JP2009292146A - 記録素子基板、記録ヘッド、記録装置 - Google Patents

記録素子基板、記録ヘッド、記録装置 Download PDF

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Abstract


【課題】異なる数の記録素子が配置された複数の記録素子列を備えた素子基板において、各記録素子へ効率良くデータ転送すること及び回路レイアウトを効率良く行うことを可能にすることである。
【解決手段】この課題を達成するために、素子基板に以下の構成を備える。即ち、相対的に多数の記録素子が配列された第1の記録素子列と、前記第1の記録素子列と長さが等しく相対的に少数の記録素子が配列された第2の記録素子列とを並行に備える。また、前記素子基板に備えられた記録素子列の数と同数の複数のシフトレジスタを備える。前記複数のシフトレジスタは、第1の記録素子列の記録素子を駆動するための一部のデータと第2の記録素子列の記録素子を駆動するためのデータとを保持するシフトレジスタを有する。さらに、第1の記録素子列の記録素子を駆動するための一部のデータ以外のデータを保持するシフトレジスタとを有する。
【選択図】 図1

Description

本発明は配列された記録素子の数が異なる複数の記録素子列を備えた記録素子基板、記録ヘッド、記録装置に関する。
サーマルインクジェット方式に従ってインクを吐出して記録媒体に記録を行う記録ヘッドは、発熱抵抗素子からなるヒータを記録ヘッドにおける記録素子の構成要素として備えている。さらに、ヒータを駆動するためのドライバ及びそのドライバを記録データに応じて選択的に駆動するためのロジック回路が、その記録ヘッドの同一素子基板上に形成されている。
サーマルインクジェット方式のカラーインクジェット記録装置は年々高解像度化している。これに伴い、記録ヘッドの吐出口の配置密度は、600dpiから900dpi、さらには1200dpiでインクを吐出させることができるようになっており、このような高密度の吐出口を備えた記録ヘッドが知られている。
また、グレー画像及びカラーフォト画像におけるハーフトーン部及びハイライト部での粒状性を軽減することが要求されている。このため、画像を形成するために吐出されるインク滴(液滴)の大きさは、例えばカラーインクを吐出させる記録ヘッドにおいては、数年前までは15pl程度であったが、近年、5plさらには2plと年々小さくなる傾向にある。
このような小液滴のインクを吐出する吐出口が高密度に配置された高解像度の記録ヘッドは、高品位なカラーグラフィック画像やフォト画像を記録する際の、高画質な記録を行うというユーザのニーズを満たしている。しかし、帳票におけるカラーグラフを記録する際など、高解像度で記録することが要求されない代わりに高速で記録することが要求される場合、小液滴のインクにより記録するために記録走査数が増大して高速で記録するという要求に応えられない場合があった。
そこで、このような高速記録の要求にも応えるため、高画質な記録を行うための小液滴のインクと高速で記録するための大液滴のインクを吐出する記録ヘッドが提案されている。また、1つの吐出口に対して複数のヒータを配置しこの複数のヒータにより吐出量を変調するものや、1つの素子基板内に吐出量の異なる複数の吐出口を配置する記録ヘッドも知られている。
また、異なる吐出量のインクを吐出する複数の吐出口を備える素子基板において、小液滴のインクを吐出する吐出口からなる吐出口列(小液滴吐出口列)と大液滴のインクを吐出する吐出口からなる吐出口列(大液滴吐出口列)とを並列に備えた素子基板がある。このような素子基板において、高速で高画質な記録を可能にするために、小液滴吐出口列における吐出口の配置密度が大液滴吐出口列における吐出口の配置密度よりも高い素子基板がある。このような素子基板として、例えば1インチあたり600個の吐出口を配置した(配置密度600dpi)大液滴の吐出口列と、その2倍の1インチあたり1200個の吐出口を配置した(配置密度1200dpi)小液滴の吐出口列とを備える素子基板がある。このような例として、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5に開示した構成が知られている。
特開2002−374163号公報 特開平10−44416号公報 特開2002−079672号公報 特開平8−169116号公報 特表2003−508257号公報
近年のインクジェット記録装置は、高画質の画像を記録するために、小液滴のインクを吐出するようになっている。一方で、記録速度の高速化も求められているが、単純に同じ画像を形成するためには同じインク量が必要になるため、吐出するインクの小液滴化を行い吐出するインクのサイズが1/2になれば単純には記録速度が1/2になる。
記録速度の低下を防ぐために同じ時間で同じインクの量を吐出するためには、ヒータ数を2倍にする必要がある。ヒータの配置密度を変えずにヒータ数を2倍にするとヒータが配置される素子基板のサイズが2倍以上に大きくなってしまう。さらに、素子基板を大きくしてしまうだけでなく、記録装置内を高速で移動する記録ヘッドの大型化、記録装置の大型化、振動及び騒音の増加を招いてしまう。このため、ヒータの配置密度を高くする必要がある。
一方、安定したインクの吐出を行うためには、ヒータに安定した電圧を印加しなければならない。全てのヒータを同時に駆動すると一度に大きな電流が流れ、配線抵抗により大きく電圧が降下する。そのため、素子基板が備える複数のヒータを複数のブロックに分割し、時間を分けて順次ブロックごとにヒータを駆動することで安定したインクの吐出を行う時分割駆動方式がある。
高速で記録を行うためには、小液滴のインクを吐出する吐出口のみを備えた記録ヘッドを用いるよりも、大液滴のインクを吐出する吐出口をさらに備えた記録ヘッドを用いる方が有利である。近年のインクジェット記録装置は、小液滴吐出口列と大液滴吐出口列を並行に配列した素子基板を備えた記録ヘッドを用い、小液滴のインクを吐出する吐出口と大液滴のインクを吐出する吐出口とを選択的に駆動させて高速記録と高画質記録の両立を図っている。しかしながら、高速記録と高画質記録とを両立させるためには、素子基板に実装する吐出口及びヒータの数を増加する必要がある。
また、高速で記録を行うために記録データを転送するクロックの周波数を高くする方法がある。通常、そのクロックは記録装置本体から記録ヘッドに供給されるため、記録中に移動する記録ヘッドと記録装置本体とはフレキシブルケーブル等の比較的長いケーブルで接続される。このケーブルには高電流が近接して流れることになり、ケーブルによって伝送される信号にはノイズが重畳しやすくなる。そして、ケーブルのインダクタンス成分によってパルス波形の立ち上がりや立下りが長くなる(波形がなまる)。このことは、クロックの周期が短くなる程、相対的に変動の割合が大きくなるために無視できないものとなり、記録ヘッド側で信号を正確に受信できなくなり、誤動作を引き起こす恐れがある。また、高い周波数のクロックを用いて信号を伝送した場合、ケーブルがアンテナとして作用して放射ノイズが発生する恐れもある。この放射ノイズは周囲の機器に誤動作を発生させるおそれもある。
配置密度600dpiの大液滴吐出口列と、吐出口数がその2倍で配置密度もその2倍の配置密度1200dpiの小液滴吐出口列とを同一基板上に備えた素子基板を例に挙げて述べる。この素子基板では、1画素1ビットで記録するなら、ヒータ数がそのまま記録データのビット数となるため、配置密度600dpiの吐出口列に必要なデータ量に対して、配置密度1200dpiの吐出口列に必要なデータ量は2倍になる。このデータ量の差はデータ転送速度に直接関係する。吐出口列に対応した記録データ毎にクロック信号を持てば個別の駆動周波数でヒータを駆動することが可能になり、時分割数やデータ量が異なる場合でもほぼ同じ時間内でデータ転送することが可能になる。600dpiと1200dpiの配置密度の吐出口列が混在する場合、600dpiの吐出口列のヒータに対して2倍の速度で1200dpiの吐出口列のヒータにデータ転送すれば、ほぼ同じ時間でデータ転送をすることが可能となる。
しかし、吐出口列に対応した記録データ毎にクロック信号を持つと、記録ヘッドのパッド数の増大や記録ヘッドと記録装置本体との信号線の本数の増大という問題が生じる。更にはパッド数及び信号線の本数の増大により素子基板、記録ヘッド、記録装置本体も含めて装置が大型化するという問題も生じる。
そこで、配列密度が異なる吐出口列を複数列有し、時分割駆動を行う素子基板では以下の構成を有している。即ち、クロック(CLK)を共通とし、データ転送速度は転送に使われるシフトレジスタが保持するデータのビット数に比例した速度とする。高密度吐出口列と低密度吐出口列とはそれぞれが備えるシフトレジスタが保持するデータのビット数に差がある。このビット数の差異から、データ転送速度差が発生し、ビット数の多い高密度吐出口列の転送速度に速度が制限されることとなる。例えば、転送に使われるシフトレジスタのビット数は、600dpiの吐出口列に対応するシフトレジスタが7ビット(記録データ5ビット、ブロック制御データ2ビット)とする。また、1200dpiの吐出口列に対応するシフトレジスタが12ビット(記録データ10ビット、ブロック制御データ2ビット)とする。この条件で、7ビットのシフトレジスタにおけるデータの転送においても、12ビットのシフトレジスタのデータの転送速度とあわせるため、本来のデータ転送速度の7/12のデータ転送速度でデータの転送を行うことになるという問題があった。
また、シフトレジスタの回路パターンの面積はそのビット数に対応するため、高密度吐出口列に対応するシフトレジスタと低密度吐出口列に対応するシフトレジスタとでビット数が異なると回路パターンの面積も異なるので、回路レイアウトの非効率化を招く。記録ヘッドも小型化される傾向にあり、より一層の回路レイアウトの効率化が望まれている。
そこで、本発明の目的は、異なる数の記録素子が配置された複数の記録素子列を備えた素子基板において、回路レイアウトが効率良く行われ、各記録素子へ効率良くデータ転送することを可能にすることである。
上記課題を解決するための本発明は、複数の記録素子を備える第1の記録素子列と、複数の記録素子を備える第2の記録素子列と、前記第1の記録素子列に含まれる複数の記録素子を予め定められた数のグループに分け、グループに属する記録素子に対して時分割駆動を行う第1の駆動回路と、前記第2の記録素子列に含まれる複数の記録素子を前記予め定められた数より多い数のグループに分け、グループに属する記録素子に対して時分割駆動を行う第2の駆動回路と、前記第1の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータと前記第2の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータとを保持する第1のシフトレジスタ回路と、前記第2の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータを保持する第2のシフトレジスタ回路とを有することを特徴とする記録素子基板である。
また、上記課題を解決するための別の本発明は、前記記録素子基板を有する記録ヘッド、及びその記録ヘッドを装着可能なキャリッジを備える記録装置である。
従って本発明によれば、異なる数の記録素子が配置された複数の記録素子列を備えた素子基板において、各記録素子へ効率良くデータ転送すること及び回路レイアウトを効率良く行うことが可能になる。
本発明の実施例1に従う素子基板の概略図である。 本発明の実施例2に従う素子基板の概略図である。 本発明の実施例3に従う素子基板の概略図である。 本発明の実施例4に従う素子基板の概略図である。 時分割駆動方式を採用した記録ヘッド用素子基板のブロック図の一例である。 素子基板の回路構成の一例を示す図である。 素子基板に入力される各種信号のタイミングチャートの一例である。 素子基板の一例を示す斜視図である。 本発明の代表的な実施例であるインクジェット記録装置を示す模式図である。 図9に示すインクジェット記録装置の制御構成を示す図である。 インクタンクと記録ヘッドとが一体的に形成されたヘッドカートリッジの構成を示す外観斜視図である。 実施例1の素子基板と比較するための素子基板の概略図である。 実施例2の素子基板と比較するための素子基板の概略図である。 実施例3の素子基板と比較するための素子基板の概略図である。 実施例4の素子基板と比較するための素子基板の概略図である。 実施例1及び3に関する図9の制御構成の詳細説明図である。
次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
なお、この明細書において、「記録」とは、文字、図形等有意の情報を形成する場合のみならず、有意無意を問わず、広く記録媒体上に画像、模様、パターン等を形成する、または媒体の加工を行う場合も表すものとする。また、人間が視覚で知覚し得るように顕在化したものであるか否かを問わない。
また、「記録媒体」とは、一般的な記録装置で用いられる紙のみならず、広く、布、プラスチック・フィルム、金属板、ガラス、セラミックス、木材、皮革等、インクを受容可能なものも表すものとする。
さらに、「インク」とは、上記「記録」の定義と同様広く解釈されるべきもので、記録媒体上に付与されることによって、画像、模様、パターン等の形成または記録媒体の加工、或いはインクの処理に供され得る液体を表すものとする。インクの処理としては、例えば記録媒体に付与されるインク中の色剤の凝固または不溶化させることが挙げられる。
なお、説明に用いる「素子基板」或は「記録素子基板」とは、シリコン半導体からなる単なる基体を指し示すものではなく、各素子や配線等が設けられた基体を示すものである。
「素子基板上」とは、単に素子基板の表面上を指し示すだけでなく、素子基板の表面上、表面近傍の素子基体内部側をも示すものである。また、本発明でいう「作り込み」とは、別体の各素子を単に基体上に配置することを指し示している言葉ではなく、各素子を半導体回路の製造工程等によって素子基板上に一体的に形成、製造することを示すものである。
<インクジェット記録装置>
本発明の素子基板を備えた記録ヘッドを搭載可能な記録装置について説明する。図9は、本発明の記録ヘッドを搭載可能なインクジェット記録装置の一例を示す説明図である。
図9に示すインクジェット記録装置(以下、単に記録装置ともいう)は、本発明の素子基板を備えた記録ヘッドに、インクを収容する容器と組み合せて、ヘッドカートリッジH1000を構成している。ヘッドカートリッジH1000はキャリッジ102に位置決めされて交換可能に搭載されている。キャリッジ102には、ヘッドカートリッジH1000上の外部信号入力端子を介して各吐出部に駆動信号等を伝達するための電気接続部が設けられている。
キャリッジ102は、主走査方向に延在して記録装置本体に設置されたガイドシャフト103に沿って往復移動可能に案内支持されている。そして、キャリッジ102はキャリッジモータ104によりモータプーリ105、従動プーリ106及びタイミングベルト107等の駆動機構を介して駆動されるとともにその位置及び移動が制御される。
記録媒体108は、給紙モータ135からギアを介してピックアップローラ131を回転させることにより、オートシートフィーダ(ASF)132から一枚ずつ分離して給紙される。更に搬送ローラ109の回転により、ヘッドカートリッジH1000の吐出口面と対向する位置(プリント部)を通って搬送(副走査)される。搬送ローラ109は搬送モータ134の回転によりギアを介して行われる。その際、給紙されたかどうかの判定と給紙時の頭出し位置の確定は、ペーパエンドセンサ133を記録媒体108が通過した時点で行われる。
なお、記録媒体108は、プリント部において平坦なプリント面を形成するように、その裏面をプラテン(不図示)により支持されている。この場合、キャリッジ102に搭載されたヘッドカートリッジH1000は、それらの吐出口面がキャリッジ102から下方へ突出して前記2組の搬送ローラ対の間で記録媒体108と平行になるように保持されている。
ヘッドカートリッジH1000は、記録ヘッド部における吐出口の並び方向がキャリッジ102の走査方向に対して交差する方向になるようにキャリッジ102に搭載され、これらの吐出口列から液体を吐出して記録を行う。
<制御構成>
次に、上述したインクジェット記録装置の記録制御を実行するための制御構成について説明する。
図10はインクジェット記録装置の制御回路の構成を示すブロック図である。
図10において、1700は記録信号を入力するインタフェース、1701はMPU、1702はMPU1701が実行する制御プログラムを格納するROMである。また、1703は各種データ(ヘッドカートリッジH1000の記録ヘッド3に供給される記録データ等)を保存しておくDRAMである。1704は記録ヘッド3に対する記録データの供給制御を行うゲートアレイ(G.A.)であり、インタフェース1700、MPU1701、RAM1703間のデータ転送制御も行う。1710は記録ヘッド3を備えたヘッドカートリッジH1000を搬送するためのキャリッジモータ、134は記録媒体搬送のための搬送モータである。1705は記録ヘッド3を駆動するヘッドドライバ、1706は搬送モータ134を駆動するためのモータドライバ、1707はキャリッジモータ1710を駆動するためのモータドライバである。また、1708は、電気的接続が正常でない場合にこれを通知するために点灯する等の目的で備えられるLEDである。
上記制御構成の動作を説明すると、インタフェース1700に記録信号が入力されるとゲートアレイ1704とMPU1701との間で記録信号がプリント用の記録データに変換される。そして、モータドライバ1706、モータドライバ1707が駆動されると共に、ヘッドドライバ1705に送られた記録データに従って記録ヘッド3が駆動され、記録が行われる。
<ヘッドカートリッジ>
図11は、インクタンク6と記録ヘッド3とが一体的に形成されたヘッドカートリッジH1000の構成を示す外観斜視図である。同図において、点線Kはインクタンク6と記録ヘッド3の境界線を示すものである。また、500は吐出口が複数配列してなるインク吐出口列である。インクタンク6に収容されるインクは、不図示のインク供給路を介して記録ヘッド3に供給される。ヘッドカートリッジH1000には、キャリッジ102に搭載されたときに、キャリッジ102側から供給される電気信号を受け取るための電極(不図示)が設けられている。そして、この電気信号によって記録ヘッド3が駆動されて、吐出口列500の各吐出口から選択的にインクが吐出される。
<素子基板>
次に、本発明の素子基板について説明する。図6は、素子基板の回路構成の一例である。このように、記録ヘッドにおける記録素子としてのヒータとその駆動回路は、半導体プロセス技術を用いて同一基板上に形成されている。
図6において、1101は熱エネルギーを発生する為のヒータを示し、1102はヒータ1101に所望の電流を供給する為のトランジスタ(トランジスタ部)を示す。1104は各ヒータ1101に電流を供給して記録ヘッドの吐出口からインクを吐出するか否かを指定する記録データを一時的に格納するシフトレジスタを示す。1107はシフトレジスタ1104に設けられたクロック(CLK)入力端子を示し、1106はヒータ1101をONまたはOFFさせる記録データ(DATA)をシリアル形式にて入力する記録データ入力端子を示す。1103は各ヒータに対する記録データをヒータ毎に保持する為のラッチ回路を示し、1108はラッチ回路1103にラッチのタイミングを指定するラッチ信号(LT)を入力するラッチ信号入力端子を示す。1109はヒータ1101に電流を流すタイミングを決定するスイッチを示し、1105はヒータに所定の電圧を印加して電流を供給する為の電源配線を示し、1110はトランジスタ1102を介してヒータ1101の接地を行う接地配線を示す。
図7は、図6に示した素子基板に入力される各種信号のタイミングチャートである。図7を用いて図6に示した素子基板におけるヒータの駆動等について説明する。
クロック入力端子1107にはシフトレジスタ1104に格納される記録データのビット数分のクロック(CLK)が入力される。シフトレジスタ1104へのデータ転送は、クロック(CLK)の立ち上がりのタイミングに同期して行われるものとする。各ヒータ1101をONまたはOFFさせるための記録データ(DATA)は、記録データ入力端子1106から入力される。
ここで簡易的に、シフトレジスタ1104に格納される記録データのビット数とヒータ及びヒータを駆動するパワートランジスタ数とが同じであるとした素子基板について説明する。ヒータ1101の数の分だけクロック(CLK)のパルスを入力し記録データ(DATA)をシフトレジスタ1104に転送した後、ラッチ信号入力端子1108からラッチ信号(LT)を入力し各ヒータに対応した記録データをラッチ回路1103に保持する。この後、スイッチ1109を適当な時間ONにすれば、スイッチ1109がON状態となっている時間に応じてトランジスタ1102及びヒータ1101に電源ライン1105を通って電流が流れ、その電流はGNDライン1110ヘ流れ込む。この時ヒータ1101はインクを吐出するために必要な熱を発生し、記録データに対応してインクが記録ヘッドの吐出口から吐出される。
次に、ビット数がヒータ数より少ないシフトレジスタを用いてヒータを駆動する素子基板における時分割駆動方式について図5を用いて説明する。時分割駆動方式とは、同じヒータ列の全てのヒータを同時に駆動するのではなく、ヒータを複数のブロックに分割し、ブロックごとに時間を異ならせてヒータを駆動する駆動方式である。時分割駆動方式によって同時に駆動するヒータ数を減らすことができる。
例えば、同じヒータ列の全てのヒータをN個(N=2n ただしnは正の整数とする)のブロックに分割して(N時分割で)時分割駆動する場合、同じヒータ列の隣接するN個のヒータずつ1つのグループとする。また、このヒータ列は、m個のグループから構成されているとする(このヒータ列の合計のヒータ数はN×m個)。シフトレジスタ1104に入力されるデータは、どのブロックを選択するかのブロック制御データとそのブロックにおける記録データである。図5では、N=4であり、4つおきに配置されているヒータが、同時に駆動する。
ブロック制御データはデコーダ1203に入力され、このブロック制御データに基づいてデコーダ1203で生成されたブロック選択信号がAND回路1201に入力される。AND回路1201はヒータ1101の駆動回路を構成する。なお、AND回路1201はヒータ1101に対応して設けられている。N時分割で時分割駆動するために必要なブロック制御データのビット数はnビットである。したがって、記録データ入力端子1106からは、mビットの記録データとnビットのブロック制御データが入力される。このため、シフトレジスタ1104及びラッチ回路1103のビット数は、n+mビットである。従って、この素子基板は、ノズル列が備えるすべてのヒータを一通り駆動するためには、記録データとブロック制御データとからなるn+mビットのデータを、ゲートアレイ1704からN回入力する。そして、記録データに基づく記録データ信号とブロック制御データに基づくブロック選択信号とヒート許可信号入力端子1202から入力されたヒート許可信号とに基づいてヒータと1対1に対応するヒータ駆動信号を生成し、それぞれのヒータを駆動する。
<素子基板及び記録ヘッドの製造方法>
本発明の素子基板及びその素子基板を備える記録ヘッドの製造方法に関して本発明に関連する部分の説明を行う。
図8は、本発明の素子基板の一例を示す斜視図である。素子基板1000はヒータ1101とその駆動回路とを、厚さ0.5〜1mmのSiウエハを用い半導体プロセスによりその表面に形成する。インクを吐出する吐出口1132は、素子基板1000のヒータ1101に対応したインク流路を形成するためのインク流路壁とともに、樹脂材料である吐出口形成部材1131を用いてフォトリソグラフィ技術により形成される。
インクを各吐出口1132まで供給するため、Siウエハの結晶方位を利用した異方性エッチングにより、素子基板の裏面から表面に向かって斜面を持った長溝状の貫通口からなるインク供給口1121が形成される。
上記のように構成される素子基板は、インク供給口1121にインクを導く流路部材をインク供給口1121に接続し、それとインクを収容する容器と組み合せて、ヘッドカートリッジを構成することができる。特に、複数の色のインクをそれぞれ収容する容器と、各色毎の素子基板とを組み合せてヘッドカートリッジを構成することにより、このヘッドカートリッジを用いてカラー記録を行うことができる。
<素子基板内の駆動回路>
本発明の素子基板におけるヒータの配列とシフトレジスタについて、以下に複数の実施例を用いて具体的に説明する。
なお、以下の各実施例の素子基板はインクジェット記録ヘッド用の素子基板であり、これらの素子基板においては、インク供給口1121に沿って配置される複数のヒータからなるヒータ列は複数ある。具体的には、相対的に多数の記録素子としてのヒータから構成されるヒータ列(第1の記録素子列)と相対的に少数のヒータから構成されるヒータ列(第2の記録素子列)とが混在している。以下の実施例では、本発明の特徴を分かりやすくするために、各ヒータ列におけるヒータ数(記録素子数)だけではなくヒータの配列密度も異なる場合について述べる。しかし、ヒータの配列密度は等しくヒータ数のみがヒータ列ごとに異なる場合にも適用できる。
実施例1の素子基板は、低密度(600dpi)で16個のヒータ1101を配置したヒータ列と、高密度(1200dpi)で32個のヒータ1101を配置したヒータ列とを備える。また、並行に備えられたこれらのヒータ列の長さは等しい。低密度でヒータを配置したヒータ列と高密度でヒータを配置したヒータ列を同じ時分割数で駆動している。なお、時分割駆動は、素子基板内で共通のクロックと、ラッチ信号とを用いて行われる。
図12は、実施例1の素子基板と比較するための素子基板の概略図である。この素子基板には、ヒータ列A及びヒータ列Bと、それぞれのヒータ列に対応する2個の(ヒータ列と同数の)シフトレジスタ(1104A、1104B)及びデコーダ(1203A、1203B)が設けられている。説明を簡単にするために、図5で説明したラッチ回路、駆動回路(AND回路,トランジスタ)を省略している。ヒータ列Aは、隣接する4つのヒータずつ構成されるグループ(G0、G1、G2、G3)を4つ備えている。また、ヒータ列Aは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなるブロックを4つ備えている。また、ヒータ列Bは、隣接する4つのヒータずつ構成される8つのグループから構成される。また、ヒータ列Bは、ヒータ列Aと同様の構成である。なお、ヒータ列に沿ってインク供給口1121が設けられている。
この素子基板では、ヒータ列ごとに記録データ信号及びブロック選択信号が割当てられる。まず、ヒータ列Aについて説明する。。具体的には、ヒータ列に対応するシフトレジスタは6ビットのデータを保持する。6ビットのデータの内訳は、4グループ(G0,G1,G2,G3)分の4ビットの記録データ(A_D0〜A_D3)と4つのブロックから駆動するブロックを1つ選択するための2ビットのブロック制御データ(A_B0、A_B1)である。
ここで、記録データA_D0はグループG0に対応しており、同様に記録データA_D1、A_D2、A_D3は、それぞれグループG1、G2、G3に対応している。タイミング信号に同期して、6ビットのデータがゲートアレイ1704から順に転送される。転送された制御データ、記録データに基づいてヒータは駆動する。以上の構成によりヒータの時分割駆動が行われる。
次に、ヒータ列Bについて説明する。ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは10ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは8グループ分の8ビットの記録データ(B_D0〜B_D7)と4つのブロックから駆動するブロックを選択するための2ビット分のブロック制御データ(B_B0、B_B1)を保持する。このように、ヒータの時分割駆動制御については、ヒータ列Aの制御とヒータ列Bの制御は同じである。
しかし、これらのヒータ列に対応するシフトレジスタが保持するデータのビット数には4ビットの差がある。シフトレジスタは、同じ種類の信号を入力する場合、ビット数の差がそのサイズの差となる。このため、この素子基板の回路レイアウトの効率は非効率となっている。また、記録データを入力するために要する時間が異なることとなるためデータ転送の効率も非効率となる。
図1(a)は、実施例1に従う素子基板の概略図である。
図1(a)に示す素子基板のヒータ列A及びヒータ列Bの構成は図12の素子基板と同様である。時分割駆動の動作原理も図12と同様である。図1(a)の素子基板において図12の素子基板との構成の違いを説明し、同様の説明は省く。
シフトレジスタ回路(第1のシフトレジスタ回路)1104Aは、ヒータ列Aの駆動回路(第1の駆動回路)に供給する記録データのほかにヒータ列Bの駆動回路(第2の駆動回路)に供給する記録データの一部を保持する構成としている。具体的には、シフトレジスタ1104Aにシリアル形式で転送されるデータは、8ビットのデータである。この8ビットのデータを3つの領域に割当てられている。第1の領域であるビット0からビット3は、ヒータ列Aで使用される記録データである。第2の領域であるビット4とビット5は、ヒータ列Aのブロック駆動の制御データに割当てられる。第3の領域であるビット6とビット7は、ヒータ列Bで使用される記録データである。図1(a)では、記録データA_D0、A_D1、A_D2、A_D3がシフトレジスタ1104Aのビット0〜3に保持され、記録データB_D6及びB_D7がシフトレジスタ1104Aのビット6、7に保持される。このように、転送されるデータの所定のビット位置(範囲)にヒータ列Aに対応するデータを、それ以外のビット位置(範囲)にヒータ列Bに対応するデータを割当てる。
一方、ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ回路(第2のシフトレジスタ回路)1104Bは、ヒータ列Bのヒータに関するデータのみを保持する構成になっている。具体的には、ヒータ列Bに対応する記録データB_D0、B_D1、B_D2、B_D3、B_D4、B_D5である。このような構成とすることで、2つのシフトレジスタが保持するデータのビット数を8ビットずつに揃えている。
ここで、記録ヘッドは、各シフトレジスタにデータを入力するための端子1106A、1106Bが備えられており、クロック信号線(CLK1107)は共通となっている。シフトレジスタは同じ構成の回路素子群を、保持する必要があるデータのビット数分連続して配列した構成となっている。ここでは、1本のデータ信号に対応し、同じ構成の回路素子群が連続して配列された回路のことをシフトレジスタ回路と定義する。ヒータ列Aのシフトレジスタ回路のデータ信号線からは、ヒータ列Aに関するデータとヒータ列Bに関するデータの両方が入力されることになる。
次に、ラッチ回路1103Aについて説明する。ラッチ回路1103Aは、8ビットのパラレルバスでシフトレジスタ1104Aが保持しているデータをラッチする。ラッチ回路1103Aは、A_D0はG0へ、A_D1はG1へ,A_D2はG2へ、A_D3はG3へ出力する。デコーダ1203Aは、ラッチ回路1103Aでラッチした2ビットのブロック制御データを入力し、4ビットの制御データを生成し、各グループへ出力する。グループの中で駆動するヒータを1つ選択する。ラッチ回路1103Aは、更にB_D6をノズル列BのG6へ、B_D7をノズル列BのG7へ出力する。次に、ラッチ回路1103Bについて説明する。ラッチ回路1103Bは、ヒータ列Bに備えられているグループ(G0〜G5)へ出力する。例えば、B_D0はG0へ出力され、B_D1はG1へ、B_D5はG5へ出力される。デコーダ1203Bは、デコーダ1203Aと同様の働きをする。
図16(a)は、実施例1におけるインクジェット記録装置の制御回路の説明図である。この図では、記録データ及びブロック制御データの処理について説明する。記録バッファである。記録ヘッドへ転送するデータを生成するデータ生成部1800とデータ生成部1800で生成したデータを転送する転送部1900は、上述したゲートアレイ1704に設けられている。また、記録データを保持する記録バッファ1600はDRAM1703に設けられている。データ生成部1800は次のデータを生成する。即ち、ヒータ列Aで使用する4ビットの記録データ(A_D0〜A_D3)と、ヒータ列Bで使用する8ビット記録データ(B_D0〜A_D7)である。さらに、ヒータ列Aの駆動のためのブロック制御データ(A_B0、A_B1)、ヒータ列Bの駆動のためのブロック制御データ(B_B0、B_B1)も生成する。ここでは、詳細な説明は省くが、例えば、記録バッファに保持されているデータがラスタ形式で多値データであれば、カラム形式の2値データを生成する。
バッファ1800Aは、生成した記録データ(A_D0〜A_D3)とブロック制御データ(A_B0、A_B1)を保持する。バッファ1800Bは、生成した記録データ(B_D0〜B_D7)とブロック制御データ(B_B0、B_B1)を保持する。ラッチ回路1802はバッファ1800Aのデータをラッチする。ラッチ回路1803はバッファ1800Bのデータのうち記録データ(B_D0〜B_D5)とブロック制御データ(B_B0、B_B1)をラッチする。ラッチ回路1804はバッファ1800Bのデータのうち記録データ(B_D6〜B_D7)をラッチする。
ラッチ回路1802とラッチ回路1804の出力を結合するデータ結合部1801は、記録データ(A_D0〜A_D3)とブロック制御データ(A_B0、A_B1)と記録データ(B_D6〜B_D7)の合計8ビットを保持する。転送部1900は、図1(a)のシフトレジスタ1104Aへ転送するデータを保持する転送バッファ1900Aと図1(b)のシフトレジスタ1104Bへ転送するデータを保持する転送バッファ1900Bとを備える。転送バッファ1900Aと1900Bからそれぞれ8ビット単位でデータが転送される。データ結合部1801から転送バッファ1900Aへデータが出力され、ラッチ回路1803から転送バッファ1900Bへデータが出力される。以上のような構成により記録ヘッドへ転送されるデータの生成が行われる。
なお、記録装置が備えるキャリッジ102には、記録ヘッドが装着した状態で、端子1106A、端子1106Bと接続する端子を備えている。
図1(b)は、実施例1に従う別の素子基板の概略図である。図1(a)と同様の説明は省き、相違点について説明する。図1(b)に示す素子基板のヒータ列A及びヒータ列Bの構成は図12及び図1(a)に示した素子基板と同様である。
ヒータ列A及びヒータ列Bの時分割数は等しいので、ヒータ列A及びヒータ列Bのそれぞれの駆動回路に供給するブロック選択信号を共通化することが可能である。図1(a)に示した素子基板のそれぞれのシフトレジスタは、ブロック選択信号を生成するためのブロック制御データを2ビット(4ブロック分)ずつ保持する構成である。これに対し、図1(b)に示す素子基板では、ヒータ列A及びヒータ列Bのそれぞれの駆動回路に供給するブロック選択信号を共通化させている。具体的には、ヒータ列Aの駆動回路に記録データ信号を供給するシフトレジスタは1ビットのブロック制御データB0を保持し、ヒータ列Bの駆動回路のみに記録データ信号を供給するシフトレジスタは1ビットのブロック制御データB1を保持する構成とした。そして、デコーダ1203Aとデコーダ1203Bから出力される2ビットの信号線をそれぞれ、ヒータ列Aの駆動回路、ヒータ列Bの駆動回路へ出力する。こうして、図1(b)に示す素子基板は、図1(a)に示す素子基板よりもシフトレジスタが保持するデータのビット数を2ビット減らすことが可能となった。なお、これらのシフトレジスタが保持するブロック制御データB0及びB1を入れ替えても適用可能である。
実施例1のヒータ列Aは、ヒータ列Bと比較して列を構成する記録素子の数が少なくなっている。従来の構成では、列を構成する記録素子の数が多い記録素子列に備えられるシフトレジスタ回路が保持するデータのビット数が、列を構成する記録素子の数が少ない記録素子列に備えられるシフトレジスタ回路が保持するデータのビット数よりも多い。このため、保持するデータのビット数が多いシフトレジスタ回路のデータ転送速度が遅くなる。本発明では、列を構成する記録素子の数が少ない記録素子列に対応したシフトレジスタ回路のビット数を増やし、列を構成する記録素子の数が多い記録素子列に対応したシフトレジスタ回路のビット数を減らす。これにより、互いのビット数を近づけ、2つのシフトレジスタ回路のデータ転送速度差を少なくするようにしている。
複数のシフトレジスタ回路及びラッチ回路が保持するデータのビット数を等しくする構成であっても構わない。このような構成をとることで、回路レイアウトを効率的にすること、各記録素子へ効率良くデータ転送することが可能になる。
次に実施例2について説明する。実施例1と同様の内容については説明を省き、相違点について説明する。実施例2の素子基板は、低密度(300dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が8個であり、高密度(1200dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が32個である。また、これらのヒータ列の長さは等しい。低密度でヒータを配置したヒータ列と高密度でヒータを配置したヒータ列とでは、グループ数が等しくブロック数が異なっている。なお、時分割駆動は、素子基板内で共通のクロックと、ラッチ信号とを用いて行われる。
図13は、実施例2の素子基板と比較するための従来の素子基板の概略図である。この素子基板には、ヒータ列A及びヒータ列Bと、それぞれのヒータ列に対応する2個のシフトレジスタ(1104A,1104B)、デコーダ(1203A、1203B)が設けられている。ヒータ列Aは、隣接する2つのヒータずつ構成される4つのグループから構成される。また、ヒータ列Aは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなる2つのブロックを構成している。また、ヒータ列Bは、隣接する8つのヒータずつ構成される4つのグループから構成される。また、ヒータ列Bは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなる8つのブロックを構成している。
この素子基板では、ヒータ列ごとに記録データ信号及びブロック選択信号が不図示の駆動回路に入力されるのでヒータ列Aに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは5ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(A_D0〜A_D3)と2つのブロックから駆動するブロックを選択するための1ビットのブロック制御データ(A_B0)を保持する。一方、ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは7ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(B_D0〜B_D3)と8つのブロックから駆動するブロックを選択するための3ビット分のブロック制御データ(B_B0〜B_B2)を保持する。このように、これらのシフトレジスタが保持するデータのビット数には2ビットの差がある。
図2は、実施例2に従う素子基板の概略図である。
図2の素子基板のヒータ列A及びヒータ列Bの構成は図13の素子基板と同様である。図2の素子基板において図13の素子基板との構成の違いは以下のとおりである。
シフトレジスタ1104Aはヒータ列Aのヒータをブロック駆動するためのブロック制御データA_B0とヒータ列Bのヒータをブロック駆動するためのブロック制御データB_B2を保持する。シフトレジスタ1104Bはヒータ列Bの駆動回路に供給するブロック選択信号を生成するためのブロック制御データB_B0,B_B1を保持する。そして、ブロック制御データA_B0はラッチ回路1103Aを介してデコーダ1203Aに入力し、ヒータ列Aの各グループ(G0、G1、G2、G3)へ出力される。ブロック制御データB_B2はラッチ回路1103Aを介してデコーダ1203Bに入力され、ブロック制御データB_B0とB_B1はラッチ回路1103Bを介してデコーダ1203Bに入力される。デコーダ1203Bは、この3ビットのデータをデコードして8ビットの信号を生成する。そして、8ビットの信号をヒータ列Bの各グループ(G0、G1、G2、G3)へ出力される。こうすることで、2つのシフトレジスタが保持するデータのビット数を6ビットずつに揃えている。
ここでヒータ列Aのシフトレジスタ1104Aに入力されるデータは、ヒータ列Aに関する記録データと、ヒータ列Aに関するブロック制御データと、ヒータ列Bに関するブロック制御データとの合計3種類である。これに対してヒータ列Bのシフトレジスタ1104Bに入力されるデータは、ヒータ列Bに関する記録データとヒータ列Bに関するブロック制御データの合計2種類である。
ヒータ列Aのシフトレジスタに入力され保持されたヒータ列Bのブロック制御データは、ヒータ列Bの記録素子に作用することになる。
このように列内の記録素子数が異なる複数の記録素子列がそれぞれ備える各シフトレジスタ回路及びラッチ回路が保持するデータのビット数を等しくすることで、回路レイアウトを効率的にすること、各記録素子へ効率良くデータ転送することが可能になる。なお、インクジェット記録装置の説明に関して、実施例1と同様にデータ生成部や転送部を備えている。異なるのは、データを構成するビット位置やデータ内容であるので、説明を省く。
次に実施例3について説明する。実施例1や実施例2と同様の内容については説明を省き、相違点について説明する。実施例3の素子基板は、3列のヒータ列と3つのシフトレジスタを備えている。低密度(300dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が8個であり、中密度(600dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が16個であり、高密度(1200dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が32個である。また、これらのヒータ列の長さは全て等しい。なお、時分割駆動は、素子基板内で共通のクロックと、ラッチ信号とを用いて行われる。
図14は、実施例3の素子基板と比較するための従来の素子基板の概略図である。この素子基板には、ヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cと、それぞれのヒータ列に対応する3個のシフトレジスタ(1104A、1104B、1104C)、デコーダ(1203A、1203B、1203C)が設けられている。各シフトレジスタがそれぞれ対応する記録素子は、1つの記録素子列内に配置された記録素子のみである。ヒータ列Aは、隣接する4つのヒータずつ構成される2つのグループ(G0,G1)から構成される。また、ヒータ列Aは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計2つのヒータからなる4つのブロックを構成している。また、ヒータ列Bは、隣接する4つのヒータずつ構成される4つのグループ(G0、G1、G2,G3)から構成される。また、ヒータ列Bは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなる4つのブロックを構成している。また、ヒータ列Cは、隣接する4つのヒータずつ構成される8つのグループ(G0、G1、G2,G3、G4、G5、G6,G7)から構成される。また、ヒータ列Cは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計8つのヒータからなる4つのブロックを構成している。
この素子基板では、ヒータ列ごとに記録データ信号及びブロック選択信号が不図示の駆動回路に入力されるのでヒータ列Aに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは4ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは2グループ分の2ビットの記録データ(A_D0、A_D1)と4つのブロックから駆動するブロックを選択するための2ビットのブロック制御データ(A_B0、A_B1)を保持する。また、ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは6ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(B_D0〜B_D3)と4つのブロックから駆動するブロックを選択するための2ビット分のブロック制御データ(B_B0、B_B1)を保持する。また、ヒータ列Cに対応するシフトレジスタ及び不図示のラッチ回路が保持するデータは10ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは8グループ分の8ビットの記録データ(C_D0〜C_D7)と4つのブロックから駆動するブロックを選択するための2ビット分のブロック制御データ(C_B0、C_B1)を保持する。このように、これらのシフトレジスタが保持するデータのビット数には最も差が大きいもので4ビットの差がある。
図3(a)は、実施例3に従う素子基板の概略図である。
図3(a)に示す素子基板のヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cの構成は図14の素子基板と同様である。図3(a)に示す素子基板において図14の素子基板との構成の違いは以下のとおりである。
この素子基板は、ヒータ列Cの駆動回路に供給する記録データ信号を生成するための記録データC_D5〜C_D7を、シフトレジスタ1104Aに保持させる構成としている。また、ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ1104Bにダミー(NULL)ビットを設ける構成としている。そして、ヒータ列Cに対応するシフトレジスタ1104Cには、記録データC_D0〜C_D4、ブロック制御データC_B0、C_B1を保持する。こうすることで、3つのシフトレジスタが保持するデータのビット数を7ビットずつに揃えている。
端子1106Aにはヒータ列Aの記録素子に関する記録データと、ブロック制御データと、ヒータ列Cの記録素子に関する一部の記録データとが入力され、ヒータ列Aのシフトレジスタ1104Aに保持される。端子1106Bには、ヒータ列Bの記録素子に関する記録データと、ブロック制御データが入力され、シフトレジスタ1104Bに保持される。端子1106Cにはヒータ列Cの記録素子に関する一部の記録データと、ブロック制御データが入力されシフトレジスタ1104Cに保持される。
ヒータ列Aのシフトレジスタに保持されたヒータ列Cに関する記録データの一部は、ヒータ列Aのシフトレジスタから出力されヒータ列Cの記録素子に作用することになる。
図16(b)は、実施例3におけるインクジェット記録装置の制御回路の説明図である。実施例1と相違点について説明を行い、同様の内容は説明を省く。実施例1と相違点は、実施例1ではヒータ列の数が2であるのに対し、実施例3ではヒータ列の数が3である点である。従って、ヒータ列A、B、Cに対応して、バッファ(1800A、1800B、1800C)と転送バッファ(1900A、1900B、1900C)が設けられている。実施例1ではヒータ列B用に対応するデータの一部をヒータ列A用に対応するデータと合成する回路構成である。一方、本実施例では、ヒータ列C用に対応するデータの一部をヒータ列A用に対応するデータと合成する回路構成である。
補足すると、データ生成部1800は、ヒータ列C用に対応する10ビットのデータを生成してバッファ1800Cに保持する。そして、10ビットのうちの7ビットをラッチ回路1804へ出力し、10ビットのうちの3ビットをラッチ回路1805へ出力する。ラッチ回路1805はデータ結合部1801へ出力する。結合部1801は、ラッチ回路1802から出力されたヒータ列A用の4ビットのデータと合成がなされ、転送バッファ1900Aへ出力される。従って、本実施例では、ヒータ列B用に対応するデータは、加工されずに記録ヘッドへ転送される。
図3(b)は、実施例3に従う別の素子基板の概略図である。図3(b)に示す素子基板のヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cの構成は図14及び図3(a)に示した素子基板と同様である。ヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cの時分割数は等しいので、ヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cのそれぞれの駆動回路に供給するブロック選択信号を共用している。図3(a)に示した素子基板のそれぞれのシフトレジスタは、ブロック選択信号を生成するためのブロック制御データを2ビットずつ保持する構成である。
これに対し、図3(b)に示す素子基板では、ヒータ列Bの駆動回路に記録データ信号を供給するシフトレジスタ1104Bに合計2ビットのブロック制御データB0及びB1を保持させる構成とした。シフトレジスタ1104Bに入力したブロック制御データB0及びB1は、デコーダ1203Bを介して、各ノズル列へ出力する構成となっている。そして、ヒータ列Aに対応するシフトレジスタ1104A及びヒータ列Cに対応するシフトレジスタ1104Cには、記録データのみ入力する構成とした。つまり、シフトレジスタ1104A及びシフトレジスタ1104Cにはブロック制御データを保持させない構成とした。また、ヒータ列Aの駆動回路に記録データ信号を供給するシフトレジスタ1104A及びヒータ列Cの駆動回路のみに記録データ信号を供給するシフトレジスタ1104Cにダミー(NULL)ビットを設ける。これにより、3つのシフトレジスタが保持するデータのビット数を6ビットずつに揃えた。こうして、図3(b)に示した素子基板は、図3(a)に示した素子基板よりも合計のシフトレジスタが保持するデータのビット数を減らすことが可能となった。また、デコーダの数を減らすことができた。
図3(b)に示した素子基板では、端子1106Aからヒータ列Aの記録素子に関する記録データとヒータ列Cの記録素子に関する記録データの一部が入力され、シフトレジスタ1104Aに保持される。なお、シフトレジスタ1104Aに保持されるデータのうち所定の1ビットはヌルデータとなっている。これは、後述するシフトレジスタ1104Cについても同様である。
端子1106Bから各ヒータ列に共通するブロック制御データ(B0、B1)が入力され、シフトレジスタ1104Bに保持される。シフトレジスタ1104Bは、更にヒータ列BのG0〜G3に対応するデータを保持する。デコーダ1203Bは、このブロック制御データから制御データを生成し、各ノズル列へ出力される。
端子1106Cから入力されたデータは、シフトレジスタ1104Cに保持される。このデータは、ヒータ列CのグループG0からグループG4に対応するデータである。ヒータ列CのグループG5からグループG7に対応するデータは、シフトレジスタ1104Aに保持されている。従って、ヒータ列Cに対応する駆動回路は、ラッチ回路1103Aとラッチ回路1103Cからデータを入力する。
このように複数のシフトレジスタ及びラッチ回路が保持するデータのビット数の差を小さくすることで、回路レイアウトを効率的にすることと、各記録素子へ効率良くデータ転送することが可能になる。
次に実施例4について説明する。実施例1、実施例2、実施例3と同様の内容については説明を省き、相違点について説明する。実施例4の素子基板は、3列のヒータ列と3つのシフトレジスタを備えている。低密度(300dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が8個であり、中密度(600dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が16個であり、高密度(1200dpi)でヒータを配置したヒータ列のヒータ数が32個である。また、これらのヒータ列の長さは全て等しい。なお、時分割駆動は、素子基板内で共通のクロックと、ラッチ信号とを用いて行われる。
図15は、実施例4の素子基板と比較するための従来の素子基板の概略図である。この素子基板には、ヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cと、それぞれのヒータ列に対応する3個のシフトレジスタ(1104A、1104B、1104C)、デコーダ(1203A、1203B,1203C)が設けられている。ヒータ列Aは、隣接する2つのヒータでグループを構成し、4つのグループを備えている。また、ヒータ列Aは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなるブロックを2つ構成している。また、ヒータ列Bは、隣接する4つのヒータずつ構成されるグループを4つ備えている。また、ヒータ列Bは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなるブロックを4つ備えている。また、ヒータ列Cは、隣接する8つのヒータずつ構成されるグループを4つ備えている。また、ヒータ列Cは、各グループから1つずつ選択され、同時駆動する合計4つのヒータからなるブロックを8つ備えている。
この素子基板では、ヒータ列ごとに記録データ信号及びブロック選択信号が不図示の駆動回路に入力されるのでヒータ列Aに対応するシフトレジスタ1104A及び不図示のラッチ回路が保持するデータは5ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(A_D0〜A_D3)と2つのブロックから駆動するブロックを選択するための1ビットのブロック制御データ(A_B0)を保持する。また、ヒータ列Bに対応するシフトレジスタ1104B及び不図示のラッチ回路が保持するデータは6ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(B_D0〜B_D3)と4つのブロックから駆動するブロックを選択するための2ビット分のブロック制御データ(B_B0、B_B1)を保持する。また、ヒータ列Cに対応するシフトレジスタ1104C及び不図示のラッチ回路が保持するデータは7ビットとなる。具体的には、このシフトレジスタは4グループ分の4ビットの記録データ(C_D0〜C_D3)と8つのブロックから駆動するブロックを選択するための3ビット分のブロック制御データ(C_B0〜C_B2)を保持する。このように、これらのシフトレジスタが保持するデータのビット数には最も差が大きいもので2ビットの差がある。
図4は、実施例4に従う素子基板の概略図である。
図4の素子基板のヒータ列A、ヒータ列B及びヒータ列Cの構成は図15の素子基板と同様である。実施例4に従う素子基板において図15の素子基板との構成の違いは以下のとおりである。
この素子基板は、ヒータ列Cの駆動回路に供給する記録データ信号を生成するための記録データC_D3を、シフトレジスタ1104Aに保持させる構成としている。そして、ラッチ1103Aは、シフトレジスタ1104Aから出力した記録データC_D3をラッチし、ノズル列CのG3へ出力する。こうすることで、3つのシフトレジスタが保持するデータのビット数を6ビットずつに揃えている。
なお、図4においては、シフトレジスタ1104Aに、記録データC_D3を保持させる構成としたが、他の記録データ(C_D0〜C_D2)のいずれか1つを保持させる構成としてもよい。例えば、記録データC_D0をシフトレジスタ1104Aに保持する構成であれば、記録データC_D0をラッチするラッチ回路1103Aは、ノズル列CのG0へ出力する構成にすればよい。なお、インクジェット記録装置の説明に関して、実施例3と同様にデータ生成部や転送部を備えている。異なるのは、データを構成するビット位置やデータ内容であるので、説明を省く。
このように複数のシフトレジスタ及びラッチ回路が保持するデータのビット数を等しくすることで、回路レイアウトを効率的にすることと、各記録素子へ効率良くデータ転送することが可能になる。
<その他の実施例>
上記各実施例は比較的ヒータ数の少ない素子基板の例であるが、ヒータ数が多い素子基板においても本発明が適用できることは言うまでもない。また、上記各実施例はヒータ列が2列または3列の素子基板の例であるが、さらに多くのヒータ列を備えた素子基板においても本発明が適用できることは言うまでもない。
また、上記各実施例の素子基板における記録素子としてのヒータの替わりに他の機能素子を備えた素子基板に本発明を適用することができる。例えば、同一基板内に複数のヒューズROMが配置された素子基板に本発明を適用した場合が挙げられる。その場合、上記各実施例と同様の思想に基づいて、この素子基板で用いられるシフトレジスタをヒューズROMの配置及びヒューズROMの数などに応じたシフトレジスタとして機能させる。こうしてヒューズROMの数などに対応した素子基板とすることができる。

Claims (8)

  1. 複数の記録素子を備える第1の記録素子列と、
    複数の記録素子を備える第2の記録素子列と、
    前記第1の記録素子列に含まれる複数の記録素子を予め定められた数のグループに分け、グループに属する記録素子に対して時分割駆動を行う第1の駆動回路と、
    前記第2の記録素子列に含まれる複数の記録素子を前記予め定められた数より多い数のグループに分け、グループに属する記録素子に対して時分割駆動を行う第2の駆動回路と、
    前記第1の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータと前記第2の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータとを保持する第1のシフトレジスタ回路と、
    前記第2の記録素子列に属する記録素子を駆動するためのデータを保持する第2のシフトレジスタ回路とを有することを特徴とする記録素子基板。
  2. 前記第1のシフトレジスタ回路及び前記第2のシフトレジスタ回路が保持するデータに、前記第1の記録素子列と第2の記録素子列とを構成するグループに属する記録素子の中から駆動すべき記録素子を選択する情報が、それぞれ含まれることを特徴とする請求項1に記載の記録素子基板。
  3. 前記第1のシフトレジスタ回路及び前記第2のシフトレジスタ回路に対し、外部から入力する信号線をそれぞれ備えることを特徴とする請求項1に記載の記録素子基板。
  4. 前記第1のシフトレジスタ回路が保持する予め定められたビットのうち予め定められたビットの範囲のデータを前記第1の駆動回路へ出力し、前記予め定められたビットの範囲の以外のデータを前記第2の駆動回路へ出力するラッチ回路を備えることを特徴とする請求項1に記載の記録素子基板。
  5. 前記第1の駆動回路で実行される時分割数と前記第2の駆動回路で実行される時分割数は等しいことを特徴とする請求項1に記載の記録素子基板。
  6. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の記録素子基板を有することを特徴とする記録ヘッド。
  7. 請求項6に記載の記録ヘッドを装着が可能なキャリッジを備えることを特徴とする記録装置。
  8. 前記第1のシフトレジスタ回路及び前記第2のシフトレジスタ回路にそれぞれ保持するデータを生成する回路を備えることを特徴とする請求項7に記載の記録装置。
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