第5のレンズ群は、負の屈折力を有することを特徴とする請求項72に記載の光学レンズ系。
  74. 前記放射が、Dmaxを光学レンズ系におけるビームの最大直径として0.8Dmax又はそれ未満である最大直径D5を有するビームを前記第5のレンズ群に形成するように構成されていることを特徴とする請求項72に記載の光学レンズ系。
  75. 前記放射が、Dmaxを光学レンズ系におけるビームの最大直径として0.5Dmax又はそれ未満である最大直径D5を有するビームを前記第5のレンズ群に形成するように構成されていることを特徴とする請求項72に記載の光学レンズ系。
  76. 前記第3のレンズ群と前記第4のレンズ群の間に前記光軸に沿って位置決めされた第6のレンズ群を更に含むことを特徴とする請求項72に記載の光学レンズ系。
  77. 前記第6のレンズ群は、負の屈折力を有することを特徴とする請求項76に記載の光学レンズ系。
  78. 前記第5のレンズ群内の各レンズは、前記第6のレンズ群内と同一設計の対応するレンズを有し、該第5及び第6のレンズ群内の該レンズは、前記光軸に直角な前記平面に関して対称に配置されることを特徴とする請求項76に記載の光学系。
  79. 光軸を有し、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    正の屈折力を有し、物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた第1のレンズ群と、
    第1の値の正の屈折力を有し、前記第1のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、第1の材料から形成されたレンズ、第2の材料から形成されたレンズ、及び第3の材料から形成されたレンズを含み、該第1、第2、及び第3の材料がλにおいて異なる分散を有する第2のレンズ群と、
    正の屈折力を有し、前記第2のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされた第3のレンズ群と、
    正の屈折力を有し、前記第3のレンズ群と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされた第4のレンズ群と、
    を含み、
    前記第2のレンズ群内の前記レンズは、光学レンズ系の瞳平面に関して前記第3のレンズ群のレンズと対称に配置され、かつ
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  80. 光軸を有し、波長λ及びλ’の放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた複数のレンズ、
    を含み、
    光学レンズ系のレンズの全数の少なくとも半分が、溶融シリカから形成され、
    |λ−λ’|≧20nmであり、かつ
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  81. 0.2又はそれ未満の最大開口数及び0.33未満のΓ比を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、又は請求項80のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  82. 光軸を有し、波長λの放射を物体領域から像領域へ方向付けるための光学レンズ系であって、
    物体領域と像領域の間に光軸に沿って位置決めされた複数のレンズ、
    を含み、
    光学レンズ系が、0.2又はそれ未満の最大開口数及び0.33未満のΓ比を有し、かつ
    光学レンズ系が、マイクロリソグラフィ投影システムの一部分を形成する、
    ことを特徴とする光学レンズ系。
  83. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数が、30又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  84. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数が、28又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  85. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数が、26又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  86. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数が、24又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  87. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、溶融シリカから形成されていないレンズの全数が、14又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  88. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、溶融シリカから形成されていないレンズの全数が、12又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  89. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされ、溶融シリカから形成されていないレンズの全数が、10又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  90. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の倍率が、1であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  91. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の倍率が、1よりも大きいことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  92. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の倍率が、少なくとも約2であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  93. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の倍率が、少なくとも約3であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  94. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の倍率が、少なくとも約4であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  95. 少なくとも約0.1の前記像領域での最大開口数を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  96. 少なくとも約0.15の前記像領域での最大開口数を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  97. 少なくとも約0.2の前記像領域での最大開口数を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  98. 前記像領域での前記放射の視野サイズが、約10ミリメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  99. 前記像領域での前記放射の視野サイズが、約20ミリメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  100. 前記像領域での前記放射の視野サイズが、約30ミリメートル又はそれよりも大きいことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  101. 前記レンズの少なくとも1つは、シリカを含むことを特徴とする請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  102. 前記レンズの少なくとも1つは、フリントガラスを含むことを特徴とする請求項101に記載の光学レンズ系。
  103. 前記レンズの少なくとも1つは、溶融シリカを含むことを特徴とする請求項101に記載の光学レンズ系。
  104. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数の少なくとも半分が、溶融シリカから形成されることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  105. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数の少なくとも60%が、溶融シリカから形成されることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  106. 前記物体領域と前記像領域の間に前記光軸に沿って位置決めされたレンズの全数の少なくとも70%が、溶融シリカから形成されることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  107. 前記レンズのうちの第1のものは、第1の材料で形成され、該レンズのうちの第2のものは、第2の材料で形成され、該第1の材料は、第1の分散を有し、該第2の材料は、該第1の分散とは異なる第2の分散を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  108. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の前記光軸に沿った長さが、約10メートル又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  109. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の前記光軸に沿った長さが、約5メートル又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  110. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の前記光軸に沿った長さが、約4メートル又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  111. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の前記光軸に沿った長さが、約3メートル又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  112. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の前記光軸に沿った長さが、約2メートル又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  113. 前記放射は、約0.5ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  114. 前記放射は、約5ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  115. 前記放射は、約10ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  116. 前記放射は、約25ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  117. 前記放射は、約50ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  118. 前記放射は、可視波長範囲及びUV波長範囲から成る群から選択された波長範囲内の少なくとも1つの波長を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  119. 前記放射は、約350ナノメートルから約450ナノメートルの波長を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  120. λが、450nm又はそれ未満であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  121. 20nm<|λ−λ’|である異なる波長λ及びλ’の放射を前記像領域内の前記光軸上の共通点に結像することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  122. 10nm<|λ−λ’’|及び10nm<|λ’−λ’’|であるλ’’の放射を前記光軸上の前記共通点に結像することを特徴とする請求項121に記載の光学レンズ系。
  123. λ、λ’、及びλ’’が、光源の輝線に対応することを特徴とする請求項122に記載の光学レンズ系。
  124. λが、365nmであり、λ’が、405nmであり、かつλ’’が、436nmであることを特徴とする請求項122に記載の光学レンズ系。
  125. 前記レンズの少なくとも1つは、非球面表面を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  126. 前記レンズの少なくとも2つの各々は、非球面表面を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  127. 前記マイクロリソグラフィの光学レンズ系の照明開口を形成するための要素を更に含むことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  128. 前記要素は、双極照明、四重極照明、又は環状照明を形成することを特徴とする請求項127に記載の光学レンズ系。
  129. 前記複数のレンズのうちの40%を超えないものが、0.6又はそれよりも大きい全開口に対する部分開口の比を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  130. 前記複数のレンズのうちの8つを超えないレンズが、0.6又はそれよりも大きい全開口に対する部分開口の比を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  131. 0.32又はそれ未満のΓ比を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  132. 0.28又はそれ未満のΓ比と0.16又はそれ未満の最大開口数とを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  133. 0.25又はそれ未満のΓ比と0.16又はそれ未満の最大開口数とを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  134. 0.33又はそれ未満のΓ比と0.2又はそれ未満の最大開口数とを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  135. 0.02≦NAmax<0.07である最大開口数NAmaxを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  136. 7mm≦dmax≦16mmである最大像視野寸法dmaxと0.23<Γ≦0.33であるΓ比とを有することを特徴とする請求項135に記載の光学レンズ系。
  137. 16mm≦dmax≦27mmである最大像視野寸法dmaxと0.16<Γ≦0.23であるΓ比とを有することを特徴とする請求項135に記載の光学レンズ系。
  138. 27mm≦dmax≦36mmである最大像視野寸法dmaxと0.12<Γ≦0.16であるΓ比とを有することを特徴とする請求項135に記載の光学レンズ系。
  139. 36mm≦dmax≦42mmである最大像視野寸法dmaxと0.11<Γ≦0.12であるΓ比とを有することを特徴とする請求項135に記載の光学レンズ系。
  140. 0.07≦NAmax<0.13である最大開口数NAmaxを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  141. 7mm≦dmax≦16mmである最大像視野寸法dmaxと0.35<Γ≦0.47であるΓ比とを有することを特徴とする請求項140に記載の光学レンズ系。
  142. 16mm≦dmax≦27mmである最大像視野寸法dmaxと0.25<Γ≦0.35であるΓ比とを有することを特徴とする請求項140に記載の光学レンズ系。
  143. 27mm≦dmax≦36mmである最大像視野寸法dmaxと0.19<Γ≦0.25であるΓ比とを有することを特徴とする請求項140に記載の光学レンズ系。
  144. 36mm≦dmax≦42mmである最大像視野寸法dmaxと0.18<Γ≦0.19であるΓ比とを有することを特徴とする請求項140に記載の光学レンズ系。
  145. 0.13≦NAmax<0.18である最大開口数NAmaxを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  146. 7mm≦dmax≦16mmである最大像視野寸法dmaxと0.43<Γ≦0.55であるΓ比とを有することを特徴とする請求項145に記載の光学レンズ系。
  147. 16mm≦dmax≦27mmである最大像視野寸法dmaxと0.33<Γ≦0.43であるΓ比とを有することを特徴とする請求項145に記載の光学レンズ系。
  148. 27mm≦dmax≦36mmである最大像視野寸法dmaxと0.27<Γ≦0.33であるΓ比とを有することを特徴とする請求項145に記載の光学レンズ系。
  149. 36mm≦dmax≦42mmである最大像視野寸法dmaxと0.25<Γ≦0.27であるΓ比とを有することを特徴とする請求項145に記載の光学レンズ系。
  150. 0.02≦NAmax<0.25である最大開口数NAmaxを有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  151. 7mm≦dmax≦16mmである最大像視野寸法dmaxと0.46<Γ≦0.57であるΓ比とを有することを特徴とする請求項150に記載の光学レンズ系。
  152. 16mm≦dmax≦27mmである最大像視野寸法dmaxと0.38<Γ≦0.46であるΓ比とを有することを特徴とする請求項150に記載の光学レンズ系。
  153. 27mm≦dmax≦36mmである最大像視野寸法dmaxと0.31<Γ≦0.38であるΓ比とを有することを特徴とする請求項150に記載の光学レンズ系。
  154. 36mm≦dmax≦42mmである最大像視野寸法dmaxと0.29<Γ≦0.31であるΓ比とを有することを特徴とする請求項150に記載の光学レンズ系。
  155. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において400nm/W又はそれ未満の最大非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  156. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において200nm/W又はそれ未満の最大非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  157. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において150nm/W又はそれ未満の最大非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  158. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において700nm/W又はそれ未満のピーク−谷間焦点面偏差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  159. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において290nm/W又はそれ未満のピーク−谷間焦点面偏差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  160. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において280nm/W又はそれ未満のピーク−谷間焦点面偏差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  161. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において600nm/W又はそれ未満のピーク−谷間像面湾曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  162. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において400nm/W又はそれ未満のピーク−谷間像面湾曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  163. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において300nm/W又はそれ未満のピーク−谷間像面湾曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  164. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において−120nm/W又はそれ未満の最大軸上非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  165. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において−70nm/W又はそれ未満の最大軸上非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  166. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において−55nm/W又はそれ未満の最大軸上非点収差変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  167. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において10nm/W又はそれ未満の最大歪曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  168. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において8nm/W又はそれ未満の最大歪曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  169. 40Wまでの入力放射電力に対して前記像領域において6nm/W又はそれ未満の最大歪曲変動を有することを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  170. 半導体基板を前記像領域に位置決めするための台を更に含むことを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  171. 純粋に屈折性のレンズ系であることを特徴とする請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82のいずれか1項に記載の光学レンズ系。
  172. マイクロリソグラフィ処理中に請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82に記載の光学レンズ系を通して放射を方向付けし、基板を該放射に露光する段階、
    を含むことを特徴とする方法。
  173. 集積回路を製造する方法であって、
    請求項1、請求項3、請求項34、請求項79、請求項80、又は請求項82に記載の光学レンズ系に対してウェーハを位置決めする段階と、
    前記光学レンズ系を用いて前記ウェーハ上の感光層をパターン化された放射に露光する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
  174. マイクロリソグラフィ処理中に放射に複数のダイを同時に露光する段階、
    を含み、
    前記放射は、約0.5ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有し、前記ダイは、マイクロリソグラフィ投影対物レンズを用いて該放射に露光される、
    ことを特徴とする方法。
  175. マイクロリソグラフィ投影対物レンズを用いてマイクロリソグラフィ処理中に放射に基板を露光する段階、
    を含み、
    前記放射は、10ミリメートル又はそれよりも大きい少なくとも1つの寸法を有する前記基板の表面の区域を露光し、該放射は、約0.5ナノメートル又はそれよりも大きい半値全幅を有する電磁放射の波長の分布を有する、
    ことを特徴とする方法。
  176. 前記基板の前記表面の前記区域は、約52mm×66mmの区域を有することを特徴とする請求項175に記載の方法。
  177. 前記波長分布は、365nm、405nm、及び436nmを含むことを特徴とする請求項175に記載の方法。
  178. 複数の水銀輝線で放射を放出するように構成された水銀光源と、
    前記水銀光源によって放出された放射を受光するように位置決めされた投影対物レンズと、
    前記投影対物レンズに対してウェーハを位置決めするように構成された台と、
    を含み、
    作動中に、前記投影対物レンズは、前記光源から放射を、1つよりも多い前記輝線からのエネルギを該放射が含む前記ウェーハへ方向付ける、
    ことを特徴とするマイクロリソグラフィシステム。
  179. 前記放射は、i−、g−、及びh−輝線からのエネルギを含むことを特徴とする請求項178に記載のマイクロリソグラフィシステム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013054286A (ja) * 2011-09-06 2013-03-21 Lithotech Co Ltd 投影光学系
JP2014115494A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Hoya Corp 集光光学系及び観察器具
JP2016528526A (ja) * 2013-06-17 2016-09-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Euv結像装置

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151365A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
US8107162B2 (en) 2004-05-17 2012-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with intermediate images
US20100283978A1 (en) * 2009-05-07 2010-11-11 Ultratech,Inc. LED-based UV illuminators and lithography systems using same
CN102707414B (zh) * 2010-03-23 2014-07-16 上海微电子装备有限公司 光刻投影物镜
CN102200624B (zh) * 2010-03-23 2013-05-22 上海微电子装备有限公司 光刻投影物镜
CN102707415B (zh) * 2010-03-23 2014-07-16 上海微电子装备有限公司 光刻投影物镜
CN102279459B (zh) * 2010-06-09 2014-06-18 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜
CN102298198B (zh) * 2010-06-22 2013-05-22 上海微电子装备有限公司 一种大视场光刻投影物镜
DE102010061950A1 (de) * 2010-11-25 2012-05-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren sowie Anordnung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System
CN102023377B (zh) * 2010-12-07 2012-11-21 桂林电子科技大学 无CaF2中倍平场复消色差金相显微物镜
CN102540419B (zh) * 2010-12-31 2014-01-22 上海微电子装备有限公司 一种大视场投影光刻物镜
TWI500878B (zh) * 2012-07-24 2015-09-21 Lextar Electronics Corp 可調光形之發光裝置及光源模組
CN104111534B (zh) * 2014-08-07 2016-07-06 张家港鹏博光电科技有限公司 一种对称式双远心投影光学系统的倍率调节方法
KR20170041359A (ko) * 2015-10-07 2017-04-17 엘지이노텍 주식회사 조명 장치
KR101950726B1 (ko) 2016-12-21 2019-02-21 한남대학교 산학협력단 멀티스케일 이미징 시스템
CN109581622B (zh) * 2017-09-29 2020-12-04 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种投影物镜
CN109634058B (zh) * 2017-10-09 2020-08-04 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光学透镜系统、曝光装置、曝光方法和元件的制造方法
KR101957357B1 (ko) 2017-11-16 2019-03-12 한남대학교 산학협력단 단일 미러를 사용한 멀티스케일 이미징 시스템
KR101957353B1 (ko) 2017-11-16 2019-03-12 한남대학교 산학협력단 미러의 회전이 가능한 멀티스케일 이미징 시스템
DE102018106236B3 (de) * 2018-03-16 2019-09-12 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh Objektiv mit fester Brennweite
CN111142337B (zh) * 2018-11-06 2021-04-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种投影物镜及曝光系统
WO2021043516A1 (en) * 2019-09-03 2021-03-11 Asml Netherlands B.V. Assembly for collimating broadband radiation
CN113866994B (zh) * 2020-06-30 2023-04-18 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种准直镜及像传感器
CN113835209B (zh) * 2021-11-19 2024-04-26 中导光电设备股份有限公司 一种大视场duv物镜
DE102022201002A1 (de) 2022-01-31 2023-08-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
DE102022201001A1 (de) * 2022-01-31 2023-08-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61138226A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Canon Inc 投影露光用のアライメント光学系
JPH10282411A (ja) * 1997-04-03 1998-10-23 Nikon Corp 投影光学系
JP2002014281A (ja) * 2000-04-26 2002-01-18 Nikon Gijutsu Kobo:Kk 両側テレセントリック投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2698555A (en) 1949-03-19 1955-01-04 Perkin Elmer Corp Optical system with corrected secondary spectrum
US5696631A (en) * 1996-02-22 1997-12-09 Anvik Corporation Unit magnification projection lens system
JP3864399B2 (ja) * 1996-08-08 2006-12-27 株式会社ニコン 投影露光装置及び該投影露光装置に用いられる投影光学系並びにデバイス製造方法
JP4811623B2 (ja) 2000-06-14 2011-11-09 株式会社ニコン 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置
CN100547447C (zh) * 2005-02-07 2009-10-07 中国科学院光电技术研究所 深紫外投影光刻物镜
JP4779394B2 (ja) 2005-03-23 2011-09-28 株式会社ニコン 投影光学系、露光装置、および露光方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61138226A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Canon Inc 投影露光用のアライメント光学系
JPH10282411A (ja) * 1997-04-03 1998-10-23 Nikon Corp 投影光学系
JP2002014281A (ja) * 2000-04-26 2002-01-18 Nikon Gijutsu Kobo:Kk 両側テレセントリック投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013054286A (ja) * 2011-09-06 2013-03-21 Lithotech Co Ltd 投影光学系
JP2014115494A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Hoya Corp 集光光学系及び観察器具
JP2016528526A (ja) * 2013-06-17 2016-09-15 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Euv結像装置
US9904175B2 (en) 2013-06-17 2018-02-27 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV imaging apparatus
KR101830011B1 (ko) 2013-06-17 2018-03-29 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 Euv 이미징 장치

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