JP2009277640A - 透明導電膜の形成方法 - Google Patents
透明導電膜の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009277640A JP2009277640A JP2008223844A JP2008223844A JP2009277640A JP 2009277640 A JP2009277640 A JP 2009277640A JP 2008223844 A JP2008223844 A JP 2008223844A JP 2008223844 A JP2008223844 A JP 2008223844A JP 2009277640 A JP2009277640 A JP 2009277640A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- irradiation
- oxide
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
【解決手段】本願発明に係る新規透明導電膜は、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物粒子を含有する第1の層を少なくとも有する酸化物透明導電膜の製造方法であって、該第1の層を構成する酸化物粒子は、直径50nm以上200nm未満の酸化物大粒子と、該酸化物大粒子の全表面積の2〜30%を覆う量の直径5nm以上10nm未満の酸化物微小粒子とから構成される多結晶膜であることを特徴とし、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる少なくとも一種類以上の金属元素を含む酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布、25〜250℃の温度に保持し、紫外線ランプを照射後又は紫外線ランプを照射せずに、非酸化性雰囲気下で紫外線パルスレーザー光を照射することにより、製造される。
【選択図】なし
Description
前記した問題の解決策のとして、TCO微粒子の分散物を直接基材に塗布し、膜を得る方法が提案されている。この方法によれば、真空設備は必要でなく、かつ、直接パターン描画が可能であるため、TCO原料の無駄が減り、資源の節約という点でも好ましい(特許文献1、非特許文献2、非特許文献3参照)。しかしながら、TCO微粒子で製膜した場合、導電経路は粒子間接触によるために、スパッタ膜のような均一膜と比べ、導電性が劣るという問題があった。
そこで、それを解決するために、TCO微粒子で構成された膜を加熱し、粒子間を焼結により結合させる方法が提案されている(特許文献2参照)。しかしながら、この方法では、実質的に400℃以上の高温が必要であり、透明導電膜を構成する基板に対して熱的損傷を及ぼす虞がある。
しかしながら、特許文献3、4に記載の方法では、膜中のバインダー成分や分散剤などの有機物を除去するのみであり、導電経路が粒子間接触であることに変わりがなく、導電性が改善されないという課題がある。
特許文献6に記載の方法によれば、塗布後、レーザーによる焼成により導電性が向上するとされているが、透明導電膜の導電性は10−2Ωcmオーダーで充分でなく、その後の本願発明者等の検討により、特許文献6に記載の方法では、透明導電膜を形成している酸化物粒子の焼成が不十分であり、ほとんど焼結はしていないということが確認されている。
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、例えば、特定の大きさと形状を有する単結晶の酸化インジウム微粒子に、特定の照射方法により紫外線パルスレーザー光を照射し得られた透明導電膜が、予想外に良好な導電性を有することを発見し、本発明を完成するに至った。
[1]In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物粒子を含有する第1の層を少なくとも有する酸化物透明導電膜であって、該第1の層を構成する酸化物粒子は、直径50nm以上200nm未満の酸化物大粒子と、該酸化物大粒子の全表面積の2〜30%を覆う量の直径5nm以上10nm未満の酸化物微小粒子とから構成される多結晶膜であることを特徴とする前記透明導電膜。
In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布して製膜した後25〜250℃の温度に保持した状態で、非酸化性雰囲気下、紫外線ランプを照射し、引き続き、紫外線パルスレーザー光を照射して該第2の層を形成し;そして
得られた第2の層上に、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布して製膜した後、25〜250℃の温度に保持した状態で、紫外線ランプを照射せずに、非酸化性雰囲気下、紫外線パルスレーザー光を照射して該第1の層を形成する、
を含む、前記[9]に記載の透明導電膜の製造方法。
本発明に係る透明導電膜は、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる少なくとも一種類以上の金属の酸化物を含有する酸化物導電膜であり、さらに、これらの金属元素に別の群から選ばれる1種又は2種以上の金属元素がドープされていると導電性が向上するので好ましい。前記ドープされる元素としては、酸化インジウムにドープされる元素として、スズ、亜鉛、モリブデン、チタン、ジルコニウム、ガリウム、フッ素、塩素、及び臭素からなる群から選択されるものが好ましく、酸化スズにドープされる元素としては、アンチモン、フッ素、モリブデン、リン、及び窒素から成る群から選択されることものが好ましく、そして酸化亜鉛にドープされる元素としては、アルミニウム、ガリウム、ホウ素、スズ、インジウム、イットリウム、スカンジウム、フッ素、バナジウム、ケイ素、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、及びセリウムから成る群から選択されるものが好ましい。
さらに本発明に係る透明導電膜においては、該酸化物透明導電膜が直径50nm以上200nm未満の前記金属酸化物を含有する酸化物大粒子と、該酸化物大粒子の全表面積の2%以上30%以下を覆う直径5nm以上10nm未満の微小粒子とから構成されている多結晶膜であることができる。
本発明に係る透明導電膜においては、結晶粒同士が最密充填した粒界で連結しているために、結晶粒間の導電面積が大きく良好な導電性を発現できる。酸化物大粒子の直径が50nmを下回ると、電子移動の障壁である結晶粒界の数が飛躍的に増加して導電性が低下するため好ましくなく、200nmを上回ると、結晶大粒子の大きさを維持するために透明導電膜の膜厚を厚くする必要が生じるので好ましくない。さらに、結晶大粒子表面に直径5nm以上10nm未満の酸化物微小粒子があると、導電性がさらに増加するので好ましい。ここで、酸化物微小粒子とは、上記した結晶大粒子と一体化した突起状の構造を指し、その組成は結晶大粒子と本質的に同じ組成である。酸化物微小粒子は結晶大粒子の全表面の2%〜30%の範囲で覆っていると好ましい。2%を下回ると導電性が低下するので好ましくなく、30%を上回ると、表面散乱により導電膜の透過率が低下するので好ましくない。
ここで酸化物中粒子とは、積層する第1の層と同じ組成の酸化物である。
この基材側に形成される第2の層の透明導電膜層においては、多結晶膜である必要はなく、結晶粒同士が細密充填していない多孔質状態でもよいが、粒子同士は粒界により連結している状態である。さらに酸化物中粒子の直径が10nmを下回ると基材との密着性が低下するので好ましくなく、50nmを上回ると、前記した多結晶膜との密着性が低下するので好ましくない。
上記した本発明に係る透明導電膜の形態は、電子顕微鏡により観察することができる。
本発明で使用する酸化物微粒子は、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる少なくとも一種類以上の金属元素を含む酸化物微粒子である。さらにこれらの金属元素に別の群から選ばれる1種又は2種以上の金属元素がドープされていると導電性が向上し好ましい。前記ドープされる元素としては、酸化インジウムにドープされる元素として、スズ、亜鉛、モリブデン、チタン、ジルコニウム、ガリウム、フッ素、塩素、及び臭素から成る群から選択されるものが好ましく、酸化スズにドープされる元素として、アンチモン、フッ素、モリブデン、リン、及び窒素から成る群から選択されるものが好ましく、そして酸化亜鉛にドープされる元素として、アルミニウム、ガリウム、ホウ素、スズ、インジウム、イットリウム、スカンジウム、フッ素、バナジウム、ケイ素、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、及びセリウムから成る群から選択されるものが好ましい。
酸化物微粒子を溶媒に分散させる方法としては、一般的に固体粒子を液体に分散させる方法であれば、特に限定されるものではなく、超音波分散、マイクロビーズミル、攪拌、高速回転せん断分散、高圧噴射分散などが挙げられる。
ところで、二次凝集せず、一次粒子のみが分散している分散液は一見好ましいように思われるが、分散性を維持するために粒子表面にオレイン酸、エチルヘキサン酸などの分散剤を大量に吸着させる必要があり、そのため、基材に塗布し透明導電膜とした場合、粒子表面の分散剤が脱離しにくく、さらに脱離した場合は、分散剤の量だけ膜やせすることとなり膜亀裂、膜表面凹凸などを生じさせやすくなり好ましくない。
さらに後述する紫外線照射工程と兼ねることも可能である。本発明に係る透明導電膜の製造方法において非酸化性雰囲気下で紫外線を照射する前に、酸化性雰囲気下で紫外線を照射することで、基材上に塗布した酸化物微粒子分散液から、酸化物成分以外の溶媒分を除去できる。
基材の温度が上昇せず酸化物微粒子のみが焼結、融着する理由は明らかでなく、特定の理論により拘束されるものではないが、本発明者らは、以下のメカニズムによるものと推察している。
焼結点に達した粒子が融着すると、伝熱面積が飛躍的に増加するために基材への放熱量が増え、紫外線吸収による透明導電膜の熱上昇は抑制され、ついには低下する。つまり、酸化物微粒子のみの温度が、焼結・融着するまでの間上昇することとなる。このようなメカニズムにより基板材料の温度上昇なく室温付近で、酸化物微粒子が焼結するものと推察され、透明導電膜の導電性が向上するものと考えられる。
粒子が単結晶の立方体形状であると、球体の場合よりも粒子径の減少による融点降下が大きくなると推察される。
ここで、立方体形状とは、実質的に立方体形状を有するものも含むものとする。例えば、一辺の長さが実質的に等しい正六面体や、該正六面体における頂点の角や、稜線の角がとれた粒子も含むものとする。より具体的には、粒子内に一辺の長さが互いに、±20%以内である粒子や、頂点の角部、稜線の角部が所定の曲率半径で丸くなった粒子も含むものとする。そして、所定の曲率半径とは、角部を構成する辺の平均長さの、20%以内の長さを指すものとする。
半径rの固体球粒子がその粒子の融点Tにおいて周囲の液体と熱平衡状態にある時の固体球の表面がdw molだけ融解したとする。いま、Pを外圧、ΔVを1molの固体と液体との容積差、ΔU、ΔSをそれぞれ1mol当たりの固・液両相間の内部エネルギー及びエントロピー差とした時、Gibbsの自由エネルギー変化ΔGは、下記式(1)
ΔG=(ΔU−TΔS+PΔV)dw+δsl・dA=0 式(1)
{式中、σslは固・液界面の単位面積当たりの界面エネルギーであり、dAはdw molの融解による固・液界面の面積変化量である。}で与えられる。この界面エネルギーの変化量σsl・dAは、粒径が大きい場合には第一項に比べて十分小さいため無視できるので、粒径によって固液界面の状態は変化しない。
(T0−T)/T0=δsl/L・dA/dw
となる。
球体では、固相の密度をρs、分子量をMとすると
(T0−T)/T0=δsl/L・2M/ρs・1/r 式(2)
となる。
式(2)より融点降下は、粒子径に反比例することがわかる。
ここで、形状が立方体になった場合、融点降下は、同様に以下のようになる:
(T0−Tc)/T0=δsl/L・2M/ρs・1/r’ 式(3)
{式中、r’は立方体1辺の長さの1/2である。}。
ここで、同じ体積の球径と立方体1辺の長さを比較すると、
r=1.241r’ 式(4)
なる関係があるので、立方体融点降下/球体融点降下=1.241となる。したがって、酸化インジウムの融点は1565℃であり、微粒子による融点降下で、球体における焼結点が仮に425℃になった場合、立方体の焼結点は150℃まで降下することになる。
特に、立方体形状による融点降下は、式(4)から、一辺の長さが小さくなればなるほど球体との差が大きくなり、より立方体形状の融点降下が大きくなるので、紫外線照射による酸化物微粒子の焼結が進みやすくなり、透明導電膜の導電性が向上する。
紫外線照射装置としては、特に限定されるものではなく、キセノンショートアークランプ、キセノンフラッシュランプ、高圧UVランプ、低圧UVランプ、誘電体バリア放電エキシマランプなどの紫外線ランプ、XeF(351nm)、XeCl(308nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、F2(157nm)などのエキシマレーザー、Arイオンレーザー(第二高調波:257nm)、YAGレーザーの第三高調(355nm)、第四高調波(266nm)などが挙げられる。中でもエキシマランプ、エキシマレーザー、Arイオンレーザーは照射エネルギーが高いので、好ましい。
紫外線レーザーの照射は、パルス照射が好ましく、周波数としては1Hz〜1000Hzの範囲であると好ましい。周波数が1Hzを下回ると酸化物微粒子の焼結が進行しにくくなり、1000Hzを上回ると基材温度が250℃を超える虞があるため好ましくない。
パルスレーザー光を照射すると、前記したように透明導電膜を構成する粒子の温度が上昇、焼結点に達し粒子が融着する。融着後、基材への放熱量が増え、紫外線吸収による透明導電膜の熱上昇が抑制され、ついには低下する。この過程において、パルスレーザー光を走査照射すると、透明導電膜の面内走査方向に熱勾配が生じ、照射部から非照射部への熱移動が起きる。この熱移動は面内走査方向に起きるために、照射部の熱上昇と降下は、走査照射しない場合に比べ、緩やかになると予想される。いわば余熱、除冷が微視的に行なわれることになり、透明導電膜へのヒートショックが少なくなる。結果として得られる透明導電膜の膜欠陥が少なくなるために導電性が高まると考えられる。
上記工程(以下、工程1+2とする)で特に導電率と透過率が高くなる理由は明らかでないが、本発明者らは、上記工程で得られた透明導電膜層の形態から、性能向上のメカニズムを以下のように推定している。
以上より工程1における、紫外線ランプの照射その後の紫外線パルスレーザー光の照射により、基材と密着性のよい透明導電膜層が形成され、その透明導電膜層を下地層として、工程2における紫外線ランプの照射を伴わない紫外線パルスレーザー光の照射により、塗布された酸化物微粒子の焼結・溶融が進み、結晶粒の成長と細密充填が成されると推定される。工程1により生成された透明導電膜層により、基材との密着性が向上し、焼結・溶融時の基材への熱移動を緩和することで、高い導電性と透過率を有する透明導電膜となると推定される。
例えば、照射後の膜を200℃空気中で焼成すると(1段階処理)、可視領域の透過率が向上する。この効果に関しては十分な理解は進んでいないが、カーボン等の不純物層が酸化により除去されたことが考えられる。このような酸化性雰囲気を用いた焼成では、導電性の低下が見られることもあるが、次いで200℃非酸化性雰囲気で焼成すると(2段階処理)、酸素欠損に伴うキャリア密度の上昇により、透過率の変化なしに導電性が向上し、好ましい結果が得られる。
本発明では、酸化インジウム微粒子の形状、大きさ、単結晶の確認は、透過型電子顕微鏡HF−2000(日立製作所株式会社製)を用いて観察測定し、被測定物の粒径測定に最も適した倍率で撮影した。次に、各々の写真から、一番多数存在すると思われる一次粒子を3点選択し、その一辺の大きさを測定し、粒径辺長さとする。これらの値の平均値を酸化物微粒子の大きさとした。得られた粒子が酸化インジウム微粒子であることは、X線回折装置RINT−2500(株式会社リガク製)を用いて、回折パターンが立方晶の酸化インジウムと一致することで確認した。
透明導電膜の厚さは、サーフェイスプロファイラAlpha−Step IQ(KLA−Tencor社製)で測定し、透過率はISO20508:2003(E)に準拠し、分光光度計UV−2500(島津製作所株式会社製)でおこなった。導電率は、4端子法で行ない、低抵抗率計ロレスターGP(三菱化学株式会社製)で測定した。
酸化インジウム微粒子の分散媒への分散は、超音波ホモジナイザー US−150T(日本精機株式会社製)を用い、20分間行なった。分散液中に存在する酸化インジウム微粒子の二次凝集体の質量平均粒子径は、レーザーゼーター電位計ELS−8000(大塚電子株式会社製)を用い測定した。
50mlのステンレス製加圧容器に脱水した1−プロパノール30ml、インジウムトリスアセチルアセトナト(アルドリッチ製)1.236g(3mmol)、アセチルアセトナトスズ(II)(和光純薬工業株式会社製)0.0165g(0.052mmol)、水を125mg入れ、密閉し攪拌しながら1時間で250℃に加熱した。1時間攪拌しながら250℃で保持した後除冷し、濃青色半濁の分散液を得た。分散質は、1辺の長さが8nmの立方体形状の微粒子で構成されており、立方晶の単結晶酸化インジウムであった。
個々の微粒子は、図1に示すように(200)面に由来する結晶格子縞のみが観察され、結晶転移はなく、単結晶であると確認された。つぎに、分散体にアセチルアセトン3mlを加え、超音波分散を20分間処理した後、エチレングリコール(和光純薬工業株式会社製)を1.2ml加え、60℃で減圧蒸留した。ついで20分間超音波分散処理し、固形分濃度18wt%で濃青色半透明の濃縮分散液を得た。濃縮分散液中に存在する酸化インジウム微粒子の二次凝集体の質量平均粒子径は17nmであった。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
紫外線照射前の膜の表面SEM像を図2に、エキシマレーザー照射後の表面SEM像を図3に示す。レーザー照射により酸化インジウム微粒子が焼結・融着していることがわかる。
実施例1と同様にして得られた固形分濃度18%の酸化インジウム濃縮分散液をアセチルアセトンで希釈して5%に調整した。この分散液を10mm角のガラス基板に滴下し、スピンコーターにより4000rpmで製膜した。100℃で5分間乾燥させた後、空気中でエキシマランプ(172nm、10mW/cm2)を5分間照射した。続いて、窒素雰囲気中でKrFエキシマレーザー(248nm)を100mJ/cm2、5Hz、5ショット照射した。再び、5%分散液を滴下、スピンコーターにより製膜、100℃で5分間乾燥させた後、窒素雰囲気中、25℃の室温でKrFエキシマレーザー(248nm)を90mJ/cm2、5Hz、2ショット照射、その後、130mJ/cm2、5Hz、2ショット照射した。この紫外線照射の操作を計3回繰り返した。照射後のガラス基板の温度は、照射前とほとんどかわらず室温であった。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
実施例1と同様にして得られた固形分濃度18%の酸化インジウム濃縮分散液をアセチルアセトンで希釈して5%に調整した。この分散液を10mm角のガラス基板に滴下し、スピンコーターにより4000rpmで製膜した。100℃で5分間乾燥させた後、窒素雰囲気中、25℃の室温でKrFエキシマレーザー(248nm)を60mJ/cm2、50Hz、2分間照射した。再び、5%分散液を滴下、製膜、紫外線照射の操作を計3回繰り返した。照射後のガラス基板の温度は、照射前とほとんどかわらず室温であった。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
実施例1と同様にして得られた固形分濃度18%の酸化インジウム濃縮分散液をアセチルアセトンで希釈して8%に調整した。この分散液を10mm角のガラス基板に滴下し、スピンコーターにより3000rpmで製膜した。100℃で5分間乾燥させた後、空気中でエキシマランプ(222nm、15mW/cm2)を5分間照射した。続いて、窒素雰囲気中でKrFエキシマレーザー(248nm)を70mJ/cm2、60Hz、スキャン速度20mm/sで3回スキャン照射を行った(工程1−1)。同様に、8%溶液を基板に3000rpmで塗布して、エキシマランプ(222nm、15mW/cm2)を5分間照射した。その後、窒素雰囲気中でKrFエキシマレーザー(248nm)を70mJ/cm2、60Hz、スキャン速度20mm/sで2回スキャン照射を行った(工程1−2)。次いで、以下の工程を繰り返し、計2回おこなった(工程2)。工程2:5%分散液を滴下、スピンコーターにより製膜、100℃で5分間乾燥させた後、窒素雰囲気中、25℃の室温でKrFエキシマレーザー(248nm)を140mJ/cm2、60Hz、スキャン速度20mm/sでスキャン照射。
実施例4と同様の工程により(工程1−1、1−2、工程2)得られた膜を200℃、大気中で12時間焼成し、その後、Ar-H2(5%)雰囲気中で、200℃、12時間焼成した。結果、透過率85%、シート抵抗55Ω/□(Ω/sq.)の透明導電膜が得られた。
実施例1と同様にして得られた固形分濃度18%酸化インジウム濃縮分散液をアセチルアセトンで希釈して5%に調整した。この分散液を10mm角のガラス基板に滴下し、スピンコーターにより4000rpmで製膜した。100℃で乾燥させた後、窒素中、250℃で1時間加熱処理をした。再び5%分散液を滴下、製膜、加熱処理の操作を計4回繰り返した。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
製膜後の加熱温度を400℃とした以外は、比較例1と同様の方法で透明導電膜を得た。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
製膜後の加熱雰囲気を空気とした以外は、比較例2と同様の方法で透明導電膜を得た。
得られた膜の体積抵抗、透過率の値を表1に示す。
2 基板
3 パルスレーザー光発振機
4 パルスレーザー光
5 基板の移動方向
Claims (10)
- In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物粒子を含有する第1の層を少なくとも有する酸化物透明導電膜であって、該第1の層を構成する酸化物粒子は、直径50nm以上200nm未満の酸化物大粒子と、該酸化物大粒子の全表面積の2〜30%を覆う量の直径5nm以上10nm未満の酸化物微小粒子とから構成される多結晶膜であることを特徴とする前記透明導電膜。
- In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布して製膜した後、25〜250℃の温度に保持した状態で、紫外線ランプを照射した後又は紫外線ランプを照射せずに、非酸化性雰囲気下で、紫外線パルスレーザー光を照射して該第1の層を形成する、請求項1に記載の透明導電膜の製造方法。
- 該分散液中に含有される酸化物微粒子が、一辺の長さが1nm以上20nm未満の立方体形状の単結晶の酸化インジウム微粒子を主成分とする、請求項2に記載の方法。
- 該酸化物微粒子は、酸化インジウム微粒子に、スズ、亜鉛、モリブデン、チタン、ジルコニウム、ガリウム、フッ素、塩素、及び臭素の内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属成分がドープされているものである、請求項3に記載の方法。
- 前記紫外線パルスレーザー光の照射が走査照射である、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 紫外線ランプの照射が行われる場合、当該紫外線ランプの照射と該紫外線パルスレーザー光の照射がともに多段照射である、請求項2〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 該紫外線パルスレーザー光の照射が異なるエネルギーのパルスレーザーの多段照射である、請求項6に記載の方法。
- 該紫外線パルスレーザー照射後、さらに加熱処理を施す、請求項2〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
- In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物粒子であって該酸化物粒子の直径が10nm以上50nm未満の酸化物中粒子を含有する第2の層の上に、前記第1の層が積層されている、請求項1に記載の透明導電膜。
- 以下のステップ:
In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布して製膜した後25〜250℃の温度に保持した状態で、非酸化性雰囲気下、紫外線ランプを照射し、引き続き、紫外線パルスレーザー光を照射して該第2の層を形成し;そして
得られた第2の層上に、In、Sn、及びZnの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布して製膜した後、25〜250℃の温度に保持した状態で、紫外線ランプを照射せずに、非酸化性雰囲気下、紫外線パルスレーザー光を照射して該第1の層を形成する、
を含む、請求項9に記載の透明導電膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008223844A JP5288601B2 (ja) | 2007-10-10 | 2008-09-01 | 透明導電膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007264037 | 2007-10-10 | ||
JP2007264037 | 2007-10-10 | ||
JP2008108999 | 2008-04-18 | ||
JP2008108999 | 2008-04-18 | ||
JP2008223844A JP5288601B2 (ja) | 2007-10-10 | 2008-09-01 | 透明導電膜の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009277640A true JP2009277640A (ja) | 2009-11-26 |
JP5288601B2 JP5288601B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=41442858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008223844A Active JP5288601B2 (ja) | 2007-10-10 | 2008-09-01 | 透明導電膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5288601B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170530A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-08-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 静電容量式タッチパネルとその製造方法及び該タッチパネルを備えた液晶表示装置 |
JP2012118531A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
WO2014157234A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 昭和電工株式会社 | 透明導電基板の製造方法及び透明導電基板 |
JP2014529875A (ja) * | 2011-09-06 | 2014-11-13 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 導電性材料およびプロセス |
WO2015050265A1 (en) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | Choshu Industry Co., Ltd. | Photovoltaic element |
WO2015050083A1 (ja) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | 長州産業株式会社 | 光発電素子 |
KR101771001B1 (ko) * | 2014-08-11 | 2017-08-25 | 주식회사 엔앤비 | 다단 광조사를 이용한 투명 전도성 막의 제조방법 |
KR101802952B1 (ko) * | 2014-10-28 | 2017-11-30 | 주식회사 엔앤비 | 투명 전도체 및 이의 제조방법 |
CN110603298A (zh) * | 2017-04-04 | 2019-12-20 | 动力滚动有限公司 | 制备光学透明膜的方法 |
WO2024070844A1 (ja) * | 2022-09-29 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜の製造方法、電磁波シールド体の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0432106A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-02-04 | Toyobo Co Ltd | 透明導電膜およびその製造法 |
JPH1012060A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-16 | Casio Comput Co Ltd | 透明導電膜の形成方法 |
JPH1083718A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-03-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明導電膜の形成方法 |
JPH1160278A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-03-02 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電膜形成方法 |
JP2002134178A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 光電気セル |
JP2003178625A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Nitto Denko Corp | 光学素子機能を有する透明導電膜およびその製造方法 |
JP2004055363A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
WO2008041551A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Procédé de fabrication d'un film d'oxyde d'étain conducteur transparent |
-
2008
- 2008-09-01 JP JP2008223844A patent/JP5288601B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0432106A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-02-04 | Toyobo Co Ltd | 透明導電膜およびその製造法 |
JPH1012060A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-16 | Casio Comput Co Ltd | 透明導電膜の形成方法 |
JPH1083718A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-03-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明導電膜の形成方法 |
JPH1160278A (ja) * | 1997-08-07 | 1999-03-02 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電膜形成方法 |
JP2002134178A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 光電気セル |
JP2003178625A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Nitto Denko Corp | 光学素子機能を有する透明導電膜およびその製造方法 |
JP2004055363A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
WO2008041551A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Procédé de fabrication d'un film d'oxyde d'étain conducteur transparent |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170530A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-08-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 静電容量式タッチパネルとその製造方法及び該タッチパネルを備えた液晶表示装置 |
JP2012118531A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示装置及び表示装置の製造方法 |
US9182640B2 (en) | 2010-12-02 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus and method of manufacturing the same |
US10999933B2 (en) | 2011-09-06 | 2021-05-04 | Henkel IP & Holding GmbH | Conductive material and process |
JP2014529875A (ja) * | 2011-09-06 | 2014-11-13 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 導電性材料およびプロセス |
WO2014157234A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 昭和電工株式会社 | 透明導電基板の製造方法及び透明導電基板 |
CN105051657A (zh) * | 2013-03-29 | 2015-11-11 | 昭和电工株式会社 | 透明导电基板的制造方法和透明导电基板 |
WO2015050265A1 (en) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | Choshu Industry Co., Ltd. | Photovoltaic element |
WO2015050083A1 (ja) * | 2013-10-01 | 2015-04-09 | 長州産業株式会社 | 光発電素子 |
JP2015072939A (ja) * | 2013-10-01 | 2015-04-16 | 長州産業株式会社 | 光発電素子 |
KR101771001B1 (ko) * | 2014-08-11 | 2017-08-25 | 주식회사 엔앤비 | 다단 광조사를 이용한 투명 전도성 막의 제조방법 |
US10270004B2 (en) | 2014-08-11 | 2019-04-23 | N&B Co., Ltd. | Production method for transparent electrically-conductive film using multistage light irradiation |
KR101802952B1 (ko) * | 2014-10-28 | 2017-11-30 | 주식회사 엔앤비 | 투명 전도체 및 이의 제조방법 |
US10535792B2 (en) | 2014-10-28 | 2020-01-14 | N&B Co., Ltd. | Transparent conductor and preparation method for same |
KR20200005548A (ko) * | 2017-04-04 | 2020-01-15 | 파워 롤 리미티드 | 광학적으로 투명한 필름의 제조방법 |
JP2020515502A (ja) * | 2017-04-04 | 2020-05-28 | パワー ロール リミテッド | 光透過性フィルムの製造法 |
CN110603298A (zh) * | 2017-04-04 | 2019-12-20 | 动力滚动有限公司 | 制备光学透明膜的方法 |
JP7232529B2 (ja) | 2017-04-04 | 2023-03-03 | パワー ロール リミテッド | 光透過性フィルムの製造法 |
KR102555810B1 (ko) * | 2017-04-04 | 2023-07-17 | 파워 롤 리미티드 | 광학적으로 투명한 필름의 제조방법 |
WO2024070844A1 (ja) * | 2022-09-29 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜の製造方法、電磁波シールド体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5288601B2 (ja) | 2013-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5288601B2 (ja) | 透明導電膜の形成方法 | |
KR102012853B1 (ko) | 스퍼터링 타겟 | |
Alkhayatt et al. | Structure, surface morphology and optical properties of post-annealed delafossite CuFeO2 thin films | |
Park et al. | Excimer laser sintering of indium tin oxide nanoparticles for fabricating thin films of variable thickness on flexible substrates | |
TWI616549B (zh) | 用於形成密封阻障層之高速沉積系統與製程 | |
JP2008084824A (ja) | 導電体の製造方法 | |
Li et al. | Tetragonal zirconia spheres fabricated by carbon-assisted selective laser heating in a liquid medium | |
CN102762518A (zh) | 氧化物烧结体、氧化物混合物、它们的制造方法以及使用它们的靶 | |
Li et al. | Performance optimization of fluorine-doped tin oxide thin films by introducing ultrasonic vibration during laser annealing | |
JP2011184715A (ja) | 酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法 | |
Colak et al. | Tm-doped ZnO nanorods as a TCO for PV applications | |
Alamdari et al. | Ultra-thin Hafnium doped ZnO films with enhanced optical transparency and electrical conductivity | |
Sugahara et al. | Sol–Gel‐Derived High‐Performance Stacked Transparent Conductive Oxide Thin Films | |
Li et al. | Influences of ultrasonic vibration on morphology and photoelectric properties of F-doped SnO2 thin films during laser annealing | |
JP2007035471A (ja) | 導電膜または配線の製法 | |
Liu et al. | Effect of surfactants on the structure and photoelectric properties of ITO films by sol-gel method | |
Hymavathi et al. | Structural, surface morphological and optical properties of Cr doped CdO thin films for optoelectronic devices | |
JP5247078B2 (ja) | 酸化インジウム微粒子分散体 | |
Aydemir et al. | The effect of Al on structure, morphology and optical properties of network texture ZnO thin films synthesized using the sol–gel method | |
Shaik et al. | Single step formation of indium and tin doped ZnO nanowires by thermal oxidation of indium–zinc and tin–zinc metal films: Growth and optical properties | |
Chen et al. | Effects of sintering temperature and doped Al content on the microstructure and physical performances of AZO ceramics | |
JP2011190528A (ja) | 酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法、酸化亜鉛系透明導電膜および透明導電性基板 | |
EP2950357B1 (en) | Conductive material and electronic device including the same | |
JP4480809B2 (ja) | 酸化インジウム薄膜及びその製造方法 | |
Lee et al. | Slot-die processed perovskite solar cells: Effects of solvent and temperature on device performances |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130521 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130603 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5288601 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |