JP2009182364A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 19
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Claims (6)
- 基板の一方の面を吸着する第１保持部と、前記基板の他方の面に当接する第２保持部と、前記第２保持部を移動させる機構と、前記第１保持部を前記第２保持部側へ付勢するバネとを有し、
前記バネは、前記基板が前記第１保持部に押付けられた状態で前記第２保持部を前記基板に対向させた際に、前記第２保持部と前記基板との間に空間が形成されるように収縮可能であり、かつ、前記基板を保持する際に、前記対向した第２保持部に前記基板を押付け可能であることを特徴とする基板保持機構。 - 前記第１保持部は、静電吸着または真空吸着により前記基板を吸着することを特徴とする請求項１に記載の基板保持機構。
- 前記第２保持部を移動させる機構は、前記基板を保持する位置と前記基板の保持を解除する位置とに前記第２保持部を移動させることを特徴とする請求項１または２に記載の基板保持機構。
- 前記一方の面が前記基板の上面であり、前記他方の面が前記基板の下面であり、前記基板を下向きに保持することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板保持機構。
- 請求項１〜４のいずれか１つに記載の基板保持機構を用いて前記基板としてのレチクルをステージに置き、該レチクルのパターンをウエハに露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項５に記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、該露光したウエハを現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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| JP2009123179A JP4617385B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2009123179A JP4617385B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
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