JP2009155149A - 感光性導電ペースト用ガラスフリット - Google Patents

感光性導電ペースト用ガラスフリット Download PDF

Info

Publication number
JP2009155149A
JP2009155149A JP2007333842A JP2007333842A JP2009155149A JP 2009155149 A JP2009155149 A JP 2009155149A JP 2007333842 A JP2007333842 A JP 2007333842A JP 2007333842 A JP2007333842 A JP 2007333842A JP 2009155149 A JP2009155149 A JP 2009155149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass frit
glass
photosensitive
conductive paste
paste
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007333842A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5286777B2 (ja
Inventor
Kazuhiro Nishikawa
和浩 西川
Koji Tominaga
耕治 富永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP2007333842A priority Critical patent/JP5286777B2/ja
Priority to KR1020107016319A priority patent/KR101232475B1/ko
Priority to CN2008801132161A priority patent/CN101835721B/zh
Priority to PCT/JP2008/073325 priority patent/WO2009081907A1/ja
Publication of JP2009155149A publication Critical patent/JP2009155149A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5286777B2 publication Critical patent/JP5286777B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • C03C3/21Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing titanium, zirconium, vanadium, tungsten or molybdenum
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/04Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/08Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/18Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions containing free metals
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

【課題】高精細パターンの導電回路形成が可能で、かつ、ペーストの増粘が抑制された感光性導電ペースト用ガラスフリットが望まれている。
【解決手段】感光性の導電ペースト用ガラスフリットにおいて、軟化点が480〜540℃で屈折率が1.5〜1.7の範囲のガラスフリットが、導電性粉末および感光性有機成分を必須成分とする感光性導電ペースト中に5〜50質量%含有されることを特徴とする感光性導電ペースト用ガラスフリット。
【選択図】 なし

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネルやその他の電気・電子回路における高精細パターン形成に用いられる感光性導電ペースト用ガラスフリットに関する。
近年、回路材料やディスプレイにおいて、小型化や高密度化、高精細化、高信頼性の要求が高まっており、それに伴って、パターン加工技術も技術向上が望まれている。特に、導体回路パターンの微細化は小型化、高密度化には不可欠な要求として各種の方法が提案されている。
例えば、プラズマディスプレイパネル(PDP)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、OA機器および情報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
このような用途の拡大にともなって、PDPは微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目されている。PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で対抗するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発光させることにより表示を行うものである。この場合、ガラス基板上のアノードおよびカソード電極は、複数本の線状電極を平行に配置されており、互いの電極が僅小な間隙を介して対抗し、かつ互いの線状電極が交差する方向を向くように重ね合わせて構成される。PDPの中で、蛍光体によるカラー表示に適した3電極構造の面放電型PDPは、互いに平行に隣接した一対の表示電極からなる複数の電極対と、各電極対と直交する複数のアドレス電極とを有する。
上記のアドレス電極は、通常スクリーン印刷法でアドレス電極に対応するマスクパターンを有した印刷マスクを用いて、ガラス基板上に銀ペーストなどの導電ペーストを印刷した後焼成して形成される。しかしながら、スクリーン印刷法ではマスクパターン精度、スクイーズ硬さ、印刷速度、分散性などの最適化を図っても電極パターンの幅を100μm以下に細くすることができず、ファインパターン化には限界があった。また、スクリーン印刷による方法では、印刷マスクの精度は、マスク製版の精度に依存するので印刷マスクが大きくなるとマスクパターンの寸法誤差が大きくなってしまう。このため30インチ以上の大面積のPDPの場合に、高精細のPDP作製がますます技術的に困難となっている。
さらに、PDPには透過型と反射型があるが、反射型では背面ガラスの発光層側にアドレス電極および絶縁層の隔壁(リブ)が設けられ、その後に蛍光体が形成されている。アドレス電極を導電ペーストで印刷し、乾燥させた後、隔壁用の印刷マスクによって絶縁ガラスペーストを所定の高さ、幅によって異なるが、焼成前の高さ200μmの隔壁では、15回以上重ねて印刷する。その後、導電ペーストおよび絶縁ペーストを一括に焼成してアドレス電極および隔壁を形成する。しかしながら、大型のPDPになればなるほどガラス基板の一端を基準として、隔壁用の位置合わせを行うと、ガラス基板の他端では、すでに導電ペーストのパターンピッチ(印刷マスクの寸法精度に依存する)と隔壁用の印刷マスクのパターンピッチとが累積されることから、アドレス電極と隔壁との間に大きな位置ずれが生じてしまう。このため高精細な電極パターンが得られず、大型化も非常に制限されるようになり、問題点の解決が必要となっている。
これらスクリーン印刷の欠点を改良する方法として、絶縁ペーストを焼成後、導電ペーストを印刷し、焼成して電極形状の改良を図ったものや、アノードの電極形成にフォトリソグラフィ技術を用いたものおよびフォトレジストを用いたフォトリソグラフィ技術による導電ペーストが提案されている(特許文献1〜3参照)。
特開平1−206538号公報 特開平1−296534号公報 特開昭63−205255号公報
しかし、既存技術のものは、最近求められているより微細なパターン形成に加えて低抵抗と大型化を同時に満足する技術としては、十分ではなかった。
より微細なパターン形成において、フォトリソグラフィ技術が必要であり、このためには電極としての導電性以外に、感光性が求められるが、ペーストの有機成分とガラス成分の屈折率が異なると、両界面で乱反射を起こし、精細なパターンが得られない。
また、低抵抗を求めるとペースト中の導電性粉末を多くすれば良いと思われるが、ガラス基板との付着強度を上げるためには、ペースト中のガラス成分が必要であり、この量や成分は極めて重要である。基板との接着には、熱膨張係数を基板に揃えて、かつ軟化温度は低い必要もある。
さらに、微細なパターンを精度良く作製できるようにするためには、フリットの粒径も重要であるが、この径は小さければよいというものではなく、ガラスの成分や接着性・焼結性との兼ね合いが必要となってくる。
このように、導電性ペーストに求められる組成や性質は、回路材料やディスプレイの進歩によって絶えず変化しており、それを満たすペースト材料には新しい性能が求められるのが現状である。
本発明は、感光性の導電ペースト用ガラスフリットにおいて、軟化点が480〜540℃で屈折率が1.5〜1.7の範囲のガラスフリットが、導電性粉末および感光性有機成分を必須成分とする感光性導電ペースト中に5〜50質量%含有されることを特徴とする感光性導電ペースト用ガラスフリットである。
また、ガラスフリットが質量%で、SiO 0〜9、B 50〜55、Al 12〜20、ZnO 0〜12、MgO、CaO、SrO、BaOから選択される少なくとも一種 5〜17、LiO、NaO、KOから選択される少なくとも一種 10〜20、P 0〜10、ZrO 0〜3、を含み、
屈折率が1.5〜1.7であることを特徴とする上記の感光性導電ペースト用ガラスフリットである。
また、LiO/KOの質量比が0.2以上、0.5以下、NaO/KOの質量比が0.6以上、1.5以下のガラスフリットを用いることを特徴とする上記の感光性導電ペースト用ガラスフリットである。
さらに、ガラスフリットの30℃〜300℃における熱膨張係数が(95〜115)×10−7/℃であることを特徴とする、上記の感光性導電ペースト用ガラスフリットである。
さらにまた、ガラスフリットが最大粒子径8μm以下、平均粒子径0.5μm〜3μmであることを特徴とする上記の感光性導電ペースト用ガラスフリットである。
感光性の導電ペースト用ガラスフリットにおいて、フォトリソグラフィ法により高精細のパターン解像度が得られ、かつ、低抵抗を有する電極パターンが形成でき、さらに、ガラスフリットと有機成分との反応によるペーストの増粘を抑制できるようなガラスフリットを提供できる。
本発明は導電ペーストに感光性を付与し、これにフォトリソグラフィ技術を用いて、微細で低抵抗な電極が効率よく形成できるようにするものである。
使用される導電性粉末は、導電性を有する粉末であればよいが、好ましくはAg、Au、Pd、Ni、Cu、AlおよびPtの群から選ばれる少なくとも1種を含むもので、ガラス基板上に600℃以下の温度で焼き付けできる低抵抗の導電性粉末が使用される。
本発明において、ガラスフリットは導電性粉末をガラス基板上に強固に焼き付けることが可能であり、また導電性粉末を焼結するための焼結助剤の効果や導体抵抗を下げる効果がある。
質量%でSiOを0〜9、Bを50〜55、Alを12〜20、ZnOを0〜12、MgO、CaO、SrO、BaOのうち、すくなくとも1種類以上を5〜17、LiO、NaO、KOのうち、すくなくとも1種類以上を10〜20、Pを0〜10、ZrOを0〜3含むガラスフリットを5〜50質量含有することが好ましい。この範囲であると500〜600℃で導体膜をガラス基板上に強固に焼き付けできるガラスフリットが得られる。
SiOはガラス形成成分であり、別のガラス形成成分であるBと共存させることにより、安定したガラスを形成することができるもので、9%(質量%、以下においても同様である)まで含有できる。9%より多くなると耐熱温度が増加し、600℃以下でガラス基板上に焼き付けが難しくなる。
はSiO同様のガラス形成成分であり、ガラス溶融を容易とし、導電ペーストの電気絶縁性、強度、熱膨張係数などの電気、機械および熱的特性を損なうことのないように焼き付け温度を500〜600℃の範囲に制御するために配合される。ガラス中に50〜55%で含有させるのが好ましい。50%未満ではガラスの流動性が不充分となり、焼結性が損なわれ密着強度が低下する。他方55%を越えるとガラスの軟化点が高くなり過ぎ、焼結性を損う。より好ましくは50〜53%の範囲である。
ZnOはガラスの軟化点を下げ、熱膨張係数を適宜範囲に調整するもので、ガラス中に12%まで含有できる。12%を越えるとペースト中の感光性成分と反応して短時間でペーストの粘度が上昇するようになる。より好ましくは0〜6%の範囲である。
Alはガラスに適度の流動性を与え、かつ、ガラスの耐化学性を高める作用があり、12〜20%含有させる。12%未満ではガラスの対化学性が不十分となり、ガラス中のアルカリイオンの溶出量が多くなりペーストの粘度が上昇するようになる。20%を越えるとガラスの流動性が悪化し、焼結性を損なう。より好ましくは13〜17%の範囲である。
MgO、CaO、SrO、BaOはガラスに適度に流動性を与え、ガラスの耐化学性を高める効果があり、すくなくとも1種類以上を5〜17%含有させる。5%未満ではガラスの対化学性が不十分となり、ガラス中のアルカリイオンの溶出量が多くなってペーストの粘度が上昇するようになる。他方17%を越えるとガラスの熱膨張係数が高くなり過ぎる。
O(LiO、NaO、KO)はガラスの軟化点を下げ、適度に流動性を与え、熱膨張係数を適宜範囲に調整するものであり、すくなくとも1種類以上を10〜20%の範囲で含有させることが好ましい。10%未満では上記作用を発揮し得ず、他方20%を越えると熱膨張係数を過度に上昇させるとともに、ガラス中のアルカリイオンの溶出量が多くなってペーストの粘度が上昇するようになる。
また、LiO、NaO、KOの質量比率をLiO/KOの質量比が0.2以上、0.5以下、NaO/KOの質量比が0.6以上、1.5以下とすることで、ガラス中のアルカリイオンの溶出量を抑制できる。この範囲を逸脱するとガラス中のアルカリイオンの溶出量が多くなってペーストの粘度が上昇するようになる。
はガラス形成成分であり、別のガラス形成成分であるSiOと共存させることにより、安定したガラスを形成するとともに耐化学性を高めることができるもので、0〜10%含有させる。10%を越えると軟化点が高くなり、流動性が不充分となり、焼結性が損なわれる。また、SiOとの共存量はSiO+Pが2〜10%とすることが好ましい。2%未満ではガラスの形成が不安定となり、他方10%を越えるとガラスの流動性が低下し、緻密な焼結体を得ることが困難となる。
ZrOは、ガラスの耐化学性を高める効果があり、0〜3%の範囲で含有させる。より好ましくは、0.1%〜3%の範囲である。
ガラスフリットの粒子径は、最大粒子径を8μm以下とする。8μmを超えると感光性導電ペーストを高密度化、高精細化して形成した際に局所的な導電抵抗の上昇を来す不具合が発生する。好ましくは2〜6μmの範囲である。平均粒子径は感光性導電ペーストの焼結性及びガラス基板との接着性を左右する重要な要素で、0.5〜3μmの範囲とする。0.5μm未満ではガラス中のアルカリイオンの溶出量が多くなりペーストの粘度が上昇するようになる。他方、3μmを超えるとガラス基板との接着性が低下する。好ましくは0.5〜2μmの範囲である。
感光性導電ペースト中のガラスフリット含有量としては、5〜50質量%であることが好ましい。ガラスフリットは電気絶縁性であるので含有量が50質量%を越えると電極の抵抗が増大するので好ましくない。5質量%以下では、電極膜とガラス基板との強固な接着強度が得られにくい。
パターン形成性の容易さから、ガラスフリットの屈折率は1.5〜1.7の範囲にあるのが好ましい。一般に絶縁体として用いられるガラスは、1.5〜1.9程度の屈折率を有している。感光性ガラスペースト法を用いる場合には、有機成分の平均屈折率がガラス粉末の平均屈折率と大きく異なる場合は、ガラス粉末と感光性有機成分の界面での反射・散乱が大きくなり、精細なパターンが得られない。一般的な有機成分の屈折率は1.45〜1.7であるため、パターン形成性を向上させるためには、ガラスフリットと有機成分の屈折率を整合させ、ガラスフリットの平均屈折率を1.5〜1.7にすることが好ましい。さらにパターン形成性を向上させるには1.5〜1.6がより好ましい。
以下、実施例に基づき、説明する。
ガラスフリットは、SiO源として微粉珪砂を、B源としてほう酸を、Al源としてアルミナを、ZnO源として亜鉛華を、MgO源として酸化マグネシウムを、CaO源として炭酸カルシウムを、SrO源として炭酸ストロンチウムを、BaO源として炭酸バリウムを、LiO源として炭酸リチウムを、NaO源として炭酸ナトリウムを、KO源として炭酸カリウムを、P源としてリン酸ホウ素を、ZrO源としてジルコンを要した。これらを所望の低融点ガラス組成となるべく調合したうえで、白金ルツボに投入し、電気加熱炉内で1100〜1200℃、1〜2時間で加熱溶融して表1の実施例1〜4、表2の比較例1〜4に示す組成のガラスを得た。
Figure 2009155149
Figure 2009155149
ガラスの一部は型に流し込み、ブロック状にして熱物性(熱膨張係数、軟化点、屈折率)測定用に供した。残余のガラスは急冷双ロール成形機にてフレーク状とし、粉砕装置で平均粒径0.5〜3μm、最大粒径8μm未満の粉末状に整粒した。
軟化点は、リトルトン粘度計を用い、粘度係数η=107.6 に達したときの温度とした。また、熱膨張係数は、熱膨張計を用い、5℃/分で昇温したときの30〜300℃での伸び量から求めた。
(感光性ペーストの作製)
残余の感光性導電ペースト用ガラスフリットを感光性化合物を含む有機成分に分散し、感光性ペーストを得た。
得られた感光性ペーストについて、分散直後のペースト粘度[V1]と5℃冷温室に24時間静置した後のペースト粘度[V2]を測定し、[V2/V1]が1.2未満の場合を感光性成分との反応が無いと判断して◎を、1.2〜1.5の範囲に有る場合を感光性成分との反応が有るが、実用上の問題は無いと判断して○を、1.5を超える場合を感光性成分との反応が有ると判断して×とした。
また、焼成膜に粘着テープを貼り付け、剥離がないものを○、剥離があるものを×として、接着強度を評価した。
(結果)
表1における実施例1〜4に示すように、本発明の組成範囲内においては、感光性成分との反応によるペースト粘度の上昇が抑制されており、プラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネルやその他の電気・電子回路における高精細パターン形成に用いられる感光性導電ペースト用ガラスフリットに好適に使用できる。
他方、本発明の組成範囲を外れる表2における比較例1〜4は、好ましい物性値や接着強度が得られず、さらに感光性成分との反応によるペースト粘度の上昇が認められ、高精細パターン形成に用いられる感光性ペーストとして使用される感光性導電ペースト用ガラスフリットとして適用し得ない。

Claims (5)

  1. 感光性の導電ペースト用ガラスフリットにおいて、軟化点が480〜540℃で屈折率が1.5〜1.7の範囲のガラスフリットが、導電性粉末および感光性有機成分を必須成分とする感光性導電ペースト中に5〜50質量%含有されることを特徴とする感光性導電ペースト用ガラスフリット。
  2. ガラスフリットが質量%で、
    SiO 0〜9、
    50〜55、
    Al 12〜20、
    ZnO 0〜12、
    MgO、CaO、SrO、BaOから選択される少なくとも一種 5〜17、
    LiO、NaO、KOから選択される少なくとも一種 10〜20、
    0〜10、
    ZrO 0〜3、
    を含み、屈折率が1.5〜1.7であることを特徴とする請求項1に記載の感光性導電ペースト用ガラスフリット。
  3. LiO/KOの質量比が0.2以上、0.5以下、NaO/KOの質量比が0.6以上、1.5以下のガラスフリットを用いることを特徴とする請求項1または2に記載の感光性導電ペースト用ガラスフリット。
  4. ガラスフリットの30℃〜300℃における熱膨張係数が(95〜115)×10−7/℃であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の感光性導電ペースト用ガラスフリット。
  5. ガラスフリットが最大粒子径8μm以下、平均粒子径0.5μm〜3μmであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の感光性導電ペースト用ガラスフリット。
JP2007333842A 2007-12-26 2007-12-26 感光性導電ペースト Expired - Fee Related JP5286777B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007333842A JP5286777B2 (ja) 2007-12-26 2007-12-26 感光性導電ペースト
KR1020107016319A KR101232475B1 (ko) 2007-12-26 2008-12-22 감광성 도전 페이스트용 유리 프릿
CN2008801132161A CN101835721B (zh) 2007-12-26 2008-12-22 感光性导电糊剂用玻璃料
PCT/JP2008/073325 WO2009081907A1 (ja) 2007-12-26 2008-12-22 感光性導電ペースト用ガラスフリット

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007333842A JP5286777B2 (ja) 2007-12-26 2007-12-26 感光性導電ペースト

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009155149A true JP2009155149A (ja) 2009-07-16
JP5286777B2 JP5286777B2 (ja) 2013-09-11

Family

ID=40801208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007333842A Expired - Fee Related JP5286777B2 (ja) 2007-12-26 2007-12-26 感光性導電ペースト

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5286777B2 (ja)
KR (1) KR101232475B1 (ja)
CN (1) CN101835721B (ja)
WO (1) WO2009081907A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019127404A (ja) * 2018-01-23 2019-08-01 Agc株式会社 ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002012442A (ja) * 2000-06-23 2002-01-15 Asahi Glass Co Ltd 低融点ガラス
JP2005141059A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Toray Ind Inc 無機材料ペースト、およびプラズマディスプレイ部材ならびにプラズマディスプレイ
JP2005347258A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Dongjin Semichem Co Ltd PDPアドレス電極用無鉛Agペースト組成物及びPDPアドレス電極
JP2007047610A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
JP2007230804A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Toray Ind Inc 無機材料ペースト、平面ディスプレイ用部材の製造方法および平面ディスプレイ
JP2009031693A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Jsr Corp 無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007039269A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Asahi Glass Co Ltd 電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002012442A (ja) * 2000-06-23 2002-01-15 Asahi Glass Co Ltd 低融点ガラス
JP2005141059A (ja) * 2003-11-07 2005-06-02 Toray Ind Inc 無機材料ペースト、およびプラズマディスプレイ部材ならびにプラズマディスプレイ
JP2005347258A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Dongjin Semichem Co Ltd PDPアドレス電極用無鉛Agペースト組成物及びPDPアドレス電極
JP2007047610A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法
JP2007230804A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Toray Ind Inc 無機材料ペースト、平面ディスプレイ用部材の製造方法および平面ディスプレイ
JP2009031693A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Jsr Corp 無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019127404A (ja) * 2018-01-23 2019-08-01 Agc株式会社 ガラス、ガラスの製造方法、導電ペーストおよび太陽電池

Also Published As

Publication number Publication date
KR101232475B1 (ko) 2013-02-12
CN101835721A (zh) 2010-09-15
KR20100094591A (ko) 2010-08-26
WO2009081907A1 (ja) 2009-07-02
CN101835721B (zh) 2012-10-10
JP5286777B2 (ja) 2013-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4598008B2 (ja) 耐酸性を有する無鉛ガラス組成物およびガラスペースト
JP5018032B2 (ja) 電極被覆用無鉛ガラス
JP2006282467A (ja) ガラス組成物およびガラスペースト組成物
JP4791746B2 (ja) 無鉛硼珪酸塩ガラスフリット及びそのガラスペースト
JP2008030994A (ja) ビスマス系無鉛粉末ガラス
JP2004238247A (ja) ガラスセラミック組成物および厚膜ガラスペースト組成物
JP2007332009A (ja) 無鉛絶縁ガラス組成物および無鉛絶縁ガラスペースト
JP4324965B2 (ja) 表示管用絶縁材料
JP2005194120A (ja) ガラスセラミック粉末組成物及びガラスペースト
JP5286777B2 (ja) 感光性導電ペースト
WO2009157354A1 (ja) 感光性導電ペースト
JP2008050252A (ja) 隔壁付きガラス基板の製造方法
JP2004172250A (ja) 厚膜抵抗体組成物、これを用いた厚膜抵抗体及びその形成方法
JP2008214144A (ja) 誘電体組成物とこの誘電体組成物を用いた誘電体および誘電体ペースト
JP2007308320A (ja) 誘電体組成物、誘電体ペースト組成物、およびそれを用いて得られる誘電体
JP5717042B2 (ja) 絶縁層形成材料
KR100882769B1 (ko) 격벽 형성용 무연 유리, 격벽 형성용 유리 세라믹스 조성물및 플라즈마 디스플레이 패널
JP2006290683A (ja) 誘電体膜、及びその製造方法
JP2009167025A (ja) 絶縁層形成用ガラス組成物および絶縁層形成用材料
JPH09147750A (ja) プラズマディスプレイパネル用電極およびプラズマディスプレイパネル
JP5761545B2 (ja) 絶縁層形成用ガラス組成物および絶縁層形成材料
KR100353873B1 (ko) 기체방전형 표시장치
JP2008169103A (ja) 隔壁形成用無鉛ガラス、隔壁形成用ガラスセラミックス組成物およびプラズマディスプレイパネル
JP2009096654A (ja) 隔壁形成用無鉛ガラス、隔壁形成用ガラスセラミックス組成物およびプラズマディスプレイパネル
JP4961708B2 (ja) 電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100325

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100326

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100921

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121211

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130123

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130507

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130520

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees