JP2009276366A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】仮想面に垂直な第1〜第4面10c〜10fを有し、第1面10cと第2面10dが平行であり、第2面10dと第3面10eとのなす角がθであり、第4面10fが第1及び第2面10c、10dに垂直であり、第3面10eが鏡面である光学素子10の製造方法において、90°−θの角を有するプリズム20の面20cを切断基準面とし、切断基準面20cに垂直で、且つ前記2つの面で形成される稜線に平行な面Aで切断して第1面10cを形成する第1切断工程と、第1面10cに平行な面Bで切断して第2面10dを形成する第2切断工程と、第1面10c及び第2面10dを含む切断片40を、第1面10c及び切断基準面20cに垂直な面で所定間隔に切断して個々の光学素子10を得る第3切断工程とを備えるものとする。
【選択図】図1
Description
本実施形態では上記プリズム20を用いて上記光学素子10又は11を得る。本実施形態で用いるプリズム20は、予め、面20c、20d、20eを鏡面加工(研磨)した後、面20cに反射防止膜を、面20d、20eに反射膜を成膜しておく。反射防止膜は省略される場合もある。
本実施形態でも第1実施形態と同様に、上記プリズム20を用いて上記光学素子10又は11を得る。第1実施形態と異なる点は、本実施形態で用いるプリズム20は、予め、面20c、20d、20eを鏡面加工(研磨)した後、面20cに反射膜を、面20d、20eに反射防止膜を成膜しておく点である。反射防止膜は省略される場合もある。
本実施形態でも第1実施形態と同様に、上記プリズム20を用いて上記光学素子10又は11を得る。第1実施形態と異なる点は、第2実施形態と同様に、本実施形態で用いるプリズム20は、予め、面20c、20d、20eを鏡面加工(研磨)した後、面20cに反射膜を、面20d、20eに反射防止膜を成膜しておく点である。反射防止膜は省略される場合もある。
本実施形態では複数の透明媒質からなる平行平板を用いて上記光学素子10又は11を得る。図7(a)に、平行平板70の平面図を、図7(b)に、平行平板70の側面図を示す。平行平板70は、予め、上面70a、下面70bを鏡面加工(研磨)した後、反射膜を成膜しておく。なお、平行平板70の厚みは、3〜5mmであることが好ましい。
10c 第1面
10d 第2面
10e 第3面
10f 第4面
20、73 プリズム
21、22 小プリズム
40、41、50、51、60、61、81、83 切断片
70 平行平板
71 積層体
74 積層分割体
Claims (9)
- 仮想面に垂直な第1〜第4面を有し、第1面と第2面が平行であり、第2面と第3面とのなす角がθであり、第4面が第1及び第2面に垂直であり、第3面が鏡面である光学素子の製造方法において、
90°−θの角をなす2つの面の少なくとも一方が鏡面であるプリズムの、前記2つの面のうち、少なくとも鏡面である面の他方の面を切断基準面とし、
該切断基準面に垂直で、且つ前記2つの面で形成される稜線に平行な面で切断して前記第1面を形成する第1切断工程と、
前記第1面に平行な面で切断して前記第2面を形成する第2切断工程と、
前記第1面及び第2面を含む切断片を、前記第1面及び前記切断基準面に垂直な面で所定間隔に切断して個々の光学素子を得る第3切断工程と、を備えたことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記光学素子の体積が3mm3以下であることを特徴とする請求項1記載の光学素子の製造方法。
- 前記プリズムの前記鏡面に予め光学膜が成膜されていることを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子の製造方法。
- 前記プリズムは、底角が90°−θである二等辺三角形を底面とする三角柱であり、
前記切断基準面が、前記二等辺三角形の底辺を含む面であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光学素子の製造方法。 - 前記プリズムは、底角が90°−θである二等辺三角形を底面とする三角柱であり、
前記切断基準面が、前記二等辺三角形の等しい2辺の一方を含む面であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光学素子の製造方法。 - 前記第1及び第2切断工程の後、前記切断基準面を前記二等辺三角形の等しい2辺の他方を含む面に代えて前記第1〜第3切断工程を繰り返すことを特徴とする請求項5記載の光学素子の製造方法。
- 前記プリズムは、底角が90°−θである二等辺三角形を底面とする三角柱であり、
前記第1切断工程前に、前記プリズムの稜線に平行で、且つ前記二等辺三角形の底辺を含む面に垂直な面で切断して2つの小プリズムを形成する第4切断工程を備え、
前記切断基準面が、前記二等辺三角形の等しい2辺の一方を含む面であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光学素子の製造方法。 - 前記第1切断工程前に、
複数の透明媒質からなる平行平板を仮接着して積層体を形成する積層工程と、
前記積層体を90°−θの傾斜角度に沿った面で所定間隔に切断して複数の前記プリズムが仮接着された状態の複数の積層分割体を形成する第5切断工程とを備え、
前記切断基準面が、前記積層分割体の一方の切断面であり、
前記第3切断工程前に、前記仮接着を分離することを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子の製造方法。 - 前記プリズムが有する前記鏡面に相当する前記平行平板の互いに平行な一方の面に、予め光学膜が成膜されていることを特徴とする請求項8記載の光学素子の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011111409A1 (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-15 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子の製造方法 |
KR101512333B1 (ko) | 2013-07-04 | 2015-04-16 | 주식회사 스마트센스테크놀러지 | 빛 굴절부재 및 그 제작방법 및 그것이 구비된 지시물체 위치인식장치 |
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JPH09218304A (ja) * | 1995-12-08 | 1997-08-19 | Victor Co Of Japan Ltd | マイクロミラーの製造方法 |
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-
2008
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