JP2009149977A - 表面処理銅箔及びその表面処理方法、並びに積層回路基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】銅箔の少なくとも片面にNi−P−Zn合金からなる表面処理層が施されている表面処理銅箔である。
銅箔の表面処理方法は、未処理銅箔の少なくとも片面に、Ni:0.1〜200g/L、P:0.01〜50g/L、Zn:0.01〜100g/Lを含有する電解浴で、Ni−P−Zn合金からなる表面処理層を形成する。
積層回路基板は、未処理銅箔の少なくとも片面にNi−P−Zn合金からなる表面処理層が設けられた表面処理銅箔の表面処理層の面を樹脂基板と接着してなる積層回路基板である。
【選択図】図1
Description
この高温での接着処理において、銅箔には高温でのポリイミドとの接着強度の向上が課題となっている。この課題を解決する手段として、銅箔表面をZn含有合金で粗化処理する技術が例えば特許文献1に開示されている。
また、本発明の表面処理銅箔は、前記Ni−P−Zn合金のZn含有量が5wt%〜60wt%であり、かつNi含有量が35wt%〜90wt%であり、かつP含有量が0.1wt%〜15wt%である表面処理銅箔である。
また、本発明の積層回路基板は、前記銅箔と前記樹脂基板との接着面の初期のピール強度が0.6kN/m以上であり、かつ熱処理後のピール強度が0.48kN/m以上であり、かつ酸処理後のピール強度が0.6kN/m以上である積層回路基板である。
また、本発明の銅箔の表面処理方法によれば、ポリイミドとの接着強度、耐酸性、エッチング性を満足する銅箔の表面処理方法を提供することができる。
更に本発明の積層回路基板によれば、樹脂基板、特にポリイミドと銅箔との接着強度が強く、回路形成にあたっては耐酸性を有し、エッチング性を満足する積層回路基板を提供することができる。
また、箔厚が12μmより厚い場合は、パソコン、携帯電話やPDAの表示部である液晶ディスプレイを駆動するIC実装基板等薄型・小型化の仕様からは外れるため好ましくないが、これらの用途以外で要求があれば上記厚さに関係なく厚い銅箔を採用することは可能である。
銅箔表面に設ける表面処理層として、Niを含有させるのは表面処理層に銅箔からの銅の拡散を防止するためで、その含有量は35wt%〜90wt%、好ましく60wt%〜80wt%である。含有量が35wt%より低いと耐酸性が悪く、90wt%より高いとエッチング性が悪くなるためである。Niの含有量の好ましい範囲の下限を60wt%とするのは銅箔からの銅の拡散を確実に防止し、かつ耐酸性を向上させ、より信頼性を高め、実用化するためであり、上限を80wt%とするのはエッチングをし易くし、回路形成をより容易にするためである。
また、酸処理後のピール強度は図1(ハ)からZn含有量が40wt%を超えるとピール強度は低下傾向になり、60wt%を超えると極端に低下する。これらの結果からZnの含有量は5wt%〜60wt%、好ましくは10wt%〜40wt%である。
電解処理浴としてNi、P、Znの組成は次の通りである。
Ni:Ni成分として、1.0g/L〜150g/L、好ましくは25g/L〜55g/L含有させる。
P:P成分として、0.01g/L〜20g/L、好ましくは0.2g/L〜1.0g/L含有させる。
Zn:Zn成分として、0.01g/L〜20g/L、好ましくは0.5g/L〜1.0g/L含有させる。
電解浴の温度は30℃〜70℃、好ましくは40℃〜60℃とする。
銅箔(未処理銅箔)には、古河サーキットフォイル(株)のWZ銅箔(Rz:1.0μm)を用いた。
電解浴の調製に用いる薬品としては、Ni金属成分としてNiSO4・6H2Oを、P成分としてNaH2PO2・H2Oを、Zn金属成分としてZnSO4・7H2Oを、その他の成分としてはH3BO3を用いて、表1に示す量を添加して電解浴を調整した。また、電解条件として、浴温度、pH、電流密度、処理時間についても表1に示す。
上記未処理銅箔に上記組成の電解浴とその条件で表面処理を実施した。表面処理した銅箔につき下記の測定を行い、測定結果を表2に示す。
(2)初期ピール強度:表面処理した銅箔をポリイミド樹脂(宇部興産株式会社製;ユーピレックス25VT)と熱プレスにより接着して、接着後ピール強度を測定した。初期ピール強度は0.6kN/m以上を要求されるため、0.6kN/m以上を合格とした。なお、その判定基準は表2に示す。
(4)酸処理後のピール強度:表面処理銅箔をポリイミドと接着後、希塩酸溶液(水:塩酸=1:1)に常温で1時間浸漬し、その後のピール強度を測定した。初期ピール強度は0.6kN/m以上を要求されるため、0.6kN/m以上を合格とした。なお、その判定基準は表2に示す。
実施例1と同じ未処理銅箔を用いて、表1の実施例2〜7に示す条件で表面処理を実施し、作製した表面処理銅箔について、実施例1と同様の測定を行った。測定結果を実施例2〜7として表2に示す。
実施例1と同じ未処理銅箔を用いて、表1の比較例1〜6に示す条件で表面処理を実施し、作製した表面処理銅箔について、実施例1と同様の測定を行った。測定結果を比較例1〜6として表2に示す。
酸処理後のピール強度は、Ni含有量が少ないと低下するが、35wt%以上であれば実用性には影響がなく、60wt%以上であれば良好となる。また、エッチング性は、Ni含有量が高いと低下するが、90wt%以下であれば実用性には影響がなく、80wt%以下であれば良好となる。以上の結果から、Ni含有量の適正値は、35wt%〜90wt%、好ましくは60wt%〜80wt%である。
エッチング性は、P含有量が少ないと低下するが、0.1wt%以上であれば実用性には影響がなく、3wt%以上であれば良好となる。また、初期のピール強度(密着性)は、P含有量が高いと低下するが、15wt%以下であれば実用性には影響がなく、10wt%以下であれば良好となる。以上の結果から、P含有量の適正値は、0.1wt%〜15wt%、好ましくは3wt%〜10wt%である。
熱処理後のピール強度は、Zn含有量が少ないと低下するが、5wt%以上であれば実用性には影響がなく、10wt%以上であれば良好となる。また、酸処理後のピール強度は、Zn含有量が高いと低下するが、60wt%以下であれば実用性には影響がなく、40wt%以下であれば良好となる。以上の結果から、Zn含有量の適正値は、5wt%〜60wt%、好ましくは10wt%〜40wt%である。
また、本発明の銅箔の表面処理方法によれば、ポリイミドとの接着強度、耐酸性、エッチング性を工業的に満足する銅箔の表面処理方法を提供することができる。
更に本発明の積層回路基板によれば、樹脂基板、特にポリイミドと銅箔との接着強度が強く、回路形成にあたっては耐酸性を有し、エッチング性を満足する積層回路基板を提供することができる、優れた効果を有するものである。
Claims (6)
- 未処理銅箔の少なくとも片面にNi−P−Zn合金からなる表面処理層が施されている表面処理銅箔であって、前記Ni−P−Zn合金のZn含有量が5wt%〜60wt%である表面処理銅箔。
- 前記Ni−P−Zn合金のZn含有量が5wt%〜60wt%であり、かつNi含有量が35wt%〜90wt%である請求項1に記載の表面処理銅箔。
- 前記Ni−P−Zn合金のZn含有量が5wt%〜60wt%であり、かつNi含有量が35wt%〜90wt%であり、かつP含有量が0.1wt%〜15wt%である請求項1に記載の表面処理銅箔。
- 未処理銅箔の少なくとも片面に、Ni:1.0〜150g/L、P:0.01〜20g/L、Zn:0.01〜20g/Lを含有する電解浴で、Ni−P−Zn合金からなる表面処理層を形成する銅箔の表面処理方法。
- 未処理銅箔の少なくとも片面にZn含有量が5wt%〜60wt%のNi−P−Zn合金からなる表面処理層が設けられ、該表面処理層の面を樹脂基板と接着してなる積層回路基板。
- 前記銅箔と前記樹脂基板との接着面の初期のピール強度が0.6kN/m以上であり、かつ熱処理後のピール強度が0.48kN/m以上であり、かつ酸処理後のピール強度が0.6kN/m以上である請求項5に記載の積層回路基板。
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