JP2009158729A - インプリント用基板 - Google Patents
インプリント用基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009158729A JP2009158729A JP2007335505A JP2007335505A JP2009158729A JP 2009158729 A JP2009158729 A JP 2009158729A JP 2007335505 A JP2007335505 A JP 2007335505A JP 2007335505 A JP2007335505 A JP 2007335505A JP 2009158729 A JP2009158729 A JP 2009158729A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- layer
- resist
- mold
- metal compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
本発明は、光ナノインプリントによる欠陥率の小さい凹凸パターンの転写が可能なインプリント用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明のインプリント用基板は、光式ナノインプリントリソグラフィにおいて用いられる基板であって、基板上に金属化合物層を形成してなり、該金属化合物層上に、光式ナノインプリントリソグラフィに用いられる光硬化性樹脂との密着力が、金属化合物層より大きな中間層を形成してなることを特徴とする。
【選択図】図5
Description
モールド100の材料としては、例えば、石英やガラス,シリコンなどの無機物、ニッケル等の金属、そして各種の樹脂等が挙げられる。また、モールド100の外形は、加圧方式に応じて、円形、楕円形、多角形のいずれであってもよい。モールド100には、中心穴が加工されていてもよい。また、モールド100、特に凹凸形状形成部101の表面には、押し広げられたレジスト104とモールド100との剥離を促進するために、フッ素系,シリコーン系などの離型処理を施すこともできる。なお、レジスト103として光反応性物質を用いる際には反応に用いる光の波長に対してモールド100は透明である必要がある。
中間層の材料としてはSi,Ti,Al,Snからなる群のうち少なくとも1種を含み、さらに、Ru,Pt,Pd,W,Ti,Ta,Cr、からなる群のうち少なくとも1種を含むことが望ましい。中間層の役割は上記で述べたとおりであるが、中間層は図6に示すように無機酸化物層108aおよびマスク層108bから成る2層から構成されてもよい。
基板としては、たとえばガラス基板,Al系合金基板,セラミック基板,カーボン基板,Si単結晶基板などを用いることが出来る。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム,窒化アルミニウム,窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることが出来る。Si単結晶基板、いわゆるシリコンウエーハは表面に酸化膜を有していても構わない。また、上記金属基板,非金属基板の表面にメッキ法やスパッタ法を用いてNiP層が形成されたものを用いることも出来る。また、基板102の外形は、円形,楕円形,多角形のいずれであってもよく、中心穴が加工されていてもよい。
前記したカップリング剤としては、それぞれの場合に使用されるレジスト材料の持つ官能基との所望の相互作用により決まる。それによって、例えばシランカップリング剤の官能基およびレジスト材料の持つ官能基との間で、π−π相互作用が起こり得る。あるいは、化学反応の結果、共有結合を形成し得る。他の適した相互作用としては、双極子相互作用である。適したシランカップリング剤が有する官能基の例は、例えば、フェニル基,アミノ基,カルボン酸基,アクリレート基,メタクリレート基である。さらには、レジストと基板との密着性の向上には共有結合の形成が望ましい。また、カップリング剤はその重合体であっても良い。
〔化1〕
YnSiX(4−n)
ここで、Yはアルキル基,フルオロアルキル基,ビニル基,アミノ基,フェニル基,クロロアルキル基,イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Xはアルコキシル基,アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。また、Xで示されるアルコキシル基はメトキシ基,エトキシ基,プロポキシ基,ブトキシ基であることが好ましい。また、Yで示される有機基全体の炭素数は1〜20の範囲内、特に5〜10の範囲内であることが好ましい。
本実施例では、中間層としてタングステンシリサイド(WSi)膜を形成した例を示す。被転写体1としては、直径65mm,厚さ0.631mm,中心穴径20mmの磁気記録媒体用基板を使用した。基板はガラス製であり、表面には磁気記録層等が形成されており不透明体である。この基板102は、その外周の端部、および中心穴の端部が、幅0.15mmで面取されたものである。基板102上には中間層としてタングステンシリサイド膜がスパッタ法により100nm形成されている。基板102を溶媒トルエンの1%メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン溶液に浸漬し、50℃で1時間加熱した。その後基板102をトルエンで洗浄し、中間層の密着処理を行った。被転写体1の両面には、ディスペンス法で樹脂が滴下された。樹脂は感光性物質を添加したアクリレート系樹脂であり、粘度が4mPa・sになるように調合された。樹脂は、ノズルが512(256×2列)個配列され、ピエゾ方式で樹脂を吐出する塗布ヘッドで塗布された。塗布ヘッドのノズル間隔は、列方向に70μm、列間140μmである。各ノズルからは約5pLの樹脂が吐出されるように制御された。そして、基板102の表面には、ナノインプリントの直前にインクジェット法で樹脂材料103を滴下した。
本実施例では、中間層の無機酸化物層としてSiO2膜、マスク層としてTa2O5膜をスパッタ法によりそれぞれ10nm,100nmの厚さで形成した例を示す。実施例1と同様にして、無機酸化物層とマスク層を形成した基板102について、ナノインプリント工程を実施し、樹脂材料104からなる微細形状を基板102上に形成した。基板102上の樹脂材料104からなる微細形状の欠陥率を表1に示す。
被転写体1として直径65mm,厚さ0.631mm,中心穴径20mmの磁気記録媒体用基板を使用する。基板はガラス製であり、表面には磁気記録層等が形成されており不透明体である。中間層を形成しない以外は、実施例1と同様にして、無機酸化物層とマスク層を形成した基板102について、ナノインプリント工程を実施し、樹脂材料104からなる微細形状を基板102上に形成した。基板102上の樹脂材料104からなる微細形状の欠陥率を表1に示す。
被転写体1として直径65mm,厚さ0.631mm,中心穴径20mmの磁気記録媒体用基板を使用し、マスク層としてTa2O5膜をスパッタ法により100nmの厚さで形成した例を示す。基板はガラス製であり、表面には磁気記録層等が形成されており不透明体である。無機酸化物層を形成しない以外は、実施例2と同様にして、マスク層を形成した基板102について、ナノインプリント工程を実施し、樹脂材料104からなる微細形状を基板102上に形成した。基板102上の樹脂材料104からなる微細形状の欠陥率を表1に示す。
本実施例では、本発明のインプリント用基板を使用したディスクリートトラックメディアの製造方法について適宜図面を参照しながら説明する。参照する図面において、図8は、本実施例に関わる記録媒体を示す模式図である。本図においては各記録トラックが磁気的に分離されている所謂ディスクリートトラックメディア(DTM)の模式図を示しているが、各記録ビットが分離されているビットパターンドメディア(BPM)においても本実施例で示すプロセスを適用可能である。
101 凹凸形状形成部
102,201 基板
103 光硬化性レジスト
104 モールドによって押し広げられた光硬化性レジスト
105a 基板上に転写された凹凸形状を有する光硬化性レジスト
105b モールドに付着した光硬化性レジスト
106 下地基板
107 金属化合物層
108 中間層
108a 無機酸化物層
108b マスク層
109 下部ステージ
110 緩衝層
111 上部ステージ
200 磁気記録媒体
202 穴
203 記録トラック
204 サーボパターン
205 外周部
206 内周部
207 軟磁性裏打層
208 記録層
209 中間層形成部
210 レジスト
212 硬化したレジスト
213 非磁性体
214 保護膜
Claims (9)
- 光式ナノインプリントリソグラフィにおいて用いられる基板であって、
基板上に金属化合物層を形成してなり、
表面の水酸基の数が該金属化合物層表面より多く有する中間層を形成してなることを特徴とするインプリント用基板。 - 前記中間層が、Si,Ti,Al,Snからなる群のうち少なくとも1種を含み、かつ、Ru,Pt,Pd,W,Ti,Ta,Cr、からなる群のうち少なくとも1種を有してなることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板。
- 前記中間層が、最表面に無機酸化物層を形成してなり、
該基板と該無機酸化物層との間にマスク層を形成してなる少なくとも2層以上からなることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板。 - 前記無機酸化物層が、Si,Ti,Al,Snからなる群から少なくとも1種を選択されることを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板。
- 前記無機酸化物層が、カップリング剤により表面処理されていることを特徴とする請求項4に記載のインプリント用基板。
- 前記マスク層が、Ru,Pt,Pd,W,Ti,Ta,Cr、からなる金属群のうち少なくとも1種を有してなる金属、または前記金属群の少なくとも1種からなる金属酸化物、金属窒化物からなる層を含むことを特徴とする請求項3に記載のインプリント用基板。
- 前記金属化合物層が磁性層を有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板。
- 前記金属化合物層が化合物半導体層を有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板。
- 光式ナノインプリントリソグラフィにおいて用いられる基板であって、
基板上に金属化合物層を形成してなり、
カップリング剤により表面処理した際に、該金属化合物表面より多くのカップリング剤結合部位を有する中間層を形成してなることを特徴とするインプリント用基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335505A JP5033615B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | インプリント用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335505A JP5033615B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | インプリント用基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009158729A true JP2009158729A (ja) | 2009-07-16 |
JP5033615B2 JP5033615B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=40962429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007335505A Expired - Fee Related JP5033615B2 (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | インプリント用基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5033615B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011097037A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
WO2011155602A1 (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-15 | Hoya株式会社 | 密着補助層付き基板、モールドの製造方法及びマスターモールドの製造方法 |
WO2012042862A1 (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-05 | 富士フイルム株式会社 | レジストパターンの形成方法およびそれを利用した基板の加工方法 |
JP2012204613A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | テンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレート表面処理装置及びパターン形成方法 |
WO2014087817A1 (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ナノインプリント用樹脂、該樹脂を含む積層体、該樹脂を含むプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法 |
US8916476B2 (en) | 2013-02-18 | 2014-12-23 | Hitachi-Lg Data Storage, Inc. | Microfine structure formation method and microfine structure formed body |
JP2015065443A (ja) * | 2009-08-17 | 2015-04-09 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
WO2020066442A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜形成用組成物、下層膜、パターン形成方法および半導体素子の製造方法 |
WO2022054624A1 (ja) * | 2020-09-14 | 2022-03-17 | 日産化学株式会社 | インプリント用プライマー層形成組成物 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071934A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 微細パターンの製造方法および転写材料 |
JP2005353926A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nikon Corp | 基板表面のクリーニング方法及び基板の製造方法 |
JP2006191085A (ja) * | 2004-12-30 | 2006-07-20 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
JP2006209913A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Toshiba Corp | パターンド磁気記録媒体、パターンド磁気記録媒体作製用スタンパー、パターンド磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2007223206A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Canon Inc | パターン形成方法 |
WO2007119306A1 (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Konica Minolta Opto, Inc. | 磁気記録媒体用基板、その製造方法、及び磁気記録媒体 |
JP2007323059A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-12-13 | Lg Philips Lcd Co Ltd | レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 |
-
2007
- 2007-12-27 JP JP2007335505A patent/JP5033615B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004071934A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 微細パターンの製造方法および転写材料 |
JP2005353926A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nikon Corp | 基板表面のクリーニング方法及び基板の製造方法 |
JP2006191085A (ja) * | 2004-12-30 | 2006-07-20 | Asml Netherlands Bv | インプリント・リソグラフィ |
JP2006209913A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Toshiba Corp | パターンド磁気記録媒体、パターンド磁気記録媒体作製用スタンパー、パターンド磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2007223206A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Canon Inc | パターン形成方法 |
WO2007119306A1 (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Konica Minolta Opto, Inc. | 磁気記録媒体用基板、その製造方法、及び磁気記録媒体 |
JP2007323059A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-12-13 | Lg Philips Lcd Co Ltd | レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015065443A (ja) * | 2009-08-17 | 2015-04-09 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
JP2011097037A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
WO2011155602A1 (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-15 | Hoya株式会社 | 密着補助層付き基板、モールドの製造方法及びマスターモールドの製造方法 |
US20130126472A1 (en) * | 2010-06-11 | 2013-05-23 | Hoya Corporation | Substrate with adhesion promoting layer, method for producing mold, and method for producing master mold |
JP2016054317A (ja) * | 2010-06-11 | 2016-04-14 | Hoya株式会社 | 密着補助層付きフォトマスク用基板および密着補助層付きフォトマスク用基板の製造方法 |
JP5871324B2 (ja) * | 2010-06-11 | 2016-03-01 | Hoya株式会社 | 密着補助層付き基板、モールドの製造方法及びマスターモールドの製造方法 |
WO2012042862A1 (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-05 | 富士フイルム株式会社 | レジストパターンの形成方法およびそれを利用した基板の加工方法 |
JP2012071516A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | レジストパターンの形成方法およびそれを利用した基板の加工方法 |
JP2012204613A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | テンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレート表面処理装置及びパターン形成方法 |
JP5689207B2 (ja) * | 2012-12-05 | 2015-03-25 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法 |
WO2014087817A1 (ja) * | 2012-12-05 | 2014-06-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ナノインプリント用樹脂、該樹脂を含む積層体、該樹脂を含むプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法 |
US8916476B2 (en) | 2013-02-18 | 2014-12-23 | Hitachi-Lg Data Storage, Inc. | Microfine structure formation method and microfine structure formed body |
WO2020066442A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜形成用組成物、下層膜、パターン形成方法および半導体素子の製造方法 |
JPWO2020066442A1 (ja) * | 2018-09-27 | 2021-09-16 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜形成用組成物、下層膜、パターン形成方法および半導体素子の製造方法 |
JP7076569B2 (ja) | 2018-09-27 | 2022-05-27 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜形成用組成物、下層膜、パターン形成方法および半導体素子の製造方法 |
WO2022054624A1 (ja) * | 2020-09-14 | 2022-03-17 | 日産化学株式会社 | インプリント用プライマー層形成組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5033615B2 (ja) | 2012-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4467611B2 (ja) | 光インプリント方法 | |
JP5033615B2 (ja) | インプリント用基板 | |
JP4712370B2 (ja) | インプリント・リソグラフィのための複合スタンパ | |
JP5460541B2 (ja) | ナノインプリント方法、液滴配置パターン作成方法および基板の加工方法 | |
JP5411557B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
JP4815464B2 (ja) | 微細構造転写スタンパ及び微細構造転写装置 | |
JP4584754B2 (ja) | ナノプリント金型、その製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法 | |
JP4478164B2 (ja) | 微細構造転写装置、スタンパおよび微細構造の製造方法 | |
JP4886400B2 (ja) | インプリント装置およびインプリント方法 | |
US20090273119A1 (en) | Imprint Method and Imprint Apparatus | |
JP5480530B2 (ja) | 微細構造転写方法及び微細構造転写装置 | |
JP2010049745A (ja) | ナノインプリント用モールドおよびこれを用いて作製された磁気記録媒体 | |
WO2007099907A1 (ja) | インプリント用モールド及びインプリント方法 | |
JP2008012844A (ja) | 微細構造転写装置および微細構造転写方法 | |
JP2009006619A (ja) | ナノインプリント用モールドおよび記録媒体 | |
US20100009025A1 (en) | Mold for pattern transfer | |
JP2009241274A (ja) | インプリント方法およびスタンパ | |
JP5694889B2 (ja) | ナノインプリント方法およびそれに用いられるナノインプリント装置並びにパターン化基板の製造方法 | |
JP5416420B2 (ja) | 微細構造転写装置 | |
JP2014157955A (ja) | 微細構造形成方法及び微細構造形成体 | |
JP7336373B2 (ja) | 型を製造する方法、型、インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP2012236371A (ja) | インプリントにおける離型方法 | |
US9180608B2 (en) | Stamp, method of manufacturing the same, and imprinting method using the stamp | |
JP2009206519A (ja) | ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法 | |
JP2006164365A (ja) | 樹脂マスク層形成方法、情報記録媒体製造方法および樹脂マスク層形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120312 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120605 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120702 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |