JP2009193674A - 透明導電膜の製造方法およびそれに従って製造される透明導電膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 酸化亜鉛透明導電酸化物層を予め所望の膜厚よりも厚めに製膜し、メタンと水素を含むガスを用いてプラズマ処理することで、酸化亜鉛透明導電酸化物層のエッチングおよび粒径の巨大化が起こり、その結果「高光線透過率」「低抵抗」を同時に達成することが可能となる。
【選択図】 なし
Description
透明導電膜、6ページより(シーエムシー出版)
0.01≦V(CH4)/(V(CH4)+V(H2))≦0.1 (式1)
酸化亜鉛透明導電酸化物層の表面にプラズマ処理を施すことを特徴とする透明導電膜の製造方法(1)。であり、その製造方法で作製される透明導電膜であり、酸化亜鉛透明導電酸化物層の膜厚をdとし、酸化亜鉛透明導電酸化物の走査型電子顕微鏡で観察し、その画像内に見られる結晶粒径の平均結晶粒径をrとした時に、r/dが式2の関係を満足することを特徴とする透明導電膜(2)。
0.67≦r/d≦1.50 (式2)
酸化亜鉛透明導電酸化物層の空気面または/及び空気面と透明基板と酸化亜鉛透明導電酸化物層との間にカーボン膜が形成されていることを特徴とする(2)に記載の透明導電膜(3)。に関するものである。
0.01≦V(CH4)/(V(CH4)+V(H2))≦0.1 (式1)
酸化亜鉛透明導電酸化物層の表面にプラズマ処理を施すことでエッチングと同時に結晶粒径の巨大化を達成することを特徴とする、透明導電膜の製造方法および該製造方法によって得られる透明導電膜」に関するものである。
気相堆積法で透明導電酸化物層を形成する場合、基板の温度は、基板の軟化温度により変化するが、室温〜基板のガラス転移温度以下が好ましく、さらに好ましくは室温〜基板のガラス転移温度より30℃程度低温が好ましい。基板の温度が低すぎると、結晶性が悪くなり、透明性や導電性が目的を達成できない可能性がある。基板の温度が高すぎると基板に付与した位相差が損失する可能性がある。透明導電酸化物層の形成には必要に応じてプラズマ放電を利用することができる。プラズマのパワーには特に制限はないが、生産性や結晶性の観点から10W〜600Wが好ましい。低すぎる場合には製膜されない可能性がある。高すぎる場合には基板へのダメージや装置へのダメージが懸念される。透明導電酸化物層の形成に使用するキャリアガスは一般的な気相堆積法に使用されるガスを使用することができる。例えばアルゴンや水素、酸素や窒素ガスを使用することができる。
酸化亜鉛透明導電酸化物層の表面には、保護層の役割を目的としてカーボン膜を積層することができる。カーボン膜は構造中に水素を含むハイドロカーボンが好ましく、物理的強度や透明性の観点から、アモルファスハイドロカーボンやテトラヘドラルアモルファスハイドロカーボンがより好ましく使用される。これらのカーボン膜は、CVD法やスパッタ法、イオンプレーティング法や蒸着法など公知の技術により形成されるのが一般的であるが、本発明に係るカーボン膜は高周波プラズマCVD法でのみ得ることが可能である。使用する高周波電源には、RF・VHF・マイクロ波などの種類があるが、どの電源を用いても所望のカーボン膜を得ることができる。高周波プラズマCVD法でカーボン膜を形成する場合、原料は通常使用されるものを使用でき、所望するカーボン膜の構造によりメタンガスのみの場合や、水素により希釈して製膜する場合がある。
カーボン膜3は上記のように酸化亜鉛透明導電酸化物層2の表面だけでなく、透明基板1と透明導電酸化物層2との間にも形成されても良く、これにより酸化亜鉛透明導電酸化物層の保護の効果が向上する。
0.01≦V(CH4)/(V(CH4)+V(H2))≦0.1 (式1)
の関係を満足するように混合ガスを調整することで本発明に適した酸化亜鉛透明導電層を形成することができる。メタンが多すぎる場合には、酸化亜鉛透明導電酸化物層のエッチングが起こらず、カーボン膜が堆積するのみとなり、粒径の巨大化の観点から好ましくない。一方メタンが少なすぎる場合には、水素プラズマ処理のみが起こり、キャリア濃度が変化することはあるが、本発明に必要な透過率の向上や粒径の巨大化は困難である。処理に使用する電源は高周波電源を用いることができる。高周波電源のパワー密度は0.05W/cm2〜5.00W/cm2とすることで良好な処理条件となる。パワー密度が大きすぎると、エッチング速度が速くなりすぎて膜質の制御が困難となる。一方パワー密度が小さすぎると、エッチングが起こらず、表面にカーボン膜が堆積するために透過率の向上や粒径の巨大化が困難となる。
0.67≦r/d≦1.50 (式2)
となることが、本発明での重要な技術である。非特許文献2によれば、物理気相堆積により形成された酸化亜鉛透明導電酸化物層の膜厚はr/dに当てはめると0.10〜0.15の範囲となる。酸化亜鉛薄膜の膜厚が大きくなるほどに結晶粒径が大きくなることが一般的であるが、結晶粒径を大きくするために酸化亜鉛薄膜の膜厚を大きくすると、特に透明性に課題を生じる。本発明ではメタン/水素の混合プラズマ処理により、酸化亜鉛透明導電酸化物層の膜厚を大きくすることなく、結晶粒径を大きくすることができる点で優れている。特に、メタン/水素の混合ガスにおいて、メタンガス濃度が低いほどr/dの値が大きくなりやすい。これは、水素ガス大きくなることにより、酸化亜鉛透明導電酸化物層に対してエッチングモードが働きやすくなることが原因と予想される。
八百隆文監修、ZnO系の最新技術と応用、86ページ(シーエムシー出版、2007年)
(実施例1)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、酸化亜鉛をスパッタ製膜した。製膜条件は、基板温度を200℃、キャリアガスとしてアルゴンガスを20sccm使用し、8Paの圧力で200WのDCパワーをかけ、10分間製膜することで、500Åの酸化亜鉛透明導電酸化物層を作製した。この酸化物透明導電酸化物層を高周波プラズマCVD法でエッチング処理した。処理条件は、基板温度を200℃とし、メタンガス、水素ガスをそれぞれ10sccm、400sccm流しながら、70Paの圧力に調圧した後、200WのRFパワーをかけ、20分間処理を実施した。このようにして作製した透明導電膜の膜厚は300Åであり、平均粒径は250Åであり、r/dの値は0.83となった。表面抵抗は290Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は91%であった。(図1)
(実施例2)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、メタン、水素の流量を10sccm、90sccmとする以外は実施例1と同様に透明導電膜を作製した。このようにして作製した透明導電膜の膜厚は300Åであり、平均粒径は250Åであり、r/dの値は0.83となった。表面抵抗は150Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は90%であった。
(実施例3)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、メタン、水素の流量を10sccm、990sccmとする以外は実施例1と同様に透明導電膜を作製した。このようにして作製した透明導電膜の膜厚は200Åであり、平均粒径は250Åであり、r/dの値は1.25となった。表面抵抗は360Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は93%であった。
(比較例1)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、酸化亜鉛をスパッタ製膜した。製膜条件は、基板温度を200℃、キャリアガスとしてアルゴンガスを20sccm使用し、8Paの圧力で200WのDCパワーをかけ、5分間製膜することで、300Åの酸化亜鉛透明導電酸化物層を作製した。このようにして作製した透明導電膜の平均粒径は125Åであり、r/dの値は0.42となった。表面抵抗は310Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は85%であった。(図2)
(比較例2)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、プラズマCVDの条件を、メタン50sccmとする以外は実施例1と同様に透明導電膜を作製した。このようにして作製した透明導電膜の膜厚は500Åであり、平均粒径は125Åであった。またr/dの値は0.42となった。表面抵抗は250Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は90%であった。
(比較例3)
無アルカリガラス(商品名OA−10、膜厚0.7mm、日本電気硝子社製)に、メタン、水素の流量を10sccm、1200sccmとする以外は実施例1と同様に透明導電膜を作製した。このようにして作製した透明導電膜の膜厚は450Åであり、平均粒径は125Åであった。またr/dの値は0.28となった。表面抵抗は240Ω/□であり、550nmの波長での光線透過率は88%であった。
Claims (3)
- 透明基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物層が形成された透明導電膜の製造方法であって、酸化亜鉛透明導電酸化物層が、最終的に必要な膜厚よりも大きな膜厚の酸化亜鉛透明導電酸化物層を製膜後にメタン・水素の混合ガスを、メタンの流量をV(CH4)、水素の流量をV(H2)とした時に、式1の関係を満足するように混合ガスを調整し、
0.01≦V(CH4)/(V(CH4)+V(H2))≦0.1 (式1)
該酸化亜鉛透明導電酸化物層の表面にプラズマ処理を施すことを特徴とする、透明導電膜の製造方法。 - 請求項1の製造方法で作製される透明導電膜であり、前記酸化亜鉛透明導電酸化物層の膜厚をdとし、前記酸化亜鉛透明導電酸化物の走査型電子顕微鏡で観察し、その画像内に見られる結晶粒径の平均結晶粒径をrとした時に、r/dが式2の関係を満足することを特徴とする透明導電膜。
0.67≦r/d≦1.50 (式2) - 酸化亜鉛透明導電酸化物層の空気面、または/及び、空気面と透明基板と酸化亜鉛透明導電酸化物層との間に、カーボン膜が形成されていることを特徴とする請求項2に記載の透明導電膜。
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