JP2009257852A - プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 - Google Patents
プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009257852A JP2009257852A JP2008105234A JP2008105234A JP2009257852A JP 2009257852 A JP2009257852 A JP 2009257852A JP 2008105234 A JP2008105234 A JP 2008105234A JP 2008105234 A JP2008105234 A JP 2008105234A JP 2009257852 A JP2009257852 A JP 2009257852A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- sample
- probe
- conductor
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
Abstract
電子デバイス材料のマイグレーションの発生箇所を検出し、その発生原因を検討するための絶縁不良の検査装置を提供する。
【解決手段】
探針と試料を介して配置される電極と、探針と電極間に電圧を印加して探針と電極間の試料に流れる電流を検出する測定装置を有するプローブ顕微鏡において、試料内における所望の二点間に電圧を印加することにより、発生するマイグレーションを検知して絶縁不良を判定するプローブ顕微鏡にある。
【選択図】図1
Description
図9は、従来の走査型プローブ顕微鏡を示す模試図(比較例1)である。実施例1,2と同様に、測定環境制御装置1と、これに接続し、試料を一定環境に保持できる環境制御セル2を備える。除振台3の上に、環境制御セル2と、環境制御セル2の位置を移動させる移動機構(微動/粗動機構4)とを有し、試料台アタッチメント5を介して、試料用ヒーター6,電極7,試料台8が設けられている。試料9は、試料台8の上に設置され、カンチレバーホルダー10に取り付けられたカンチレバー11の先端の探針を試料表面に接触させることによって形状、並びに電流を計測する。試料台8と電極7との間は導通が取られている。試料の形状は、カンチレバー11のバネの変位を検知する方法で計測する。カンチレバー変位検出光学系12は、カンチレバー11の背面にレーザー光を当てるとともに、反射した光の座標軸からカンチレバー11のバネ変位を読み取り、試料の凹凸形状を計測する。一方、電流は、電極7とカンチレバー11とを探針−電極間電圧印加装置13に接続して、カンチレバー11の先端の探針と電極7の間に電圧を印加したときに流れる電流を電流検出器14で計測する。但し、従来の走査型プローブ顕微鏡では試料9内に電圧を印加するための、試料内電圧端子、並びに、試料内電圧印加装置17を備えていない。そのため、マイグレーションを発生させることができないことから、絶縁不良の起こしやすい箇所や、その発生原因を検査することができない。
2 環境制御セル
3 除振台
4 微動/粗動機構
5 試料台アタッチメント
6 試料用ヒーター
7 電極
8 試料台
9 試料
10 カンチレバーホルダー
11 カンチレバー
12 カンチレバー変位検出光学系
13 探針−電極間電圧印加装置
14 電流検出器
15 試料内電圧プラス端子
16 試料内電圧マイナス端子
17 試料内電圧印加装置
18 導電体
19 絶縁体
20 試料内電圧端子
21 コントロールユニット
22 探針−試料もしくは電極間電圧印加装置
Claims (12)
- 探針と、前記探針と試料を介して配置される電極と、前記探針と前記電極間に電圧を印加し、探針と電極間に流れる電流を検出する電流検出装置と、を有するプローブ顕微鏡であって、
試料の所望の二点間に電圧を印加する少なくとも二つの電圧端子と、前記電圧端子間に電圧を印加する電圧印加装置とを有することを特徴とするプローブ顕微鏡。 - 請求項1に記載されたプローブ顕微鏡であって、
試料を所望の雰囲気にさらすための環境制御装置を有することを特徴とするプローブ顕微鏡。 - 請求項2に記載されたプローブ顕微鏡であって、
前記環境制御装置は、試料の雰囲気の成分,湿度,温度,圧力の少なくともいずれかを可変制御することを特徴とするプローブ顕微鏡。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載されたプローブ顕微鏡であって、
前記電圧印加装置は、パルス法またはフローティング法を切り替えて電圧を印加するための印加電圧切替手段を有することを特徴とするプローブ顕微鏡。 - 請求項4に記載されたプローブ顕微鏡であって、
前記電圧印加装置は、パルス法またはフローティング法を組み合わせた印加条件制御を行うことを特徴とするプローブ顕微鏡。 - 導電体と、絶縁体または誘電体とよりなる試料の絶縁不良の検査方法であって、
前記試料の導電体の所望の二点間に絶縁体を介して電圧を印加し、
かつ前記試料の絶縁体の所望の二点間に電圧を印加し、前記絶縁体の二点間に流れる電流を検出することを特徴とする絶縁不良の検査方法。 - 請求項6に記載の絶縁不良の検査方法であって、
前記導電体の所望の二点間への電圧の印加は、所望の温度,湿度に制御された雰囲気下で試料にマイグレーションを発生させる工程であり、
前記絶縁体の所望の二点間への電圧の印加は、前記試料のマイグレーション発生箇所を特定する工程であることを特徴とする絶縁不良の検査方法。 - 請求項6または7に記載の絶縁不良の検査方法であって、
前記試料は導電体と絶縁体または誘電体が積層されてなる試料、もしくは導電体と絶縁体または誘電体が隣接して構成される試料であることを特徴とする絶縁不良の検査方法。 - 探針と、前記探針と対向する位置に試料を介して配置される電極と、前記探針と前記電極間に電圧を印加し、探針と電極間に流れる電流を検出する電流検出装置と、前記試料の導電体の所望の二点間に電圧を印加する少なくとも二つの電圧端子と、前記電圧端子間に電圧を印加する電圧印加装置とを有し、
前記電流検出装置の電流値に基づき導電体と絶縁体または誘電体とが積層、もしくは隣接してなる試料の絶縁不良を観察する絶縁不良の検査装置。 - 請求項9に記載の絶縁不良の検査装置であって、
前記電圧端子を3以上有し、前記電圧印加装置は電圧を印加する少なくとも2の電圧端子を選択するスイッチング機構を有することを特徴とする絶縁不良の検査装置。 - 請求項9に記載の絶縁不良の検査装置であって、前記電圧端子を接続する導電体を選択するコントロールユニットを有し、前記コントロールユニットは電圧を印加する電圧端子を選択するスイッチング機構を有することを特徴とする絶縁不良の検査装置。
- 請求項9または11に記載の絶縁不良の検査装置であって、前記試料の表面形状像を得る手段と、前記検出される電流値と前記表面形状像とを対比させ、プロファイルを作成する手段と、前記プロファイルから試料の不良箇所および不良内容を特定する評価手段とを有する絶縁不良の検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008105234A JP4945503B2 (ja) | 2008-04-15 | 2008-04-15 | プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008105234A JP4945503B2 (ja) | 2008-04-15 | 2008-04-15 | プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009257852A true JP2009257852A (ja) | 2009-11-05 |
JP4945503B2 JP4945503B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=41385466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008105234A Expired - Fee Related JP4945503B2 (ja) | 2008-04-15 | 2008-04-15 | プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4945503B2 (ja) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59141076A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Nec Home Electronics Ltd | 絶縁試験装置 |
JPH034179A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-10 | Fujitsu Ltd | コンタクトプローブによる電気的試験方法 |
JPH0822796A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-01-23 | Res Dev Corp Of Japan | 探針被覆原子移動方法 |
JP2000097838A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Canon Inc | 表面観察装置及び表面観察方法 |
JP2001185593A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの評価装置およびその方法並びに半導体デバイスの製造方法 |
JP2001318127A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Nec Corp | 配線ショート箇所の検査方法及び検査装置 |
JP2002031655A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Yoshikazu Nakayama | ナノチューブ端子を用いた四端子測定装置 |
JP2002048833A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Hioki Ee Corp | 回路基板検査装置 |
JP2005285903A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Sharp Corp | エレクトロマイグレーション評価装置およびそれを用いた半導体装置の配線信頼性評価方法 |
JP2006167866A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Sii Nanotechnology Inc | 微細加工装置及び微細加工方法 |
JP2007279070A (ja) * | 2007-07-23 | 2007-10-25 | Hitachi Ltd | 試料分析方法 |
JP2008002952A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Toshiba Corp | 走査型プローブ顕微鏡、走査型プローブ顕微鏡用試料及びその形成方法 |
-
2008
- 2008-04-15 JP JP2008105234A patent/JP4945503B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59141076A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Nec Home Electronics Ltd | 絶縁試験装置 |
JPH034179A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-10 | Fujitsu Ltd | コンタクトプローブによる電気的試験方法 |
JPH0822796A (ja) * | 1994-07-06 | 1996-01-23 | Res Dev Corp Of Japan | 探針被覆原子移動方法 |
JP2000097838A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Canon Inc | 表面観察装置及び表面観察方法 |
JP2001185593A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体デバイスの評価装置およびその方法並びに半導体デバイスの製造方法 |
JP2001318127A (ja) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Nec Corp | 配線ショート箇所の検査方法及び検査装置 |
JP2002031655A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-31 | Yoshikazu Nakayama | ナノチューブ端子を用いた四端子測定装置 |
JP2002048833A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Hioki Ee Corp | 回路基板検査装置 |
JP2005285903A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Sharp Corp | エレクトロマイグレーション評価装置およびそれを用いた半導体装置の配線信頼性評価方法 |
JP2006167866A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Sii Nanotechnology Inc | 微細加工装置及び微細加工方法 |
JP2008002952A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Toshiba Corp | 走査型プローブ顕微鏡、走査型プローブ顕微鏡用試料及びその形成方法 |
JP2007279070A (ja) * | 2007-07-23 | 2007-10-25 | Hitachi Ltd | 試料分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4945503B2 (ja) | 2012-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6605951B1 (en) | Interconnector and method of connecting probes to a die for functional analysis | |
US6590409B1 (en) | Systems and methods for package defect detection | |
US7633309B2 (en) | Inspection method, inspection apparatus and computer-readable storage medium storing program for inspecting an electrical property of an object | |
JP2020012685A (ja) | プローブ、検査治具、及び検査装置 | |
WO2009154217A1 (ja) | 検査用接触構造体 | |
JPWO2020145073A1 (ja) | 接触端子、検査治具、及び検査装置 | |
US6452410B1 (en) | Apparatus and method for electrolytic bare board testing | |
JP2005257568A (ja) | 電子部品実装用プリント配線板の電気検査方法および電気検査装置ならびにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP2008203077A (ja) | 回路検査装置及び回路検査方法 | |
JP4945503B2 (ja) | プローブ顕微鏡及び絶縁不良の検査装置,絶縁不良検査方法 | |
JP2004279270A (ja) | 抵抗測定装置、基板検査装置および基板検査方法 | |
JP2006200973A (ja) | 回路基板検査方法およびその装置 | |
JP2010153263A (ja) | 異方性導電シート、その製造方法、基板体、検査装置、部品モジュール、および電子製品 | |
JP2005315775A (ja) | 片面移動式プローブを用いた4端子検査方法及び4端子検査用治具 | |
JP2008292372A (ja) | 検査支援システムを搭載する回路検査装置とその検査支援方法 | |
JP4287255B2 (ja) | 基板検査装置及び基板検査方法 | |
KR20150131007A (ko) | 절연 검사 방법 및 절연 검사 장치 | |
JP2004132699A (ja) | 接続装置、半導体チップ検査装置及び接続装置の製造方法 | |
JP2005049314A (ja) | プロービングテスト法およびプローブ状態検出装置 | |
JP2004361249A (ja) | 基板検査装置 | |
JP2006053052A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP2014020815A (ja) | 基板検査装置および基板検査方法 | |
Canumalla et al. | A study on ranking of commercial fluxes for electrochemical migration (ECM) propensity for Cu, Sn and Ag surface finishes | |
JP4181019B2 (ja) | 基板検査装置及び基板検査方法 | |
JP5111297B2 (ja) | 情報生成装置および基板検査システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100325 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120305 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |