JP2009260025A - 熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】熱処理装置1は、チャンバー6の上側にフラッシュランプFLを配置し、下側にハロゲンランプHLを配置している。ハロゲンランプHLの下側には多数の噴出孔を穿設した噴出板141が設けられており、ガス噴出部140は噴出板141から下側チャンバー窓64に向けてエアーを噴出する。噴出板141は複数の領域に分割されており、それぞれの領域毎にエアー噴出流量を調整することができる。ハロゲンランプHLからの光照射によって保持部7に保持された半導体ウェハーWを加熱する際に生じた面内温度分布の不均一は、噴出板141から噴出するエアー流量を領域毎に異ならせることによって下側チャンバー窓64の温度分布を調整して解消する。
【選択図】図1
Description
2 シャッター機構
3 制御部
4 ハロゲン加熱部
5 フラッシュ加熱部
6 チャンバー
7 保持部
10 移載機構
21 シャッター板
22 スライド駆動機構
49,78,79 プローブ
61 チャンバー側部
62 凹部
63 上側チャンバー窓
64 下側チャンバー窓
65 熱処理空間
66 搬送開口部
70 サセプタ
75 均熱リング
140 ガス噴出部
141 噴出板
141a,141b,141c,141d 領域
142 ガス噴出バッファ
142a,142b,142c,142d 小空間
143 ガス供給管
149 噴出孔
150 ガス供給機構
160 流量調整機構
148a,148b 中心線
FL フラッシュランプ
HL ハロゲンランプ
W 半導体ウェハー
Claims (6)
- 基板に対して光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内にて基板を水平姿勢に保持する保持手段と、
前記チャンバーの外部に設けられ、前記保持手段に保持された基板に向けて光を照射して当該基板を加熱する光源と、
前記チャンバーに設けられ、前記光源から照射された光を前記チャンバー内に透過するチャンバー窓と、
前記光源を通過して前記チャンバー窓に気体を吹き付ける気体噴出手段と、
を備え、
前記気体噴出手段は、
前記光源を挟んで前記チャンバー窓と対向して配置され、複数の噴出口が設けられた噴出板と、
前記噴出板を複数の領域に分割したときの前記複数の領域のそれぞれに個別に気体を供給する気体供給手段と、
前記気体供給手段から供給される気体の流量を前記複数の領域ごとに個別に調整する流量調整手段と、
を備えることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1記載の熱処理装置において、
前記光源は、格子状に交差して配列された複数の棒状ランプを含み、
前記噴出板は、格子状に配列された前記複数の棒状ランプと対向する略矩形形状を有し、
前記複数の領域は、当該略矩形形状を前記複数の棒状ランプの長手方向と直交する方向の中心線にて分割した4つの領域であることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の熱処理装置において、
前記チャンバー窓と前記光源との間の空間の一方側に設けられた通路から当該空間に挿脱されるシャッター部材をさらに備えることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項3記載の熱処理装置において、
前記流量調整手段は、前記複数の領域のうち前記空間に形成される気流の下流側に対向する領域に供給される気体の流量を上流側に対向する領域に供給される気体の流量よりも多くすることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1記載の熱処理装置において、
前記光源は、互いに平行に配列された複数の棒状ランプを含み、
前記噴出板は、前記複数の棒状ランプと対向する略矩形形状を有し、
前記複数の領域は、当該略矩形形状を前記複数の棒状ランプの長手方向と直交する方向の中心線にて分割した2つの領域であることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1から請求項5のいずれかに記載の熱処理装置において、
前記光源は、ハロゲンランプを含み、
前記チャンバー窓は石英にて形成されることを特徴とする熱処理装置。
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