JP2009239286A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009239286A5 JP2009239286A5 JP2009074674A JP2009074674A JP2009239286A5 JP 2009239286 A5 JP2009239286 A5 JP 2009239286A5 JP 2009074674 A JP2009074674 A JP 2009074674A JP 2009074674 A JP2009074674 A JP 2009074674A JP 2009239286 A5 JP2009239286 A5 JP 2009239286A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- immersion system
- liquid recovery
- recovery port
- optical path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Claims (33)
- 液浸露光で用いられる液浸システムであって、
液体が満たされる光学部材と基板との間の露光光の光路の周囲に配置され、第1方向を向く第1面を有する第1部材であって、前記第1面と物体の表面との間の空間に液体が保持可能である、前記第1部材と、
前記露光光の光路に対して前記第1面の外側に配置された液体回収口を有する第2部材であって、前記液体回収口と前記物体の表面との間の前記液体の少なくとも一部が前記液体回収口から回収される、前記第2部材と、
少なくとも前記第1方向に沿って前記第1部材を移動可能な第1駆動装置と、
前記第1部材から独立して少なくとも前記第1方向に沿って前記第2部材を移動可能な第2駆動装置と、を備えた液浸システム。 - 前記物体の移動条件に応じて、前記第1方向における前記物体の表面と前記第1面との位置関係、及び前記物体の表面と前記液体回収口との位置関係の少なくとも一方が調整される請求項1記載の液浸システム。
- 前記物体の移動条件に応じて、前記第1面と前記液体回収口とを相対移動する請求項2記載の液浸システム。
- 前記移動条件は、前記第1面と実質的に平行な方向への前記物体の移動速度を含む請求項2又は3記載の液浸システム。
- 前記移動条件は、前記第1面と実質的に平行な方向への前記物体の直線的な連続移動距離を含む請求項2〜4のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第1面と実質的に平行な方向への前記物体の移動中に、前記第1面及び前記液体回収口の少なくとも一方が、前記第1方向に沿って移動される請求項1〜5のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記液体の供給条件に応じて、前記第1方向における前記物体の表面と前記第1面との位置関係、及び前記物体の表面と前記液体回収口との位置関係の少なくとも一方が調整される請求項1〜6のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記供給条件は、単位時間当たりの液体供給量を含む請求項7記載の液浸システム。
- 前記第1方向における前記光学部材の射出面と前記物体の表面との距離に応じて、前記第1方向における前記物体の表面と前記第1面との位置関係、及び前記物体の表面と前記液体回収口との位置関係の少なくとも一方が調整される請求項1〜8のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第1方向において、前記光学部材の射出面と前記第1面との距離が、前記射出面と前記液体回収口との距離と異なる請求項1〜8のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記物体の表面と前記液体回収口との距離が前記物体の表面と前記第1面との距離よりも大きくなるように、前記第1方向における前記第1面の位置及び前記液体回収口の位置の少なくとも一方が調整される請求項10記載の液浸システム。
- 前記液体回収口は、第1液体回収領域と、前記露光光の光路に対して前記第1面の外側に配置された第2液体回収領域とを含む請求項1〜11のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第1液体回収領域及び前記第2液体回収領域の少なくとも一方は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収口と前記物体との間の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項12記載の液浸システム。
- 前記第1液体回収領域は前記第1方向を向き、前記第2液体回収領域の少なくとも一部は、前記第1方向と異なる方向を向く請求項12又は13記載の液浸システム。
- 前記第1部材は、前記光路に液体を供給する液体供給口を有し、
前記液体供給口は、前記第1方向と異なる方向を向く請求項1〜14のいずれか一項記載の液浸システム。 - 前記第1部材は、前記光路の周囲に配置される請求項1〜15のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第2部材は、前記光路の周囲に配置される請求項1〜16のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記液体回収口は、前記光路の周囲に配置されている請求項17記載の液浸システム。
- 前記物体は、前記基板を含む請求項1〜18のいずれか一項記載の液浸システム。
- 液浸露光で用いられる液浸システムであって、
液体が満たされる光学部材と基板との間の露光光の光路の周囲に配置され、第1方向を向く第1面を有する第1部材であって、前記第1面と物体の表面との間の空間に液体が保持可能である、前記第1部材と、
前記露光光の光路に対して前記第1面の外側に配置された液体回収口を有する第2部材であって、前記液体回収口と前記物体の表面との間の前記液体の少なくとも一部が前記液体回収口から回収される、前記第2部材と、
少なくとも前記第1方向に沿った前記第1部材と第2部材との間の相対移動を制御可能な駆動装置と、を備え、
前記液体回収口は、第1回収領域と、前記露光光の光路に対して前記第1面の外側に配置された第2回収領域とを有し、
前記第1方向に関して、前記物体の表面と前記第1回収領域との距離は、前記物体の表面と前記第2回収領域との距離よりも大きく、
前記第1方向に関して、前記第1回収領域と前記第1面との位置関係は調整可能である、液浸システム。 - 前記第1液体回収領域及び前記第2液体回収領域の少なくとも一方は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収口と前記物体との間の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項20記載の液浸システム。
- 前記第1液体回収領域は前記第1方向を向いており、前記第2液体回収領域の少なくとも一部は、前記第1方向と異なる方向を向く請求項20又は21記載の液浸システム。
- 前記第1液体回収領域と、前記第2液体回収領域の少なくとも一部は、実質的に平行である請求項20又は21記載の液浸システム。
- 液浸露光で用いられる液浸システムであって、
液体が満たされる光学部材と基板との間の露光光の光路の周囲に配置され、第1方向を向く第1面を有し、前記第1面と物体の表面との間の空間に液体が保持可能である第1部材と、
前記露光光の光路に対して前記第1面の外側に配置され、前記物体の表面との間の前記液体の少なくとも一部が回収される前記液体回収口と、を備え、
前記第1部材が、少なくとも前記第1方向に沿って移動可能な液浸システム。 - 前記液体回収口を有する第2部材を備え、
前記第1方向において、前記第1部材と前記第2部材とは相対的に移動可能である請求項24記載の液浸システム。 - 前記第1部材を移動する第1駆動装置と、
前記第2部材を移動する第2駆動装置と、
をさらに備えた請求項25記載の液浸システム。 - 前記第1方向は、前記光学部材の光軸と平行である請求項1〜26のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第1部材は、前記第1方向と垂直な方向に移動可能である請求項1〜27のいずれか一項記載の液浸システム。
- 前記第2部材は、前記第1方向と垂直な方向に移動可能である請求項1〜28のいずれか一項記載の液浸システム。
- 液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項1〜29のいずれか一項記載の液浸システムを備える露光装置。 - 請求項30記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
請求項1〜29のいずれか一項記載の液浸システムを用いて、前記光学部材と前記基板との間の前記露光光の光路を液体で満たすことと、
前記光学部材と前記液体とを介して前記基板に露光光を照射することと、を含む露光方法。 - 請求項32記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US6481008P | 2008-03-27 | 2008-03-27 | |
US12/382,742 US8233139B2 (en) | 2008-03-27 | 2009-03-23 | Immersion system, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009239286A JP2009239286A (ja) | 2009-10-15 |
JP2009239286A5 true JP2009239286A5 (ja) | 2013-03-14 |
Family
ID=40793250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009074674A Pending JP2009239286A (ja) | 2008-03-27 | 2009-03-25 | 液浸システム、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8233139B2 (ja) |
JP (1) | JP2009239286A (ja) |
KR (1) | KR20100133446A (ja) |
TW (1) | TW200947145A (ja) |
WO (1) | WO2009119898A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101438385B (zh) * | 2006-05-10 | 2011-02-16 | 尼康股份有限公司 | 曝光装置及元件制造方法 |
US8233139B2 (en) * | 2008-03-27 | 2012-07-31 | Nikon Corporation | Immersion system, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
US8896806B2 (en) | 2008-12-29 | 2014-11-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
EP2523210A1 (en) * | 2010-01-08 | 2012-11-14 | Nikon Corporation | Liquid-immersion member, exposing device, exposing method, and device manufacturing method |
NL2009692A (en) * | 2011-12-07 | 2013-06-10 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
US9323160B2 (en) * | 2012-04-10 | 2016-04-26 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposure method, device fabricating method, program, and recording medium |
US9823580B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-11-21 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method for manufacturing device, program, and recording medium |
US9494870B2 (en) | 2012-10-12 | 2016-11-15 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, device manufacturing method, program, and recording medium |
US9720331B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-08-01 | Nikon Corporation | Liquid immersion member, exposure apparatus, exposing method, method of manufacturing device, program, and recording medium |
US10324384B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-06-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and a method of manufacturing a lithographic apparatus |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE404906T1 (de) * | 1996-11-28 | 2008-08-15 | Nikon Corp | Ausrichtvorrichtung und belichtungsverfahren |
US6262796B1 (en) * | 1997-03-10 | 2001-07-17 | Asm Lithography B.V. | Positioning device having two object holders |
US6897963B1 (en) * | 1997-12-18 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Stage device and exposure apparatus |
US6208407B1 (en) * | 1997-12-22 | 2001-03-27 | Asm Lithography B.V. | Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement |
EP1063742A4 (en) * | 1998-03-11 | 2005-04-20 | Nikon Corp | ULTRAVIOLET LASER DEVICE AND EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH A ULTRAVIOLET LASER DEVICE |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
US6611316B2 (en) * | 2001-02-27 | 2003-08-26 | Asml Holding N.V. | Method and system for dual reticle image exposure |
TW529172B (en) * | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
KR20050035890A (ko) | 2002-08-23 | 2005-04-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 포토리소그래피 방법, 노광 장치 및 그 이용방법 |
KR20140139139A (ko) * | 2003-04-10 | 2014-12-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템 |
TWI295414B (en) * | 2003-05-13 | 2008-04-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1477856A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101590686B1 (ko) * | 2003-09-03 | 2016-02-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법 |
JP4378136B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101441777B1 (ko) * | 2004-03-25 | 2014-09-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US20070216889A1 (en) * | 2004-06-04 | 2007-09-20 | Yasufumi Nishii | Exposure Apparatus, Exposure Method, and Method for Producing Device |
JP4543767B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2010-09-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7701550B2 (en) * | 2004-08-19 | 2010-04-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8675174B2 (en) * | 2004-09-17 | 2014-03-18 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
US7161654B2 (en) * | 2004-12-02 | 2007-01-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5005226B2 (ja) * | 2005-01-31 | 2012-08-22 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法、液体保持方法 |
US7411654B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4802604B2 (ja) * | 2005-08-17 | 2011-10-26 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
US7751026B2 (en) * | 2005-08-25 | 2010-07-06 | Nikon Corporation | Apparatus and method for recovering fluid for immersion lithography |
US7804577B2 (en) * | 2005-11-16 | 2010-09-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7864292B2 (en) * | 2005-11-16 | 2011-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN101438385B (zh) * | 2006-05-10 | 2011-02-16 | 尼康股份有限公司 | 曝光装置及元件制造方法 |
JP2007335662A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2008034801A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-02-14 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
US8134685B2 (en) * | 2007-03-23 | 2012-03-13 | Nikon Corporation | Liquid recovery system, immersion exposure apparatus, immersion exposing method, and device fabricating method |
US20090122282A1 (en) * | 2007-05-21 | 2009-05-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, liquid immersion system, exposing method, and device fabricating method |
US8233139B2 (en) * | 2008-03-27 | 2012-07-31 | Nikon Corporation | Immersion system, exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
-
2009
- 2009-03-23 US US12/382,742 patent/US8233139B2/en active Active
- 2009-03-25 JP JP2009074674A patent/JP2009239286A/ja active Pending
- 2009-03-26 KR KR1020107023702A patent/KR20100133446A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-03-26 TW TW098109833A patent/TW200947145A/zh unknown
- 2009-03-26 WO PCT/JP2009/056843 patent/WO2009119898A1/en active Application Filing
-
2012
- 2012-06-20 US US13/528,379 patent/US20120300181A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009239286A5 (ja) | ||
JP2013021355A5 (ja) | ||
JP2011109147A5 (ja) | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2015119187A5 (ja) | ||
JP2018156096A5 (ja) | ||
JP2012156539A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2012080137A5 (ja) | ||
JP2012142603A5 (ja) | ||
EP2199859A3 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and device producing method | |
JP2011109137A5 (ja) | ||
JP2011097112A5 (ja) | ||
JP2016509962A5 (ja) | ||
JP2014017526A5 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP2010199615A5 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP6845312B2 (ja) | 少なくとも部分的に強磁性の電子コンポーネントを支持体から基板へ非接触で引きわたす装置と方法 | |
JP2012134553A5 (ja) | 露光装置、液体検出方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012129558A5 (ja) | 露光装置、露光装置の制御方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011044713A5 (ja) | ||
JP2012138617A5 (ja) | ||
JP2011023764A5 (ja) | 流路形成部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012134555A5 (ja) | 液浸部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2015505154A5 (ja) | ||
JP2012186390A5 (ja) | ||
JP2008288589A5 (ja) | 露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2010177693A5 (ja) |