JPS61138226A - 投影露光用のアライメント光学系 - Google Patents

投影露光用のアライメント光学系

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JPS61138226A
JPS61138226A JP59260528A JP26052884A JPS61138226A JP S61138226 A JPS61138226 A JP S61138226A JP 59260528 A JP59260528 A JP 59260528A JP 26052884 A JP26052884 A JP 26052884A JP S61138226 A JPS61138226 A JP S61138226A
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JP
Japan
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lens
optical system
alignment
alignment optical
projection
Prior art date
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Pending
Application number
JP59260528A
Other languages
English (en)
Inventor
Takamasa Hirose
広瀬 隆昌
Akiyoshi Suzuki
章義 鈴木
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS61138226A publication Critical patent/JPS61138226A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は投影露光用のアライメント光学系に関し、特K
 IC、LSI−等の電子回路の製造においてマスクと
ウェハを高精度に位置合わせすることのできる投影露光
用のアライメント光学系に関するものである。
従来よりIC、LSI等の製造においては多くの場合列
えば特開昭56−110234号で提案されているよう
に第1図に示すような投影露光用の光学系が用いられて
いる。同図において1は超高圧水銀灯の光源で、この光
源1からの放射される例えば波長405 nHの光束で
コンデンサーレンズzt−介して投影用のマスク4を照
明する。
−マスク4上の回路パターンは投影レンズ6によシフオ
ドレジスト等の感光材料が塗布されているウェハ7面上
に投影される。3,3′は感光材料に不感性の光束でマ
スク4上のアライメント用マークを照明し、マスク4と
ウェハ7の位置合わせ即ちアライメントを観察しながら
行う観察光学系である。5,5′は投影レンズ6と共K
iマスクとウェハ7のアライメントを行う為のアライメ
ント光学系である。8はウェハ7の載置台であり、X+
Yr%方向に調整可能に取付けられている。
投影レンズ6はマスク4上の数μという微細な回路パタ
ーンをウニ凸面7上に投影する為に感光材料及び光源1
0発光スペクトルの波長に対して、的えば405 nm
若しくは436 n@ という不可視光に近い波長に対
して高精度に収差補正がなされている。
又マスク4とウニ・・7の位置合わせは投影レンズ6の
収差補正の対象となった波長と異った主に可視域の光束
でなされる。この為第1図に示す光学系においてアライ
メント光学系5 + 5’を用いて収差補正を行なわな
いと投影レンズ6の色収差の影響でアライメントの際に
ピットズレや倍率ズレを生じてしまう。この結果アライ
メント精度を著ろしく低下させてしまう。
本発明は投影レンズと共に併用しマスクとウェハとの位
置合わせを高精度に行うことのできる投影露光用のアラ
イメント光学系の提供金目的とする。
本発明の目的を達成する為の投影露光用のアライメント
光学系の主たる特徴は、マスク上ノ回路パターンをウニ
凸面上に投影する為の投影レンズト前記投影レンズとマ
スクとの間であっテ前記投影レンズの光軸外に配置した
アライメント光学系とにより前記マスクとウェハの位置
合わせを行うようにした投影露光用のアライメント光学
系において、前記アライメント光学系を前記投影レンズ
側より順に正の屈折力の第1v 7 X’ ト負の屈折
力の@2レンズの2つのレンズで構成したことでめる〇 この二うに本発明では正の屈折力と負の屈折力の2つの
レンズよりアライメント光学系全構成し収差補正を良好
に行うこと罠より高精度のアライメントを行っている。
特に正と負の屈折力の2つのレンズで構成することによ
り球面収差に相当するアライメント光学系の光軸上の収
差をバランス良く補正すると共に1アライメントマーク
の存在する範囲でノ像面湾曲を少なくしてマスク4上の
アライメントマーク全体にわたシ良好なる観察を可能と
している。
そして本発明においては正の屈折力と負の屈折力の2つ
のレンズのうち少なくとも一方のレンズを光軸上可動と
することによりアライメント像のピント調整及び倍率調
整を容易に行っている。
特に本発明においては投影レンズをテレ七ノドリック光
学系で構成し、アライメント光学系を光軸と垂直方向に
移動可能としておけば、移動量t−調整することにより
アライメント位置の変化に対応出来、アライメント位置
変化即ち像高の変化による結像倍率の変化を容易忙補正
することができる。
次に本発明の実施例で用いた投影レンズの数1赦実施例
金表−1にアライメント光学系の数値実施例1.−2−
.3t−表−2、表−3、表−4に示す。
各数値実施列においてウェハ面側からR1は第1番目の
レンズ面の曲率半径、Diは第1番目のレンズ厚及び空
気間隔である。8I02は溶融石英、CAF2は螢石で
ある。
表−に投影レンズの数値実施例 R1Di 1   1181825   13.0O5IO221
09,6761&75 3   166.812  2&50  5IO24−
102J74   0.20 7     911471   1t50    CA
F28   32λ651    L94 9    6 LO472L50   CAP210 
   39&578   15.00   8I021
1     3L577   17.06216   
 −6LO47L94 17   −32λ651   14L50    C
AP218     −9&471      LO5
519356,7611400CAF2 20    −15瓜165    α2021   
 10L874   2a5O5IO222−1648
121L75 23   −10’1.676   1λ00S■02
24   −1182h825 倍像倍率:×LO F@:lO 画面サイズ: φ28 表−2:アライメント光学系の数値実施例IRD 1    −136.605     2    3I
O22−47,29120 3461,54428IO2 439,112 !!!−a:アライメント光学系の数値実施例2RD 1     29.689     5    8 I
 O22−8L108      10 3     −64701     2    8IO
2412,93 表−4=アライメント光学系の数11%施例3RD 1      140      5    5IO2
2−90,615 3−2L532     2    8I024   
      7.06 SIO□  の波長24&5 n7Flと637.8 
n@における屈折率は各々L52113 、1.457
23、 CAF2の波長24&5 nmと632J n
mにおける屈折率は各々L46334 、 L4329
1である。
レンズ最終面からレチクル面までの距離は1&365 
m 、補正光学系の倍率は1、補正像高は9.8■、補
正レンズの有効FナンバーFeは40  である。
本実施列において焼付波長24&5 nmとアライメン
ト波長63λ8nmKおけろ諸数筐は表−5の如くであ
る。
表−5:焼付波長とアライメント波長における#a値値
付付波長アライメント波長によるピントのズレは423
2 tea もあり倍率誤差は像高 9.8 mで0.
2413mもある。本実施列ではこれらのピント調整と
倍率調整t−第1レンズ若しくは第2レンズの少なくと
も一方を移動させて補正している。
例えばアライメント光学系の数11%施列1゜2.3に
おいて像高9゜81EI11で結像倍率1μmを補正す
るKは第1レンズか第2レンズのいずれか一方t−0,
03、、0,1順、 0.07龍移動させれば良い。
アライメント光学系の数値実施%J1.2.3における
投影レンズの最終レンズ面とアライメント光学系の第1
レンズ面との空気間隔は各々以上のように本発明によれ
ばマスクとクエハの位置合わせを高精度に行うことが出
来、しかもアライメント光学系のピン)%整や倍率調整
を容易に行うことの出来る投影露光用のアライメント光
学系を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の投影露光用の光学系の概略図、第2図は
投影レンズに本発明の数IIi実施列1のアライメント
光学系を配置したと色のレノズ断本発明のアライメント
光学系の数値実施列1゜2.3を配置したときの横収差
図である。 図中1は光源、2はコンデンサーレンズ、3は照明用光
学系、4はマスク、5はアライメント光学系、6は投影
レンズ、7はウエノ1でおる。 %許出願人 キャノン株式会社 第1図 第 2 回 第 5 面 箋4図 第5図 Y襲1今

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)マスク上の回路パターンをウェハ面上に投影する
    為の投影レンズと前記投影レンズとマスクとの間であつ
    て前記投影レンズの光軸外に配置したアライメント光学
    系とにより前記マスクとウェハの位置合わせを行うよう
    にした投影露光用のアライメント光学系において、前記
    アライメント光学系を前記投影レンズ側より順に正の屈
    折力の第1レンズと負の屈折力の第2レンズの2つのレ
    ンズで構成したことを特徴とする投影露光用のアライメ
    ント光学系。
  2. (2)前記第1レンズ若しくは前記第2レンズの少なく
    とも一方を光軸方向へ移動させることによりアライメン
    ト像の倍率調整若しくはピント調整を行つたことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の投影露光用のアライ
    メント光学系。
JP59260528A 1984-12-10 1984-12-10 投影露光用のアライメント光学系 Pending JPS61138226A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4890509A (en) * 1987-05-27 1990-01-02 Nissan Motor Company, Ltd. Transfer unit for four wheel drive automotive vehicle drive train
JP2009536373A (ja) * 2006-05-05 2009-10-08 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 光学レンズ系

Cited By (3)

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