JP2009238718A - プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】一対の基板の間に形成された気密空間内の表示部分に不純物を残留させることのないプラズマディスプレイパネルの製造方法の提供。
【解決手段】背面基板および前面基板を封着した後に、背面基板および前面基板の間に形成された気密空間内に残留する残留ガスを排気行程で気密空間の外に排出する。この排気工程では、背面基板および前面基板が封着温度以下の温度Ｑ１まで昇温された状態で気密空間内に放電ガスを封入する。そのため、背面基板および前面基板は、その気密空間の不純物が高温である温度Ｑ１に晒されているため、気密空間内を漂った状態となり、この状態で、時刻ｔ２〜ｔ３の時間で放電ガスを導入すると、気密空間を漂っていた不純物は基板内部空間の奥の隅に押し込まれる。
【選択図】図４

Description

本発明は、放電空間を挟んで一対の基板が対向配置されたプラズマディスプレイパネルを製造する方法およびこの製造方法で製造されたプラズマディスプレイパネルに関する。

一般的に、プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して互いに対向配置された一対のガラス基板である前面基板と背面基板とを備えている。前面基板の内面側には、複数の表示電極、複数のブラックストライプ、誘電体層およびＭｇＯ（酸化マグネシウム）などからなる保護膜などがそれぞれ設けられている。背面基板の内面側には、前面基板の表示電極と略直交する複数のアドレス電極、アドレス電極保護層、放電空間を複数個の放電セルに区画する隔壁、放電セル内部のそれぞれに充填された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層などがそれぞれ設けられている。そして、これら複数個の放電セル内には希ガスなどの放電ガスが注入されており、それぞれの放電セル内で選択的に放電発光させることにより画像表示が可能とされている。

このようなプラズマディスプレイパネルを製造するにあたり、前面基板および背面基板を形成した後の工程に、前面基板と背面基板とを封着する封着工程、封着工程後の封着された前面基板と背面基板の間に形成された気密空間内に残留するガスを当該空間外に排出する排気工程、および排気工程後に当該空間内に放電ガスを封入するガス封入工程が設けられている。
封着工程は、アドレス電極保護層の外周縁部上に、放電空間の外周を囲う状態で低融点ガラスからなる封着材を設け、前面基板と背面基板とを対向させてそれぞれの基板端部を押さえつけた状態で熱処理することにより封着するものである。そして、排気工程では、封着された前面基板および背面基板の気密空間の空気を通気孔およびチップ管を介して排気するものである。ガス封入工程は、プラズマディスプレイの気密空間の内部圧力が所定値となる状態に通気孔およびチップ管を介して放電ガスを導入した後に当該チップ管を封止するものである。

以上の通り、排気工程の後にガス封入工程が実施されるが、従来では、真空排気しながら室温まで自然冷却し、パネル内に放電ガスを導入した後、管を閉じることでパネルを製造するものがある（特許文献１）。

特開２００４−６３１８６（段落［００４４］参照）

しかしながら、特許文献１では、パネルの温度が室温あるいはそれに近い温度にある状態で放電ガスがパネル内に封入されるものであるので、パネルが高温から冷めていく過程で表示部分に残留する水又は有機物の分子等の不純物がそのままセル内壁に付着、残留することもある。
このため、パネルが冷めた状態で放電ガスをパネル内に封入しても、セル内壁に付着している不純物はそのまま残留することになる。この状態で製造されたパネルを作動させると、放電ガスの放電によりこの不純物が気化し、放電電圧を不安定なものにするなどの問題が一例として挙げられる。

本発明は、前述したような問題点に鑑みて、一対の基板の間に形成された気密空間内の表示部分に不純物を残留させることのないプラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネルを提供することを１つの目的とする。

請求項１に記載の発明は、一対の基板が対向配置されたプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記一対の基板同士を封着した後に、前記一対の基板の間に形成された気密空間内に残留する残留ガスを前記気密空間外に排出する排気工程を備え、この排気工程において、前記基板が封着温度以下に昇温された状態で前記気密空間内に放電ガスを封入することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。

請求項８に記載の発明は、一対の基板が対向配置されたプラズマディスプレイパネルであって、前記一対の基板同士が封着されるとともに内部に気密空間が形成され、前記一対の基板の周辺部に、前記気密空間からの残留ガスの排気と前記気密空間への放電ガスの封入を行うためのガス流通管と、端部が封止されるとともに内部に空間が形成された封止部とをそれぞれ前記気密空間に連通するように設けたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。

［第１の実施の形態］
本発明にかかる第１の実施の形態を図１から図４に基づいて説明する。
〔プラズマディスプレイパネルの構成〕
図１は、本実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した斜視図である。図２は、プラズマディスプレイパネルの外観を示した正面図である。図３は、プラズマディスプレイパネルの裏面からみた斜視図である。なお、図１および図２において、各種電極および放電セルの寸法は説明の簡易化のため基板に対して相対的に大きく、それらの数は実際よりも大幅に省略して表示してある。また、図２においては、プラズマディスプレイパネルの正面視で、前面基板の内面側に設けられたシールフリットおよびガス導入部フリットを実線で表示し、その他の構成は適宜図示省略した。

図１および図２に示すように、１はプラズマディスプレイパネルであり、このプラズマディスプレイパネル１は、放電空間２を介して互いに対向配置された背面基板３および前面基板４と、封着部としてのシールフリット５と、ガス導入部フリット６とを備えている。
放電空間２は、図２に示すように、背面基板３および前面基板４の間に挟まれた空間の内部側に形成された平面視で略長方形状の空間であり、この放電空間２において、画像表示が実施される表示領域Ｉが形成されている。
背面基板３は、例えば歪点が比較的高い板状ガラス（例：旭硝子（株）製ＰＤ２００）などを用いた平面略長方形状のガラス板である。この背面基板３は、図１および図２に示すように、複数のアドレス電極３０と、誘電体層であるアドレス電極保護層３１と、隔壁３２と、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層（３３Ｒ,３３Ｇ,３３Ｂ）と、後述する排気工程およびガス封入工程に用いられる通気孔３４およびガス流通管としてのチップ管３５とを備えている。

アドレス電極３０は、例えばＡｌ（アルミニウム）などの金属材料からなるストライプ状の複数の電極パターンであり、背面基板３の長手方向に略直交する方向（列方向）に沿って一定の間隔で配設されている。それぞれのアドレス電極３０の一端は放電空間２の外部に延出しており、これにより図示しないアドレス電極引出部が形成されている。そして、このアドレス電極引出部には図示しないアドレス電極引出部用配線板が圧着されている。さらに、アドレス電極引出部用配線板には図示しない列電極駆動部が接続され、列電極駆動部を適宜制御することにより、それぞれのアドレス電極３０に高電圧パルスが印加される。
アドレス電極保護層３１は、ガラスペーストからなり、背面基板３の内面上における背面基板３および前面基板４が互いに重なる領域に対応する部位にアドレス電極３０を覆う状態に設けられている。

隔壁３２は、アドレス電極保護層３１上において、例えばアドレス電極保護層３１と同一成分のガラスペーストで井桁状に形成され、アドレス電極保護層３１の周縁部よりも内側に形成されている。隔壁３２は、放電空間２を含む背面基板３および前面基板４に挟まれた空間を井桁状に区画する。これにより、隔壁３２のうち表示領域Ｉに対応する隔壁３２により複数の矩形状の放電セル３２Ａが形成されている。これら複数の放電セル３２Ａ内部に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層（３３Ｒ,３３Ｇ,３３Ｂ）が順に設けられている。蛍光体層（３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂ）は、それぞれの放電セル３２Ａで発生した紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光する。
なお、隔壁３２のうち外側の隔壁３２が製造工程で不均一な形状に形成された場合、当該領域における隔壁間には蛍光体層を設けずに捨てセルとする構成としてもよい。すなわち、隔壁３２が形成された領域において、蛍光体層（３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂ）が形成され、後述する対となる透明電極４０間の放電によって蛍光体層からの３原色光が発光される表示領域Ｉとしての放電空間２と、この放電空間の外周を囲み蛍光体層が設けられない図示しない非表示領域と、が設けられる。

通気孔３４は、背面基板３の内部から外部へ向けて穿孔形成された貫通孔であり、図２および図３に示すように、背面基板３における隔壁３２の外側かつ隔壁３２の一角部近傍に設けられている。
チップ管３５は、例えばガラス管であり、背面基板３の外面側に通気孔３４に後述する封着工程にて、低融点ガラスなどによって取り付けられる。これら通気孔３４およびチップ管３５は、後述する排気およびガス封入に際して使用される。なお、図３において、チップ管３５が背面基板３および前面基板４に比べて大きく描かれている。

前面基板４は、例えば背面基板３と同じ材料を用いた平面略長方形状のガラス板である。
この前面基板４は、背面基板３よりも長手方向に長くかつ背面基板３よりも当該長手方向と直行する方向に短く形成されている。そして、前面基板４は、図１に示すように、複数の透明電極４０と、複数のバス電極対４１と、複数のブラックストライプ４２と、誘電体層４３と、保護層４４とを備えている。
複数の透明電極４０は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜でそれぞれ略Ｔ字形状に形成されている。これら透明電極４０は、前面基板４内面上において、対向する背面基板３の所定の放電セル３２Ａに２つの透明電極４０が対応する状態で一対ずつ配設されている。

複数のバス電極対４１は、例えばＡｇ（銀）を主成分とした金属材料からなる複数の電極対であり、それぞれアドレス電極３０と略直交する方向（列方向）に沿って一定の間隔で配列されている。これらバス電極対４１は、一対の透明電極４０のそれぞれの一端部に積層した状態で接続され、それぞれのバス電極対４１の一端は放電空間２の外部に延出して図示しないバス電極引出部が形成されている。そして、このバス電極引出部には図示しないバス電極引出部用配線板が圧着され、さらに、バス電極引出部用配線板には図示しない行電極駆動部が接続されている。この行電極駆動部を適宜制御することにより、それぞれの透明電極４０に例えば４００Ｖ以上の高電圧パルスが印加される。

複数のブラックストライプ４２は、例えば黒色無機顔料などの可視光吸収性材料からなり、隣接するバス電極対４１同士で挟まれたスペースに充填されてそれぞれストライプ状に形成されている。誘電体層４３は、例えばガラスペーストからなり、前面基板４の内面側に設けられた複数の透明電極４０、複数のバス電極対４１および複数のブラックストライプ４２を覆うように、背面基板３のアドレス電極保護層３１と対向して設けられている。保護層４４は、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）などで誘電体層４３上の全面に形成され、誘電体層４３を保護する。

シールフリット５は、例えば、低融点ガラス粉末にアクリルなどの樹脂とターピネオールなどの溶剤で混練したペーストを焼成凝固したものである。このシールフリット５は、図２に示すように、隔壁３２の外周側を囲む状態、すなわち、背面基板３におけるアドレス電極保護層３１の周縁側および前面基板４における保護層４４の周縁側を連結する略矩形枠状に設けられ、背面基板３および前面基板４を封着する。これにより、シールフリット５で囲まれた内部に気密空間ＩＩが形成されている。この気密空間ＩＩの内部においては、例えば、内部圧力が６．７×１０^４Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の負圧状態で、Ｈｅ−Ｘｅ（ヘリウム−キセノン）系やＮｅ−Ｘｅ（ネオン−キセノン）系の不活性ガスが充填されている。

ガス導入部フリット６は、シールフリット５と同様に、例えば、低融点ガラス粉末にアクリルなどの樹脂とターピネオールなどの溶剤で混練したペーストを焼成凝固したものである。なお、シールフリット５で用いる低融点ガラス粉末とガス導入部フリット６で用いる低融点ガラス粉末とを同じ低融点ガラス粉末とすると、シールフリット用ペースト及びガス導入部フリット用ペーストのペースト作成工程の一部を兼用化することができる。

このガス導入部フリット６は、気密空間ＩＩの内側かつ隔壁３２の外側の領域において、背面基板３および前面基板４同士を連結する状態で、通気孔３４と通気孔３４に対向する隔壁３２の端部との間に設けられている。ガス導入部フリット６と、対向するシールフリット５の端部とで挟まれた領域に、ガス導入路６０が形成されている。また、ガス導入部フリット６の他端側は、対向するシールフリット５の他長辺に当接されていない状態となっている。これにより、ガス導入路６０のうちガス導入部フリット６の前記他端側と対応する部位に開口部６１が形成されている。

〔プラズマディスプレイパネルの製造方法〕
次に、前述した構成のプラズマディスプレイパネル１の製造方法について図４に基づいて説明する。

まず、背面基板３の内面上に、複数のアドレス電極３０と、アドレス電極保護層３１と、隔壁３２と、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層（３３Ｒ,３３Ｇ,３３Ｂ）と、通気孔３４とを設けて、背面基板３を作製しておく。また、前面基板４の内面上に、複数の透明電極４０と、複数のバス電極対４１と、複数のブラックストライプ４２と、誘電体層４３と、保護層４４とを設けて、前面基板４を作製しておく。

この後、封着工程に移行する。すなわち、背面基板３の前述した所定の位置にシールフリット５およびガス導入部フリット６となるガラスペーストを塗布し、背面基板３および前面基板４を前述した所定の位置関係において互いに対向させて貼り合わせる。そして、それぞれの基板端部を図示しないクリップなどで押さえつけた状態で、背面基板３を図示しない熱処理装置の載置面に載置する。
この状態において、シールフリット５およびガス導入部フリット６を熱処理（例えば、約４５０℃の封着温度での熱処理）することにより、低融点ガラスを溶解させ、それぞれの内部に含まれた樹脂や溶剤などを揮発させる。この揮発した樹脂や溶剤のガスや、水は、後述の通り、不純物として、通気孔３４などを介してパネル外部に放出される。そして、シールフリット５およびガス導入部フリット６を室温まで冷却することにより低融点ガラスを凝固させて背面基板３および前面基板４を封着する。この時、同時に、チップ管３５の一端面に低融点ガラスペーストを塗布し、これを背面基板３の通気孔３４上に取り付ける。

さらに、排気工程に移行する。封着された背面基板３および前面基板４を図示しない排気炉に投入する。排気行程では、背面基板３の通気孔３４およびチップ管３５を介して、気密空間ＩＩの気体を不純物とともに外部に排出する。この行程は、図４に示されるタイムチャートに従って行われる。
図４に示される通り、時間０において排気炉の昇温を開始するとともに、気密空間ＩＩの排気を開始する。時刻Ｔ１において、室温から温度Ｑ１で昇温を停止する。ここで、排気工程で背面基板３および前面基板４が昇温される温度Ｑ１は、背面基板３および前面基板４の封着温度以下であって、室温以上の温度である。例えば、温度Ｑ１は隔壁３２などに付着している不純物、例えば、水や有機物の分子が気化して離脱する温度であり、具体的には１００℃以上の温度となる。
真空度Ｐは時刻ｔ１でＰ１まで到達し、高真空となる。本実施形態では、時刻ｔ１はＴ１より前でもよい。
排気は時刻ｔ２で放電ガスの導入をはじめ、時刻ｔ３でガス導入を停止する。このときの気密空間ＩＩの内部圧力がＰ２（０＜Ｐ２＜大気圧）である。
その後、時刻Ｔ２より基板温度を降温せしめ、時刻T３でパネル温度が略室温にもどる
。その後、チップ管３５の先端を加熱してチップ管３５を溶融させ、チップ管３５自体を封止（チップオフ）する。なお、時刻ｔ３は、時刻ｔ２よりも後になるように設定してもよい。

この後、背面基板３におけるアドレス電極引出部にアドレス電極引出部用配線板を圧着し、さらにアドレス電極引出部用配線板に列電極駆動部を接続する。また、前面基板４におけるバス電極引出部にバス電極引出部用配線板を圧着し、さらにバス電極引出部用配線板に行電極駆動部を接続する。以上の工程を経ることにより、プラズマディスプレイパネル１が完成する。

従って、第１の実施の形態では、背面基板３および前面基板４を封着した後に、背面基板３および前面基板４の間に形成された気密空間ＩＩ内に残留する残留ガスを排気行程で気密空間ＩＩの外に排出する。この排気工程では、背面基板３および前面基板４が封着温度以下の温度Ｑ１まで昇温された状態で気密空間ＩＩ内に放電ガスを封入する。そのため、背面基板３および前面基板４は、その気密空間ＩＩの不純物が高温である温度Ｑ１に晒されているため、気密空間ＩＩ内を漂った状態となり、この状態で、時刻ｔ２〜ｔ３の時間で放電ガスを導入すると、気密空間ＩＩを漂っていた不純物は基板内部空間の奥の隅の非表示部分に押し込まれる。さらに、背面基板３および前面基板４の温度が室温近くに戻ったところで、チップ管３５をチップオフするので、高温で背面基板３および前面基板４の内部空間を漂っていた不純物はパネル奥の隅の非表示部分に捕獲されたままとなる。第１の実施の形態では、以上の工程により、背面基板３および前面基板４の表示部分に存在した不純物を効率的に、かつ簡易な工程で取り除くことができる。そのため、表示部分に残る不純物が低減され、放電電圧を安定なものにできる。

そして、背面基板３および前面基板４の内部に放電ガスを封入する際の温度Ｑ１は、背面基板３および前面基板４の内部に設けられた隔壁３２などに付着している不純物が気化して離脱する温度とすることで、不純物を表示領域Ｉに設けられている隔壁３２から容易に離脱して非表示領域Ｉに放電ガスによって押し込めることができる。そのため、より効率的に不純物を表示部分から取り除くことができる。

［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施の形態を図５に基づいて説明する。第２の実施の形態はプラズマディスプレイパネル１の背面基板３の構造が第１の実施の形態とは異なるものであり、他のプラズマディスプレイパネル１の構造や製造方法は第１の実施の形態と同じである。ここで、第２の実施の形態において、第１の実施の形態と同じ構成は同一符号を付して説明を省略する。

図５において、プラズマディスプレイパネル１は背面基板３および前面基板４を有するものであり、その内部構造は図１および図２に示すものと同じである。
背面基板３には端部が封止された封止部としてのダミー排気管３６が設けられ、このダミー排気管３６は気密空間ＩＩに連通する。ダミー排気管３６は、好ましくは、チップ管３５の位置に対して略対角となる位置に配置される。
ここで、ダミー排気管３６は、その基端側では径が小さく、中央部から先端側にかけて径の大きな膨出先端部を有する形状であり、プラズマディスプレイパネル１の気密空間ＩＩと同等の容積を有する。

第２の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネル１の製造方法は第１の実施の形態と同じである。
第２の実施の形態では、排気工程は図４に示されるタイムチャートに従って行われる。
つまり、時間０において排気炉の昇温を開始し、プラズマディスプレイパネル１の内部の排気を開始する。時刻Ｔ１において、室温から温度Ｑ１で昇温したら停止する。真空度Ｐは時刻ｔ１で真空度Ｐ１の高真空となる。なお、時刻ｔ１はＴ１より前でもよい。
第１の実施の形態と同様に、時刻ｔ２で放電ガスの導入をはじめ、時刻ｔ３でガス導入を停止する。このときの圧力が真空度Ｐ２である。その後、時刻Ｔ２より降温し、時刻Ｔ３でプラズマディスプレイパネル１の温度が略室温まで戻る。
その後、チップ管３５をチップオフし、さらに、ダミー排気管３６をチップオフして排気工程を完了する。なお、チップオフする順序は逆でもよい。また、ダミー排気管はそのまま残しても良い。

従って、第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
つまり、端部が閉じられたダミー排気管３６を背面基板３に設けたから、排気工程で排出される不純物を背面基板３と前面基板４との間の気密空間ＩＩからダミー排気管３６に押し込むことができる。そのため、不純物がダミー排気管３６の内部に留まり、その後のプラズマディスプレイパネル１の使用において、不純物が表示領域Ｉに戻ることが少ない。
さらに、ダミー排気管３６をチップオフすることで、ダミー排気管３６に押し込まれた不純物を、プラズマディスプレイパネル１から確実に除去することができる。
そして、ダミー排気管３６は気密空間ＩＩの容積以上の容積を有する構成とすれば、より多くの不純物をダミー排気管３６で捕捉することができる。

［第３の実施の形態］
本発明の第３の実施の形態を図６に基づいて説明する。第３の実施の形態は排気工程が前記実施の形態とは異なるものであり、他の工程やプラズマディスプレイパネル１自体の構造は前記実施の形態と同じである。
第３の実施の形態では、排気工程は図６に示されるタイムチャートに従って行われる。
図６において、第３の実施の形態では、真空度Ｐは時刻ｔ１で真空度Ｐ１の高真空となる。その後、時刻ｔ２〜ｔ９の範囲で、酸素を含む放電ガスをプラズマディスプレイパネル１の気密空間ＩＩに出し入れして不純物を除去する。この際、時刻ｔ３〜ｔ４，ｔ７〜ｔ８では、真空度ＰをＰ３（Ｐ１＜Ｐ３＜Ｐ２）とし、時刻ｔ５〜ｔ６，ｔ９では、真空度ＰをＰ１とする。
そして、時刻ｔ９〜ｔ１０までは真空度ＰをＰ１とし、高温の温度Ｑ１の状態で放電ガスを時刻ｔ１０〜ｔ１１の間に導入する。これにより、表示領域Ｉにまだ残っている不純物を効率的に除去し、非表示部やダミー排気管３６に不純物を追い込む。なお、図６では、時刻ｔ１１は温度ＱをＱ１から低下させる時刻Ｔ２より前であるが、これは前後してもよい。

従って、第３の実施の形態によれば、前記実施の形態の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
気密空間ＩＩに酸素を含ませた放電ガスを、真空度Ｐを周期的に変化させることで出し入れするので、不純物をより効率的に表示領域Ｉから排除することができる。
そして、最後に、高温の温度Ｑ１の状態で放電ガスを時刻ｔ１０〜ｔ１１の間に導入することで、表示領域Ｉにまだ残っている不純物を効率的に除去することができる。

［第４の実施の形態］
本発明の第４の実施の形態を図７に基づいて説明する。第４の実施の形態は排気工程が前記実施の形態とは異なるものであり、他の工程やプラズマディスプレイパネル１自体の構造は前記実施の形態と同じである。
第４の実施の形態では、排気工程は図７に示されるタイムチャートに従って行われる。
図７において、第４の実施の形態では、真空度Ｐは時刻ｔ１で真空度Ｐ１の高真空となり、プラズマディスプレイパネル１の温度Ｑは時刻Ｔ１で最高温度Ｑ１に達する。その後、プラズマディスプレイパネル１の温度Ｑを時刻Ｔ２からＴ３の間にＱ１からＱ２まで下げ、この温度Ｑ２の状態下で、時刻ｔ２〜ｔ３までの間に放電ガスを導入する。

従って、第４の実施の形態によれば、前記実施の形態の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
パネル加熱温度ＱをＱ１からＱ２まで一旦下げ、この温度Ｑ２において時刻ｔ２〜ｔ３までの間に放電ガスを導入することにしたから、放電ガスの圧力により前面基板４と背面基板３の位置がずれることを低減できる。そして、温度Ｑ２で放電ガスを導入するので、温度Ｑ１で放電ガスを導入する前記実施の形態に比べて高温によるパネルへのストレスを与える時間を減らすことができる。

［第５の実施の形態］
本発明の第５の実施の形態を図８に基づいて説明する。第５の実施の形態は、封着工程の終了後、プラズマディスプレイパネル１をあまり温度低下させないで、引き続き、排気工程を行う点が前記実施の形態とは異なるものであり、他の工程やプラズマディスプレイパネル１自体の構造は前記実施の形態と同じである。
第５の実施の形態では、封着工程と排気工程は図８に示されるタイムチャートに従って行われる。

図８において、封着工程では、背面基板３と前面基板４との貼り合わせまでの工程を室温で行い、その後の熱処理を温度Ｑ０で行う。この熱処理のための温度Ｑ０は排気行程での温度Ｑ１より高く、例えば、約４５０℃である。温度Ｑ０における熱処理は時刻Ｔ１からＴ２までの間に行われ、熱処理が終了した時刻Ｔ２からは背面基板３と前面基板４とを冷却する。時刻がＴ３となり、背面基板３および前面基板４の温度が温度Ｑ１にまで下がったら、引き続き排気行程に移行する。
この排気行程では時刻Ｔ３において、プラズマディスプレイパネル１の内部の排気を開始する。真空度Ｐは時刻ｔ１で真空度Ｐ１の高真空となる。時刻ｔ２で放電ガスの導入をはじめ、時刻ｔ３でガス導入を停止する。このときの圧力が真空度Ｐ２である。その後、時刻Ｔ４より降温し、時刻Ｔ５でプラズマディスプレイパネル１の温度が略室温まで戻る。

従って、第５の実施の形態によれば、前記実施の形態の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
封着工程の終了後、プラズマディスプレイパネル１が排気可能な温度Ｑ１になった際に、引き続き、排気工程を行った。そのため、封着工程で加熱されたプラズマディスプレイパネル１が封着工程の終了に伴って不純物が固着するまで温度低下をすることがないので、気密空間ＩＩに閉じ込められる不純物がより減少する。

［第６の実施の形態］
本発明の第６の実施の形態を図９に基づいて説明する。第６の実施の形態は封止部としてダミー排気管３６に代えて行き止り通路７を設ける点で第２の実施の形態とは異なるものであり、他のプラズマディスプレイパネル１の構造や製造方法は第２の実施の形態と同じである。ここで、第６の実施の形態において、第２の実施の形態と同じ構成は同一符号を付して説明を省略する。

図９は図２に対応した図である。図９において、プラズマディスプレイパネル１は背面基板３および前面基板４を有するものであり、その内部の基本構造は図１および図２に示すものと略同じである。
第６の実施の形態では、前面基板４の輪郭に対応するように封着部としてのシールフリット５が略長方形に設けられており、このシールフリット５の内部に気密空間ＩＩが形成されている。
この気密空間ＩＩの内部にはシールフリット５の一方の短辺部と略平行にガス導入部フリット６が設けられており、このガス導入部フリット６とシールフリット５の一方の短辺との間にはガス導入路６０が形成されている。このガス導入路６０にはチップ管３５と接続される通気孔３４が気密空間ＩＩの隅部に形成されている。

気密空間ＩＩの内部にはシールフリット５の他方の短辺部と略平行に気密空間ＩＩを区画する構造物としての区画壁部７１が配置されている。この区画壁部７１は表示領域Ｉの外側に形成されるものであって、シールフリット５の他方の短辺部と平行な長寸部７１Ａと、この長寸部７１Ａの一端部とシールフリット５の他方の短辺部とを接続する短寸部７１ＢとからＬ字状に形成されている。
ここで、区画壁部７１とシールフリット５とを備えて構造物が構成されており、区画壁部７１の外周部とシールフリット５の他方の短辺の内周部とで区画される空間から行き止り通路７が構成される。この行き止り通路７の入り口７Ａは短寸部７１Ｂとは反対側であって気密空間ＩＩのチップ管３５が設けられた隅部とは対角線上の隅部に設けられている。
区画壁部７１はシールフリット５と同一材料で形成されている。
第６の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネル１の製造方法を第２の実施の形態と同様の行程で行う。

従って、第６の実施の形態によれば、前記実施の形態の作用効果を奏することができる他、次の作用効果を奏することができる。
つまり、封止部として端部が閉じられた行き止り通路７を用いたから、第２の実施の形態で封止部として用いられるダミー排気管３６と同様に、排気工程で排出される不純物を背面基板３と前面基板４との間の気密空間ＩＩから行き止り通路７に押し込むことができる。そのため、不純物が行き止り通路７の内部に留まり、その後のプラズマディスプレイパネル１の使用において、不純物が表示領域Ｉに戻ることが少ない。
しかも、行き止り通路７はダミー排気管３６に比べて、より低いコストと、より高い信頼性をもって、気化した不純物を表示領域Ｉから排除できる。
その上、外部に取り付けたダミー排気管３６は破損しないように慎重に取り扱わなければならないが、第６の実施の形態では、パネル内部に行き止り通路７を形成するので、より高い信頼性をもって、気化した不純物を表示領域Ｉから排除できる。
また、行き止り通路７を形成するための区画壁部７１をシールフリット５と同一材料で形成したから、材料を変更することなく、フリットパタンの形成と同じプロセスで行き止り通路７を形成することができる。したがって、行き止り通路７を簡易に、低コストで、わずかなプロセス追加のみで製造することができる。
行き止り通路７の入り口７Ａをチップ管３５が配置される隅部と対角線上の隅部に設けたから、隅部に配置されたチップ管３５からガスが流出されるとともに、このガスがパネル内の不純物を取り込み、この不純物が取り込まれたガスが行き止り通路７に当該隅部と対角線上に配置された入り口７Ａから補足されるので、表示領域Ｉから不純物がきれいに排除できる。

〔実施の形態の変形〕
なお、本発明は前述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。

前記第２の実施の形態では、封止部としてのダミー排気管３６を、中央部から先端側にかけて径の大きな膨出先端部を有する形状とし、その容積をプラズマディスプレイパネル１の気密空間ＩＩと同等としたが、本発明ではこの構成に限定されるものではなく、例えば、図１０から図１３に示される変形例も含まれる。
例えば、図１０に示される通り、ダミー排気管３６１を普通の排気管と同じ形状としてもよい。これにより、ダミー排気管のコストを第２の実施の形態と比較して大幅に低減できる。
さらに、図１１に示される通り、ダミー排気管３６２を、一端が閉じられた長い筒状に形成するものでもよい。このダミー排気管３６２では、その内部容積がダミー排気管３６に比べて大きい。これにより、ダミー排気管３６２の容積を第２の実施の形態より増加させ、不純物の捕捉効果を高めることができる。そして、ダミー排気管３６２は、その基端部が背面基板３に対して立ち上がるように形成されているものの立ち上がり部分から先端部にかけて背面基板３と所定の寸法離れた状態で基板に沿って形成されている。そのため、第２の実施の形態に比べて、ダミー排気管３６２の製造が容易になり、製造コストを下げることができる。

図１２に示される通り、ダミー排気管３６３は、基端部が湾曲するとともに中間部から先端部にかけて背面基板３に沿うように形成されている。そのため、ダミー排気管３６３の長い部分が背面基板３に密着しているので、取り扱いが容易で、ダミー排気管３６３が破損することが少ない。
そして、図１３に示される通り、ダミー排気管３６４は、その基端部から先端部にかけて背面基板３に沿うように形成されている。そのため、図１２のダミー排気管３６３に比べて背面基板３からの突出部が少ないので取り扱いがより容易となり、取り扱い中に誤って破損することが少ない。なお、図１３のダミー排気管３６４はチップオフすることがないが、他のダミー排気管３６１〜３６３は必要に応じてチップオフすることが可能である。

また、本発明では、行き止り通路７の構造が第６の実施の形態に限定されるものではなく、例えば、図１４から図２０に示される変形例も含まれる。
例えば、図１４に示される通り、長寸部７１Ａを長くし、入り口７Ａとは反対側をシールフリット５の長辺部に接続させて短寸部７１Ｂを省略してもよい。この構成では、行き止り部７の流路を長く形成することができるので、大量の不純物を表示領域Ｉから排除することができる。
また、図１５に示される通り、行き止り通路７をシールフリット５の長辺に沿って形成するものでもよく、この場合、図１６に示される通り、図１４と同様に、長寸部７１Ａを長くし、入り口７Ａとは反対側をシールフリット５の短辺部に接続させて短寸部７１Ｂを省略してもよい。シールフリット５の長辺に沿って行き止り通路７を形成することで、行き止り部７の流路を長く形成することができるので、大量の不純物を表示領域Ｉから排除することができる。

そして、行き止り通路７は１個の限定されるものではなく、複数個であってもよい。例えば、図１７に示される通り、行き止り通路７をシールフリット５の一方の短辺に沿って複数、図１７では３個形成するものでもよく、図１８に示される通り、行き止り通路７をシールフリット５の一方の長辺に沿って複数、図１８では４個形成するものでもよい。さらに、図１９に示される通り、行き止り通路７をシールフリット５の長辺と短辺とに沿ってそれぞれ複数、図１９では、長辺に４個、短辺に３個形成するものでもよく、さらには、図２０に示される通り、行き止り通路７をシールフリット５の全ての辺に沿ってそれぞれ複数、図２０では、シールフリット５の２つの長辺に４個ずつ、シールフリット５の一方の短辺に３個、他方の短辺に２個形成するものでもよい。これらの行き止り通路７の個数や大きさはパネル平面の面積に応じて適宜設定される。
さらに、本発明では、長寸部７１Ａをシールフリット５の長辺や短辺と平行に形成するものに限定されるものではなく、長寸部７１Ａを当該長辺や短辺に対して斜めに形成するものでもよく、あるいは平面形状が連続した山形形状や波形状としてもよい。

前記各実施の形態では、通気孔３４およびチップ管３５を背面基板３のみに設ける構成を例示したが、これに限らず、前面基板４のみに設ける構成としてもよい。また、通気孔３４およびチップ管３５を背面基板３および前面基板４の双方にそれぞれ設ける構成や、複数の通気孔３４およびチップ管３５を背面基板３のみにそれぞれ設ける構成としてもよい。このような構成の場合、背面基板３および前面基板４の双方に設けられたそれぞれの通気孔３４の近傍に前述したようなガス導入部フリットを設ければ、前記実施の形態と同様の作用効果を奏する、すなわち、プラズマディスプレイパネルの駆動時において振動音の発生を防止でき、かつ、正常な表示を行うことができる。さらに、排気工程およびガス封入工程を迅速に行うことができるので、製造時間の短縮化を図ることができる。

前記実施の形態では、背面基板３および前面基板４を平面略長方形状に形成する構成を例示したが、これに限らず、これらガラス基板の形状は平面略正方形でも平面略楕円形でもよい。また、背面基板３および前面基板４は必ずしも平面である必要もなく、例えば、前面基板４および背面基板３が基板と略直交する一方向に向けて反った状態に形成されてもよい。このような構成でも前記実施の形態と同様の作用効果を奏する、すなわち、パネル駆動時において振動音の発生を防止でき、かつ、正常な表示を行うことができる。

前記実施の形態では、隔壁３２を井桁状に形成する構成を例示して説明したが、これに限らず、例えば、隔壁をストライプ状に形成する構成としてもよい。

〔実施の形態の作用効果〕
前述したように、前記実施の形態では、一対の背面基板３および前面基板４を備えたプラズマディスプレイパネル１を製造する方法であって、一対の背面基板３および前面基板４を封着した後に、一対の背面基板３および前面基板４の間に形成された気密空間ＩＩ内に残留する残留ガスを気密空間ＩＩの外に排出する排気工程を備え、この排気行程において、背面基板３および前面基板４が封着温度以下の温度Ｑ１まで昇温された状態で気密空間ＩＩ内に放電ガスを封入する構成とした。そのため、背面基板３および前面基板４は、その気密空間ＩＩの不純物が高温である温度Ｑ１に晒されているため、気密空間ＩＩ内を漂っているが、この状態で、放電ガスを導入すると、気密空間ＩＩを漂っていた不純物が内部空間の奥の隅の非表示部分に押し込まれることになり、背面基板３および前面基板４の表示部分に存在した不純物を効率的に、かつ簡易な工程で取り除くことができる。

本発明の第１の実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した斜視図である。 第１の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの外観を示した概略正面図である。 プラズマディスプレイパネルの裏面からみた斜視図である。 第１の実施の形態における排気工程のタイムチャートである。 本発明の第２の実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの裏面からみた斜視図である。 本発明の第３の実施の形態における排気工程のタイムチャートである。 本発明の第４の実施の形態における排気工程のタイムチャートである。 本発明の第５の実施の形態における排気工程のタイムチャートである。 本発明の第６の実施の形態を示すもので図２に対応する図 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図３に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図３に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図３に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図３に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。 本発明のプラズマディスプレイパネルの変形例を示すもので図９に対応する図である。

符号の説明

１ プラズマディスプレイパネル
３ 背面基板
３２ 隔壁
３４ 通気孔
３５ チップ管（ガス流通管）
４ 前面基板
５ シールフリット（封着部、構造物）
７ 行き止り通路
７Ａ 入り口
７１ 区画壁部（構造物）
３６ ダミー排気管（封止部）
３６１ ダミー排気管（封止部）
３６２ ダミー排気管（封止部）
３６３ ダミー排気管（封止部）
３６４ ダミー排気管（封止部）
Ｉ 表示領域
ＩＩ 気密空間

Claims (14)

1. 一対の基板が対向配置されたプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、
   前記一対の基板同士を封着した後に、前記一対の基板の間に形成された気密空間内に残留する残留ガスを前記気密空間外に排出する排気工程を備え、この排気工程において、前記基板が封着温度以下に昇温された状態で前記気密空間内に放電ガスを封入する
   ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. 請求項１に記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記基板内に放電ガスを封入する際の温度は、前記一対の基板の内部に付着している不純物が気化する温度以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. 請求項２に記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記不純物は水又は有機物の分子であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記一対の基板の周辺部に、前記気密空間からの残留ガスの排気と前記気密空間への放電ガスの封入を行うためのガス流通管と、端部が封止されたダミー排気管とをそれぞれ前記気密空間に連通するように設け、前記ガス流通管を介して残留ガスの排気と放電ガスの封入とを行い、放電ガスの封入後に前記ガス流通管を封止することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 請求項４に記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記ダミー排気管は前記気密空間の容積以上の容積を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. 請求項４または請求項５に記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記放電ガスを前記気密空間に封入した後、前記一対の基板が室温近傍まで降温した際に、前記ダミー排気管の少なくとも一部を除去することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
7. 請求項１から請求項３のいずれかに記載されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
   前記一対の基板の周辺部に、前記気密空間からの残留ガスの排気と前記気密空間への放電ガスの封入を行うためのガス流通管と、構造物で区画された行き止り通路とをそれぞれ前記気密空間に連通するように設け、前記ガス流通管を介して残留ガスの排気と放電ガスの封入とを行い、放電ガスの封入後に前記ガス流通管を封止することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
8. 一対の基板が対向配置されたプラズマディスプレイパネルであって、
   前記一対の基板同士が封着されるとともに内部に気密空間が形成され、前記一対の基板の周辺部に、前記気密空間からの残留ガスの排気と前記気密空間への放電ガスの封入を行うためのガス流通管と、端部が封止されるとともに内部に空間が形成された封止部とをそれぞれ前記気密空間に連通するように設けたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
9. 請求項８に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
   前記封止部は、端部が封止されたダミー排気管であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
10. 請求項８に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記封止部は、構造物で区画された行き止り通路であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
11. 請求項１０に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記構造物は前記気密空間を区画する区画壁部と、前記一対の基板の周辺部を封着する封着部とを備え、前記行き止り通路は、前記区画壁部と前記封着部との間に設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
12. 請求項１０または請求項１１に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行き止り通路の入り口は、前記ガス流通管が配置される隅部と対角線上の隅部に設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
13. 請求項１１に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行き止り通路を構成する構造物は、前記基板の短辺側または長辺側の前記封着部に沿って設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
14. 請求項１１又は請求項１３に記載されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
    前記行き止り通路を構成する構造物は、前記封着部と同一材料で形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。

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