JP2009143805A - 太陽光線防護用及び／又は断熱用の積層体を備えたグレージング - Google Patents

Abstract

【課題】熱処理した場合に著しい光学的変化を引き起こすことがない光透過レベル調整積層体を有するグレージングを提供する。
【解決手段】赤外線及び／又は太陽光照射領域において反射特性のｎ個の機能層と、１又は複数の誘電体層で構成されるｎ＋１個のコーティングとの交互の層からなる積層体、従って各機能層が２つのコーティングの間に配置されている積層体を備えた少なくとも１つの透明な基材を含むグレージングとする。ここでは、可視光領域で吸収性の少なくとも１つの層が、上記コーティングのうちの少なくとも１つにおいて２つの誘電体層の間に挿入される。
【選択図】なし

Description

本発明は、太陽輻射及び／又は長波長赤外線に作用することが可能な金属性の挙動を有する少なくとも１つの層を含む積層体で被覆された透明な基材、具体的にはガラスなどの剛性無機材料（又は剛性若しくは可撓性ポリマー基材などの有機材料）から作られた基材に関する。

本発明は、より具体的にはそのような基材を用いて断熱及び／又は太陽光線防護用グレージングを製造することに関する。このグレージングは特に、その範囲が広がり続ける客室のガラス表面によって引き起こされる空調の負荷の低減及び／又は過度の過熱の低減の目的で、建物と乗り物の両方に装備することを意図している。

このような特性を基材に与えるための周知のタイプの多層積層体は、金属酸化物タイプの誘電材料の２つのコーティング層の間に配置されている銀層などの少なくとも１つの金属層からなる。この積層体は一般に、随意に磁場によって支援されるスパッタリングなどの真空技術を用いて行われる一連の堆積ステップによって得られる。また、核形成用の連結層として作用する直下の層と、その銀層の上に酸化物層を酸素の存在下でスパッタリングによって堆積させる場合に銀の劣化を防ぐ保護又は「犠牲」層として作用するすぐ上側の層の、２つのきわめて薄い金属層を、銀層の両側に設けることもできる。

このような１又は２つの層の銀のベース層を有するこのタイプの積層体は、特許文献１〜３から知ることができる。

また、窒化ケイ素タイプの酸素バリヤー層と銀層安定化用の層とを使用することにより、実質的に光学的な変化なしに曲げ又は強化の熱処理を受けることが可能なように設計された、２つの銀層からなる積層体を特許文献４から知ることができる。

最後に、太陽係数を少なくとも３２％まで低下させるグレージングを得ることを可能にする、厚さが非常に異なる２つの銀層からなる積層体を、特許文献５から知ることができる（太陽係数ＳＦは、入射する太陽エネルギーに対する当該グレージングを通って室内に入る全エネルギーの比である）。

一般に、しかし特に建物の二重ガラスの分野では、積層体を毎度すっかり変更することを必要とせずに、所定の範囲内でグレージングの光透過レベルを調節できることが有利である。

この目的を満たす解決策はすでに提案されており、特許文献６では、ガラスと第一誘電体層との間に酸化鉄に基づく吸収性層を挿入することを提案している。特許文献７には、銀層と接触させてその上に窒化チタンタイプの吸収性層を挿入することが提案されている。しかしながらこれらの解決策は、積層体がアニーリング、曲げ、又は強化タイプの熱処理を受ける場合に、吸収性層が光学的に著しく変化し及び／又はその多層積層体全体が光学的に変化するという欠点がある。

これは、吸収性層がガラス又は銀と接触している場合、熱の影響によって、多少は制御可能なやり方で、酸化され、劣化し、又は隣接層を劣化させる傾向があるためである。従って吸収性層が銀層と直接接触している場合、それは酸化によって銀層を不安定にする傾向がある。また吸収性層がガラスと接触している場合は、吸収性層はガラスから来るアルカリ金属イオンの拡散によって変質されることになる。

ヨーロッパ特許出願公開第０，６１１，２１３号 ヨーロッパ特許出願公開第０，６７８，４８４号 ヨーロッパ特許出願公開第０，６３８，５２８号 ヨーロッパ特許出願公開第０，８４７，９６５号 ヨーロッパ特許出願公開第０，８４４，２１９号 フランス特許第２，７５１，６６６号 フランス特許第２，７０８，２６２号

従って本発明の目的は、上記の欠点なく、すなわち熱処理した場合に積層体の著しい光学的変化を引き起こすことなく、前述の積層体を備えるグレージングの光透過レベルを調節することである。

また副次的には本発明の目的は、外部光の反射レベルを著しく増加させることなく、好ましくはこの光の反射率を２０％未満の値に制限しつつ、グレージングの光透過レベル及び／又は選択性を調整することである。

また副次的には本発明の目的は、比較的簡単な方法で、かつ工業的規模で実施するために順応性のあるようにして、光透過レベルの制御を達成することである。

本発明の主題は第一に、
赤外線及び／又は太陽光照射領域において反射特性のｎ個の反射性層と、
１又は複数の誘電体層で構成されるｎ＋１個のコーティング層と
の交互の層からなる積層体、従って各反射性層が２つのコーティング層の間に配置されている積層体を備えた少なくとも１つの透明な基材を含むグレージングである。さらに可視光領域で吸収性の少なくとも１つの吸収性層が、上記コーティング層のうちの少なくとも１つにおいて２つの誘電体層の間に挿入されている。この配置では吸収性層はガラスと直接接触せず（それによって熱の影響下での酸素及びアルカリ金属の拡散の問題を限定する）、また銀とも直接接触しない（それによって銀と接触している吸収性層の熱の影響下での酸化によって引き起こされる銀層の劣化の問題を限定する）。

第一の変形態様によればこの積層体は、２つのコーティング層の間に配置された単一の反射性層を含む（ｎ＝１の場合）。

第二の変形態様によればこの積層体は、３個のコーティング層と一つおきに配列した２つの反射性層を含む（ｎ＝２の場合）。

有利には反射性層は、銀又は銀を含有する合金に基づく。

吸収性層（又は複数の吸収性層、本発明は単一の吸収性層の挿入には限定されない）は、さまざまな材料から作られるように選択することができ、それはＴｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、又はＮｉＣｒタイプの金属又は合金であることができる。またこれは、酸化クロム、酸化鉄、又は不足当量のチタン若しくは亜鉛の酸化物であることもできる。最後にこれは、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ジルコニウム、窒化クロム、又は窒化ＮｉＣｒなどの窒化金属であることもできる。

好ましくは本発明による可視光領域で吸収性の吸収性層の厚さは小さな値に限定され、その厚さは有利には７ｎｍ又はそれ未満、更には５ｎｍ未満又は３ｎｍでさえある。一般には１〜３ｎｍの厚さが選択され、前述の吸収性層の第一の特徴は、ガラス又は銀層との直接の接触がないことである。その第二の特徴は非常に薄いその厚さにあり、それは実質的に透過を低下させるのではなく、透過を数％までに正確に調節するのに役立つ。

本発明の好ましい実施形態によれば可視光領域で吸収性の吸収性層は、少なくとも一方が窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムに基づく２つの誘電体層の間にある。

第一の変形態様において、吸収性層は、これら窒化物の２つの誘電体層の間にある。これは実際に、吸収性層を酸化又は劣化させる危険に追いやる化学種（空気又はガラスからあるいは隣接する酸化物層からの酸素、熱の影響下で銀層から拡散する化学種など）との相互作用から吸収性層を隔離するために、最もよく吸収性層を「封じ込める」ための最適な配置である。これは、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムが高温においてさえ化学的にきわめて不活性であることが知られているためである。それらは、光学的機能（約２の屈折率）及び銀層保護機能をもつ誘電体の通常の役割を果たすだけでなく、さらに可視光領域で吸収性の吸収性層に対してスクリーン層として作用する。

この配置においては、アニーリング、曲げ又は強化タイプの熱処理は、吸収性層に影響しない（又はほとんど影響しない）はずであり、窒化物層は酸素に対するバリヤーを形成し、吸収性層が酸化されるのを防止する。従って積層体全体の光透過の変動は、吸収性層の存在しない積層体の場合に観察されるものとほぼ同様（例えば大きくても３％の変化）のはずである。

第二の変形態様において、可視光領域で吸収性の吸収性層は、コーティング層中において、１又は複数種の金属酸化物（又は酸化ケイ素）に基づく層と、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素の層との間に配置されている。好ましい配置は、酸化物層が吸収性層の直ぐ下にあり、かつ窒化物層が吸収性層の上にある配置からなる。この変形態様によれば、吸収性層と酸化物層の間の直接の接触が存在する。その結果、吸収性層は熱処理のとき酸化を受けるが、一方でその酸化は限定され（特に層が雰囲気の酸素からそれを隔離する窒化物によって囲まれている場合）、また他方で吸収性層が酸素を「捕捉」することによって積層体のその他の層を酸化から保護するという意味で、この酸化は有益であることが分かる。この場合一般に、第一の変形態様の場合よりも若干大きい積層体の光透過の変動が観察され、例えば４〜５％までの範囲で可能性がある。

本発明による積層体のコーティング層のうちの少なくとも１つは、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化ニオブ及び酸化ジルコニウムのうちの少なくとも１つから選択される酸化物の少なくとも１つの層を含む。前出の欧州特許出願公開第０，８４７，９６５号中で説明されているように、コーティング層は金属酸化物層と、窒化ケイ素又は窒化アルミニウム層との両方を含むことが有益である。

従って少なくとも１つの反射性層の直ぐ下には、酸化亜鉛に基づく層を有することが有利であり、それは銀系反射性層の接着及び結晶化を容易にすることによって、その品質及びその高温安定性を向上させる傾向がある。

また、接着を向上させるために、反射性層又は反射性層の少なくとも１つの層が、酸化亜鉛に基づく層の直ぐ下にあることが有利である。

過度の光学的変化なしに、確実に積層体がアニーリング、強化又は曲げタイプの熱処理を受けることができるようにするために、各コーティング層が、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムから作られた少なくとも１つの層を含むことが好ましい。

随意に金属酸化物又は不足当量の金属酸化物（随意に窒化型）の薄層を、各反射性層と、その上に配置されたコーティング層及び／又はその下に配置されたコーティング層との間に挿入することもできる。これはチタン、ニオブ、又はニッケル−クローム合金の層からなることができ、これは随意に、積層体を堆積している間に部分的に酸化される（その次の層が酸素の存在下で反応性スパッタリングによって堆積される場合）。通常それらは、連結層（層が下にある場合）、あるいは犠牲又はブロック層（層が上にある場合）と呼ばれる。

好ましい変形態様によれば、積層体は３個のコーティング層を備えた２つの銀系反射性層を含み、また可視光領域で吸収性の吸収性層が「中間」コーティング層、すなわち２つの反射性層の間に配置されたコーティング層中に挿入される。この配置の場合、吸収性層は最も安定した／隔離された状態であるように見え、グレージングの外部反射の様相が最もよいことが分かった。本発明による積層体の一例は、透明な基材／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＴｉＮ、又はＮｂＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４であり、随意に銀層の少なくとも一方の面に、チタンタイプの金属（随意に部分的に酸化されている）の薄層を備える。

本発明は、これらの積層体を備えた任意のグレージング、すなわち積層グレージング（積層体は１個の硬質基材上、又は熱可塑性シートによって２つの硬質基材に接合されるポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）タイプの可撓性基材上に堆積される）；いわゆる非対称積層グレージング；及び好ましくはグレージングの第二面又は第三面（通常、グレージングの面は室内に取り付けられたときの最も外側の面から最も内側の面に向かって数える）に積層体を有する二重ガラスタイプの多重グレージングに関する。本発明は、より特に二重ガラスに関し、
（１）光透過率Ｔ_Ｌが高くても７５％、特に高くても７０％又は６５％、特に最低で４０％、又は５５〜６５％の間、又は４５〜５５％の間、特に５０〜６０％であり、及び／又は
（２）外部光の反射率Ｒ_Ｌが２０％又はそれ未満、特に最大で１７％であり、及び／又は
（３）外部光の反射のａ^＊及びｂ^＊の値が、強化タイプの熱処理を受けた後でさえ、より特に２つの銀層からなる積層体の場合に、１又はそれ未満、好ましくは負の値である。

従って本発明のキーポイントは、可視光領域で吸収性の吸収性層、特に通常の積層体に挿入された可視光領域で吸収性の吸収性層が、熱処理したとき光学的に変化することなく及び／又は基材の反射の様相を乱すことなく、その光透過の調節を可能にすることである。

有利には本発明による吸収性層は、固有吸光率が最低で３％、特に４〜１５％又は６〜１２％である（本発明が上記吸収性層を数層用いる場合は、そのそれぞれ又はすべての吸収性層について）。

本発明を下記の実施例を使ってより詳細に記述することにする。

すべての実施例において積層体は、厚さ６ｍｍの透明な二酸化ケイ素−ナトリウム−石灰ガラスから作られた基材上に堆積させる。次いでこの基材を同一のガラスの第二の基材を有する二重グレージングとして組み付け、それによって積層体がその第２面上にあり、２つのガラスパネルの間の空洞がアルゴンで充填され、かつ厚さ１２ｍｍになるようにする。このようなグレージングは、本質的に熱の遮断及び／又は太陽光制御用のグレージングとして建物に用いることを意図している。

すべての実施例において、第一の構成では、強化処理を受けていない層（非強化層）を設けたガラスを有する二重グレージングの形態にし、第二の構成では、ガラスに多層積層体を与えた後で、この分野の標準条件下で強化作用（ガラスを６４０℃で数分間加熱することを含む）を行った。

積層体のすべての層は、磁場により支援されたスパッタリングによって堆積させる（酸化物層は、金属ターゲット又は随意に不足当量のセラミックターゲットを用いて酸素の存在下で反応性スパッタリングを行うことにより、また窒化物層は、窒素の存在下で反応性スパッタリングを行うことによる）。

比較例１
この多層積層体は下記のとおりである（下記の表はナノメートル単位の層の厚さを示す）。

これは可視光領域で吸収性の吸収性層を２つの誘電体層の間に持たないので、対比用である。銀層上の２つのチタン層はきわめて薄く、ＺｎＯから作られる次の層の堆積の間に酸化される（少なくとも部分的に）ことになる（下記の実施例のように）。

実施例２及び３
これらの実施例は比較例１の積層体を、２つの銀層の間にある誘電性コーティング層のＳｉ_３Ｎ_４層の「中間に」窒化チタン層を加えて繰り返した。これは、吸収性層がそれを取り囲む２つの層によって酸化から保護された本発明の第一の変形態様である。

下記の表は各層のｎｍ単位の厚さを示す。

下記の表は、比較例と実施例２及び３のそれぞれに関して、次のデータを示している：
（ａ）光源Ｄ６５下における透過率Ｔ_Ｌ、単位％
（ｂ）透過の主波長λ_Ｄ、単位ｎｍ
（ｃ）外部光の反射値Ｒ_{Ｌ，ｅｘｔ}、単位％
（ｄ）（Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊）比色分析法による光反射のａ^＊及びｂ^＊の値、及び
（ｅ）ＤＩＮ標準による太陽係数ＳＦ

これらの値は、強化処理をされていない多層コーティング層で被覆されたガラスを有する二重ガラスの場合（「非強化」）及び強化処理をされた多層コーティング層で被覆されたガラスを有する複層ガラスの場合（「強化」）について示される。

このデータから下記の結論を導くことができる。

（１）本発明による追加のＴｉＮ層により、その厚さを調整することによって、２０％より著しく低い適度な外部反射レベルを維持しながら、制御された様式でＴ_Ｌを２〜７又は８％に下げることが可能である（同様のＴ_Ｌの低下は、銀層を厚くすることによっても得ることができるが、その場合は外部光の反射を著しく増加させることになる）。

（２）この調整は、２ｎｍ未満のＴｉＮのきわめて薄い層を用いて、従って積層体を生成するためのサイクルタイムを著しく延ばすことなく、またコスト又は複雑さを著しく増大させることなく行うことができる。

（３）この吸収性層の追加はまた、直接の結果として、ＳＦを少なくとも１〜３ポイント低下させる。

（４）非強化の場合でさえ本発明による吸収性層は、Ｔ_Ｌを少なくとも１〜４％下げる（比較例のＴ_Ｌレベルに対して）ことによって外部反射に有益な影響を及ぼし、また負のａ^＊及びｂ^＊の値（すなわち現時点で最も望ましい色合いである青−緑の反射の残留色）を保つことを可能にする。

（５）これらのすべての利点は積層体が強化を受ける場合でさえ保存され、もちろんＴ_Ｌ又はＲ_Ｌのわずかな変動はあるが、光反射は２０％をかなり下まわったままである（ほぼ４％増加し、２０％の閾値を超える比較例とは違って）。これは、２つの窒化物の間に「封入」されるためにＴｉＮ層が安定であり、光学的に変化しない（又は多少変化するのみ）ということを示している。

また、ＴｉＮ層を取り囲む２つの窒化物層が同じ厚さを持たず、基材から遠い層が場合によっては比較的厚い、例えば他の層よりも１／３（約２０、３０、又は４０％）厚い（又はその逆）ことが好ましい可能性がある、ということに注目されたい。

さらにＴｉＮ層は、ＮｂＮ層、あるいはＴｉ、Ｎｂ又はＺｒタイプの金属層で置換できることに注目されたい。

最後に２つの銀層の厚さの非対称性は、詳細にはこれが前出の欧州特許出願公開第０，８４４，２１９号の教示に従うことに留意されたい。

実施例４、５及び５ａ
これらの実施例は実施例３と同様であり、吸収性層としてＮｂＮ層（実施例４）及びＴｉＮ層（実施例５）を有する。この場合もやはり、本発明の第一の変形態様に従う。

下記の表は積層体の各層の厚さｎｍを示す。

本発明による実施例２〜５ａは、強化の後で、特に腐食ピット又は小さな濡れ欠陥の発生のない、すぐれた光学的特性を有することに注目されたい。

下記の表はこれら３つの実施例について、同じ約束ごとによる先の実施例１〜３と同様の光学的データ、及びそれに加えて、
（ａ）％で表した透過純度Ｐ_Ｔ、及び
（ｂ）（Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊）比色分析法において式 ［（ａ^＊ _ｆ−ａ^＊ _ｉ）^２＋（ ｂ^＊ _ｆ−ｂ^＊ _ｉ ） ^２＋（ Ｌ^＊ _ｆ−Ｌ^＊ _ｉ） ^２］^１／２（上式でａ^＊ _ｉ、ｂ^＊ _ｉ及び Ｌ^＊ _ｉは強化前の値であり、ａ^＊ _ｆ、ｂ^＊ _ｆ及びＬ^＊ _ｆは強化後の値である）により計算される無単位の、反射における△Ｅの値、
を示している。

強化後の光透過率の増加はきわめて限られており、ＮｂＮ層では約１．５％、ＴｉＮ層では厚さにより約２又は１．２％である。ここでもやはり、強化後の外部反射の色はほとんど変化せず、ａ^＊及びｂ^＊の値は負のままで、ａ^＊値の低下は約−２、またｂ^＊値の変動は±１である。実施例５ａはこの点で特にすぐれており、ａ^＊値は＋０．３の変化のみであり、またｂ^＊値は−０．９の変化のみである。

実施例６
この実施例は本発明の第二の変形態様に従っており、吸収性層が、酸化物層と窒化物層の間で上部誘電体コーティング層内（第二銀層の上）にある。

下記の表は積層体の各層の厚さ（ｎｍ）を示す。

ガラスはこれまでと同様に二重ガラスとして強化せずに組み付け、その後で強化した。強化後の光学的変化は下記のとおりである。

（１）△Ｔ_Ｌ＝Ｔ_Ｌ（強化後）−Ｔ_Ｌ（強化前）＝＋２．４％
（２）外部反射の△ｂ^＊＝ｂ^＊（強化後）−ｂ^＊（強化前）＝２
（３）Ｒ_{Ｌ，ｅｘｔ}（強化後）＝１６．５％
（４）Ｔ_Ｌ／ＳＦ比＝約６２〜６３／３３

堆積パラメータを完全に調整しない場合でさえ腐食ピットはなく、またディウェッティングきずはきわめて小さく、またそれほど多くはない。

吸収性層が酸化物層と窒化物層の間にあるいくつかの配置を、強化後の積層体の光学的特性を評価することによって試験した。これらは下記に詳述するように実施例６と類似の変形態様である（吸収性層を除くすべての層の厚さは、実施例６によるものと同じである）。

実施例６．１
基材／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ（１〜３ｎｍ）／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４
実施例６．２
基材／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＴｉＮ（１〜３ｎｍ）／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４
実施例６．３
基材／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ（１〜３ｎｍ）／Ｓｉ_３Ｎ_４
実施例６．４
基材／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ（１〜２ｎｍ）／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ（１〜２ｎｍ）／Ｓｉ_３Ｎ_４
従ってこの実施例は２つの吸収性層を用いる。

強化後のこれらガラスの光学的特性を、大きさが２μｍ未満のきずの密度によって、また大きさが２μｍ以上のきずの密度によって評価した。最も有利な構成は、実施例６．３のものと実施例６．４のものであり、

（１）実施例６．３のケースでは、２ｎｍ及び３ｎｍの吸収性層の場合、２μ以上又は２μ未満のきずは全く存在しない。

（２）実施例６．４のケースでは、２つの各吸収性層が厚さ１ｎｍの場合はきずはほとんど存在せず、また基材から数えて第一の層が厚さ１ｎｍであり、かつ第二の層が厚さ２ｎｍの場合はきずは全く存在しない（実施例６．３のケースではすべてのきずが２ｎｍの厚さで回避され、実施例６．４のケースでは最低２＋１ｎｍの厚さで回避されるので、実施例６．３による構成が実施例６．４よりもすぐれていると考えることができる）。

（３）実施例６．２のケースでは、３ｎｍの吸収性層で最適な構成が観測される（きずはほとんどない）。

（４）実施例６．１のケースでもまた、３ｎｍの吸収性層で最適な構成が観測される（２μｍ未満のきずは全く存在せず、２μｍ以上のきずもほとんど存在しない）。

（５）対比として、吸収性層が省かれている以外は実施例６．１を繰り返した場合、強化後に高密度の２μｍ未満のきず及び２μｍ以上のきずの両方、すなわち市販品にとって許容できない密度のきずが存在する。

従って本発明による積層体の強化後のすぐれた光学的特性を保証するためには、２つのパラメータ、積層体中における吸収性層の位置（好ましくは２つの銀層を有する積層体の最も外側の誘電体「内」又は中間の誘電体「内」）、及びその厚さ（配置により変わる可能性があるが、好ましくは少なくとも１．５又は２ｎｍ、また吸収性層が中間の誘電体「内」にある場合は３ｎｍ近辺）を考慮に入れるべきであることが分かる。

また、吸収性層の存在が、その積層体全体の熱処理挙動を改善することが理解される。

比較例７
この例は対比のために示され、このケースに関するかぎり吸収性層はガラスと直接接触している。

この場合もまたガラスは強化せずに二重ガラスとして組み付け、その後で強化した。△Ｔ_Ｌ＝＋４％、外部反射の△ｂ^＊＝−２〜−３、光学的特性は非常に劣り、大規模な腐食ピットがある。

この実施例は、ガラスと直接接触させて層を配置することが、Ｔ_Ｌの著しい増加とともに強化後のガラスの光学的特性に破滅的な影響を及ぼすことを実証する。

結論として、窒化物タイプ及び／又は酸化物タイプの誘電体の間に可視光領域（及びそれを超える領域）で吸収性の吸収性層を挿入することにより、特に外部反射において、また特に層が熱処理を受ける場合に、光学上の問題なしに、光透過率のきめ細かい制御及びＳＦの低下が可能となる。すなわちこれは、強化を行う場合に積層体の全体的な光学的変化がわずかであること（Ｔ_Ｌで＋／−３％未満、又は＋／−２％未満でさえある）、外部反射の適度なレベル及び外部反射における満足しうる測色応答を保つこと、並びに強化後の満足しうる光学的特性を可能にする。

本発明の積層体を備えた基材からなるグレージングにはまた、１又は複数の他の機能を付け加えることができる。例えば、光触媒性ＴｉＯ_２に基づく汚れ防止コーティング層、フルオロポリマーに基づく疎水性コーティング層、ＳｉＯ_２又はＳｉＯＣに基づく親水性コーティング層、あるいは１又は複数層の反射防止コーティング層を付け加えることができる。これらのコーティング層は、好ましくはグレージングの外面の少なくとも１面に（積層グレージングの場合は内部の熱可塑性シートの方に向いた面と反対の外側の方に向いた面に、また断熱用グレージングの場合は空気が満たされた空洞あるいはガス又は真空の空洞の方に向いた面と反対の外側の方に向いた面に）配置されている。

本発明による積層体はまた、適切な電源及び結線を備えた加熱用積層体であることもできる。
本明細書では具体的な態様によって本発明を説明してきたが、本発明は下記の態様をも包含するものである：
（１）赤外線及び／又は太陽光照射領域で反射性のｎ個の反射性層と、１又は複数の誘電体層で構成されるｎ＋１個のコーティング層との交互の層からなる積層体、従って各反射性層が２つのコーティング層の間に配置されている積層体を備えた少なくとも１つの透明な基材を含むグレージングであって、可視光領域で吸収性の少なくとも１つの吸収性層が、前記コーティング層のうちの少なくとも１つにおいて２つの誘電体層の間に挿入されていることを特徴とする、グレージング。
（２）前記積層体が２つのコーティング層の間に配置された１つの反射性層を含むことを特徴とする、前記（１）項に記載のグレージング。
（３）前記積層体が、３個のコーティング層に対して交互に配置された２つの反射性層を含むことを特徴とする、前記（１）項に記載のグレージング。
（４）前記反射性層が、銀又は銀を含有する合金から作られていることを特徴とする、前記（１）〜（３）項のいずれかに記載のグレージング。
（５）可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、又はＮｉＣｒなどの金属又は合金に基づくように、酸化クロム、酸化鉄、又は不足当量の酸化チタン若しくは酸化亜鉛などの金属酸化物に基づくように、あるいは窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ジルコニウム、窒化クロム、又は窒化ＮｉＣｒなどの金属窒化物に基づくように選択されていることを特徴とする、前記（１）〜（４）項のいずれかに記載のグレージング。
（６）可視光領域で吸収性の１又は複数の前記吸収性層の厚さが、７ｎｍ又はそれ未満、特に５ｎｍ若しくはそれ未満、又は３ｎｍ若しくはそれ未満、好ましくは１〜２ｎｍであることを特徴とする、前記（１）〜（５）項のいずれかに記載のグレージング。
（７）可視光領域で吸収性の前記吸収性層を挿入された２つの層のうちの少なくとも一方の層が、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく誘電体から作られていることを特徴とする、前記（１）〜（６）項のいずれかに記載のグレージング。
（８）可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく２つの層の間に挿入されていることを特徴とする、前記（７）項に記載のグレージング。
（９）可視光領域で吸収性の前記吸収性層を、金属酸化物の層と、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく層との間に堆積させていることを特徴とする、前記（７）項に記載のグレージング。
（１０）前記コーティング層のうちの少なくとも１つが、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、又はそれらの少なくとも２種類の混合物から選択される酸化物層を含むことを特徴とする、前記（１）〜（９）項のいずれかに記載のグレージング。
（１１）１又は複数の前記反射性層が、酸化亜鉛に基づく最後の層を有するコーティング層上にあることを特徴とする、前記（１）〜（１０）項のいずれかに記載のグレージング。
（１２）１又は複数の前記反射性層が、酸化亜鉛に基づく最初の層を有するコーティング層の下にあることを特徴とする、前記（１）〜（１１）項のいずれかに記載のグレージング。
（１３）前記コーティング層のそれぞれが、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムに基づく少なくとも１つの層を含むことを特徴とする、前記（１）〜（１２）項のいずれかに記載のグレージング。
（１４）金属又は金属亜酸化物の薄層、特にチタン、ニオブ、又はニッケル−クロムに基づく犠牲層、好ましくは厚さ２ｎｍ未満の薄層が、各反射性層とそれを取り囲む前記コーティング層のうちの少なくとも一方との間に挿入されていることを特徴とする、前記（１）〜（１３）項のいずれかに記載のグレージング。
（１５）前記積層体が、３個のコーティング層の間に２つの銀系反射性層を含み、可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、２つの前記反射性層の間に配置されている「中間」コーティング層に挿入されている及び／又は２番目の前記反射性層の上方に配置されている「上部」コーティング層に挿入されている、前記（１）〜（１４）項のいずれかに記載のグレージング。
（１６）前記積層体が、
Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＴｉＮ又はＮｂＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４、
Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＴｉＮ又はＮｂＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４、又は
Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４、
であり、且つ随意に、各銀層の少なくとも一方の面上に、部分的に又は完全に酸化された金属の薄層を有することを特徴とする、前記（１）〜（１５）項のいずれかに記載のグレージング。
（１７）前記グレージングが、積層グレージング、非対称グレージング、又は２重グレージングタイプの多重グレージングの形態であることを特徴とする、前記（１）〜（１６）項のいずれかに記載のグレージング。
（１８）１又は複数の前記吸収性層の固有吸光率が、少なくとも３％、特に４〜１５％又は６〜１２％であることを特徴とする、前記（１）〜（１７）項のいずれかに記載のグレージング。
（１９）前記積層体が２つの銀系反射性層を含み、光透過率Ｔ_Ｌが最大で６５％、特に４０〜６５％であり、外部光反射率Ｒ_Ｌが２０％又はそれ未満、特に最大で１７％であり、且つ外部光反射のａ^＊及びｂ^＊の値が１又はそれ未満、好ましくは負の値であることを特徴とする、前記（１）〜（１８）項のいずれかに記載のグレージング。
（２０）可視光領域で吸収性の前記吸収性層及び／又は多層積層体全体が、アニーリング、曲げ、又は強化タイプの熱処理を行った場合に、光学的に変化しないか、又はほとんど変化しないことを特徴とする、前記（１）〜（１９）項のいずれかに記載のグレージング。
（２１）異なる機能の少なくとも１つの別のコーティング層、特に防汚性コーティング層、疎水性コーティング層、親水性コーティング層、又は反射防止コーティング層を更に備えていることを特徴とする、前記（１）〜（２０）項のいずれかに記載のグレージング。

Claims (25)

1. 積層体を備えた少なくとも１つの透明な基材を含み；且つ前記積層体が、下記の（ａ）及び（ｂ）の交互の層からなり、それによって各反射性層が２つのコーティング層の間に配置されている、グレージングであって：
   （ａ）赤外線及び／又は太陽光照射領域で反射性のｎ個の反射性層と、
   （ｂ）１又は複数の誘電体層で構成されるｎ＋１個のコーティング層と
   ｎ＋１個のコーティング層のうちの少なくとも１つが、複数層の誘電体層で構成されており、且つ可視光領域で吸収性の少なくとも１つの吸収性層が、複数層の誘電体層で構成されている前記コーティング層のうちの少なくとも１つにおいて、２つの誘電体層の間に挿入されていることを特徴とする、グレージング。
2. 前記積層体が、２つのコーティング層の間に配置された１つの反射性層を含むことを特徴とする、請求項１に記載のグレージング。
3. 前記積層体が、３つのコーティング層に対して交互に配置された２つの反射性層を含むことを特徴とする、請求項１に記載のグレージング。
4. 前記反射性層が、銀又は銀を含有する合金から作られていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のグレージング。
5. 可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、金属又は合金に基づく層、金属酸化物に基づく層、及び金属窒化物に基づく層からなる群より選択されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のグレージング。
6. 可視光領域で吸収性の前記吸収性層に関して、
   前記金属又は合金が、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、又はＮｉＣｒであり、
   前記金属酸化物が、酸化クロム、酸化鉄、又は酸素が当量未満の酸化チタン若しくは酸化亜鉛であり、且つ
   前記金属窒化物が、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ジルコニウム、窒化クロム、又は窒化ＮｉＣｒである、
   ことを特徴とする、請求項５に記載のグレージング。
7. 可視光領域で吸収性の１又は複数の前記吸収性層の厚さが、７ｎｍ又はそれ未満であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のグレージング。
8. 可視光領域で吸収性の前記吸収性層を挿入された２つの誘電体層のうちの少なくとも一方の層が、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく誘電体から作られていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のグレージング。
9. 可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく２つの誘電体層の間に挿入されていることを特徴とする、請求項８に記載のグレージング。
10. 可視光領域で吸収性の前記吸収性層を、金属酸化物の誘電体層と、窒化アルミニウム及び／又は窒化ケイ素に基づく誘電体層との間に堆積させていることを特徴とする、請求項８に記載のグレージング。
11. 前記コーティング層のうちの少なくとも１つが、前記誘電体層として、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素及び窒化アルミニウム、並びにそれらの少なくとも２種類の混合物から選択される層を含むことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載のグレージング。
12. １又は複数の前記反射性層が、酸化亜鉛に基づく最後の層を有するコーティング層上にあることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載のグレージング。
13. １又は複数の前記反射性層が、酸化亜鉛に基づく最初の層を有するコーティング層の下にあることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載のグレージング。
14. 前記コーティング層のそれぞれが、窒化ケイ素及び／又は窒化アルミニウムに基づく少なくとも１つの誘電体層を含むことを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載のグレージング。
15. 金属又は金属亜酸化物の保護層が、各反射性層とそれを取り囲む前記コーティング層のうちの少なくとも一方との間に挿入されていることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載のグレージング。
16. 前記金属又は金属亜酸化物の前記保護層が、チタン、ニオブ、又はニッケル−クロムに基づく厚さ２ｎｍ未満の層であることを特徴とする、請求項１５に記載のグレージング。
17. 前記積層体が、３つのコーティング層の間に２つの銀系反射性層を含み、可視光領域で吸収性の前記吸収性層が、２つの前記反射性層の間に配置されている「中間」コーティング層に挿入されており、且つ／又は２番目の前記反射性層の上方に配置されている「上部」コーティング層に挿入されている、請求項１〜１６のいずれかに記載のグレージング。
18. 前記積層体が、
    Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＴｉＮ又はＮｂＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４、
    Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯ／ＴｉＮ又はＮｂＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４、又は
    Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／ＴｉＮ／Ｓｉ_３Ｎ_４、
    である、請求項１〜１７のいずれかに記載のグレージング。
19. 前記各銀層の少なくとも一方の面上に、部分的に又は完全に酸化された金属の薄層を有することを特徴とする、請求項１８に記載のグレージング。
20. 前記グレージングが、積層グレージング、非対称グレージング、又は２重グレージングタイプの多重グレージングの形態であることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかに記載のグレージング。
21. １又は複数の前記吸収性層の固有吸光率が、少なくとも３％であることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれかに記載のグレージング。
22. １又は複数の前記吸収性層の固有吸光率が、４〜１５％又は６〜１２％であることを特徴とする、請求項２１に記載のグレージング。
23. 前記積層体が２つの銀系反射性層を含み、光透過率Ｔ_Ｌが最大で６５％であり、外部光反射率Ｒ_Ｌが２０％又はそれ未満であり、且つ外部光反射のａ^＊及びｂ^＊の値が１又はそれ未満であることを特徴とする、請求項１〜２２のいずれかに記載のグレージング。
24. 前記多層積層体全体が、アニーリング、曲げ、又は強化タイプの熱処理を行った場合に、光学的に変化しないか、又はほとんど変化しないことを特徴とする、請求項１〜２３のいずれかに記載のグレージング。
25. 防汚性コーティング層、疎水性コーティング層、親水性コーティング層、又は反射防止コーティング層である異なる機能の少なくとも１つの別のコーティング層を更に備えていることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれかに記載のグレージング。