JP2009128860A - 液晶装置および液晶装置の製造方法並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】位相差膜の外周部における光漏れが低減された見映えのよい半透過反射型の液晶装置、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置100は、一対の基板である素子基板10および対向基板20と、素子基板10と対向基板20とに挟持された液晶層50と、1つのサブ画素SG内に反射表示領域Rおよび透過表示領域Tを有する複数の画素と、反射表示領域Rに設けられた位相差膜26とを備え、対向基板20の液晶層50側に、位相差膜26を区画する遮光性の隔壁部61を設けた。
【選択図】図3
【解決手段】本適用例の液晶装置100は、一対の基板である素子基板10および対向基板20と、素子基板10と対向基板20とに挟持された液晶層50と、1つのサブ画素SG内に反射表示領域Rおよび透過表示領域Tを有する複数の画素と、反射表示領域Rに設けられた位相差膜26とを備え、対向基板20の液晶層50側に、位相差膜26を区画する遮光性の隔壁部61を設けた。
【選択図】図3
Description
本発明は、反射表示領域と透過表示領域とを有する液晶装置および液晶装置の製造方法並びに電子機器に関する。
液晶装置としては、複数の走査線と複数の信号線とは交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板とを備え、走査線と信号線とが交差する交差部に、外光を反射する手段と位相差膜とを有する反射部をそれぞれ有する赤、青、緑の画素が配置され、赤の画素の位相差膜での位相差値をrR、緑の画素の位相差膜での位相差値をrG、青の画素の位相差膜での位相差値をrBとしたときに、rR>rG、rG>rB、rR>rBの1つが少なくとも成立し、かつ、120nm<rR<180nm、かつ110nm<rG<170nm、かつ、80nm<rB<140nmである液晶表示装置が知られている(特許文献1)。
上記液晶表示装置は、赤、青、緑の画素の光学特性を考慮し、これらの画素の位相差値を規定することによって、反射表示時のコントラスト比の低下防止と色付きの低減を図ったものである。
また、他の液晶装置としては、液晶層と、該液晶層を挟持する第1の基板および第2の基板とからなり、一画素内に反射表示部と透過表示部とを有し、反射表示部における液晶層のリタデーションが4分の1波長であり、位相差板のリタデーションが2分の1波長である他の液晶表示装置が知られている(特許文献2)。
上記他の液晶表示装置は、所謂半透過型IPS方式を採用しており、上記光学設計とすることにより、透過型IPS方式と同等な広視野角を実現できるとしている。
これらの液晶表示装置では、液晶層に面する側に位相差膜(位相差板)が形成されている。このような内蔵型の位相差膜の形成方法として、特許文献1では、高分子液晶ポリマーと感光性樹脂との混合物を基板上に塗布して写真食刻法によりパターニングする例が挙げられている。
しかしながら、上記位相差膜の形成方法では、写真食刻法によりパターニングすると、位相差膜の外周部において、膜厚が変化することがあった。これにより、膜厚変化に起因する位相差値の変化が発生して、実際の表示において、光漏れによるコントラストの低下を招くおそれがあった。
また、赤、青、緑の画素に対応して位相差膜をパターニングする必要があり、製造工程が複雑になるという課題があった。
さらには、写真食刻法によりパターニングする場合、位相差膜形成材料の大半が無駄になってしまうという課題があった。
また、赤、青、緑の画素に対応して位相差膜をパターニングする必要があり、製造工程が複雑になるという課題があった。
さらには、写真食刻法によりパターニングする場合、位相差膜形成材料の大半が無駄になってしまうという課題があった。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例の液晶装置は、一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶層と、1つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素と、前記反射表示領域に設けられた位相差膜とを備え、前記位相差膜は、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側に設けられ、前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜を区画する遮光性の隔壁部を設けたことを特徴とする。
この構成によれば、遮光性の隔壁部によって位相差膜が区画されているため、位相差膜の外周部における膜厚変化を抑制し、当該外周部の位相差値の変化による光漏れを低減することができる。また、当該光漏れが透過表示領域に漏れることを防止することができる。すなわち、反射表示モードおよび透過表示モードのいずれにおいても所定のコントラストが得られ、見映えのよい液晶装置を提供することができる。
[適用例2]上記適用例の液晶装置において、複数色のフィルタエレメントを備えたカラーフィルタが前記一方の基板の前記液晶層側に設けられ、前記隔壁部は、前記複数色のフィルタエレメントをそれぞれ区画すると共に、前記位相差膜を区画していることが望ましい。
この構成によれば、隔壁部は、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画している。したがって、カラー表示が可能な見映えのよい液晶装置を簡素な構成で提供することができる。
この構成によれば、隔壁部は、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画している。したがって、カラー表示が可能な見映えのよい液晶装置を簡素な構成で提供することができる。
[適用例3]上記適用例の液晶装置において、前記一方の基板の前記反射表示領域に設けられた前記フィルタエレメントは、前記液晶層に向かって前記位相差膜の上に積層されているとしてもよい。
液晶装置おいて、液晶層に面して設けられる各種の機能層は、液晶層に不純物を拡散させない構成を有することが好ましい。この構成によれば、反射表示領域に設けられたフィルタエレメントは、位相差膜を保護することができる。したがって、フィルタエレメントを保護層として機能させることにより、位相差膜からの不純物の拡散を防止することができる。ゆえに、位相差膜を形成する材料の選択の自由度が高められる。
液晶装置おいて、液晶層に面して設けられる各種の機能層は、液晶層に不純物を拡散させない構成を有することが好ましい。この構成によれば、反射表示領域に設けられたフィルタエレメントは、位相差膜を保護することができる。したがって、フィルタエレメントを保護層として機能させることにより、位相差膜からの不純物の拡散を防止することができる。ゆえに、位相差膜を形成する材料の選択の自由度が高められる。
[適用例4]上記適用例の液晶装置において、前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が設けられていることを特徴とする。
この構成によれば、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向が規定され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。例えば、熱硬化タイプ、光硬化タイプなどが挙げられる。
この構成によれば、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向が規定され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。例えば、熱硬化タイプ、光硬化タイプなどが挙げられる。
[適用例5]上記適用例の液晶装置において、前記複数の画素の前記フィルタエレメントの少なくとも1色に対応して設けられた前記位相差膜は、他の色の前記フィルタエレメントに対応して設けられた前記位相差膜に対して膜厚が異なっているとしてもよい。
この構成によれば、フィルタエレメントの吸収波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を提供することができる。
この構成によれば、フィルタエレメントの吸収波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を提供することができる。
[適用例6]上記適用例の液晶装置において、前記位相差膜と前記液晶層との間に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層が前記隔壁部によって区画された前記反射表示領域に設けられているとしてもよい。
この構成によれば、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは位相差膜の膜厚がフィルタエレメントの色によって異なっていても、液晶層厚調整層を設けることによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
この構成によれば、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは位相差膜の膜厚がフィルタエレメントの色によって異なっていても、液晶層厚調整層を設けることによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
[適用例7]上記適用例の液晶装置において、前記液晶層厚調整層は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように設けられていることが好ましい。
この構成によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を提供することができる。
この構成によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を提供することができる。
[適用例8]本適用例の液晶装置の製造方法は、1つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素を備えた液晶装置の製造方法であって、一対の基板のうち一方の基板の表面に、複数の前記画素領域を区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを仕切るように遮光性の隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に位相差膜を形成する位相差膜形成工程と、前記一対の基板を液晶層を介して接合する組立工程と、を備えることを特徴とする。
この方法によれば、位相差膜形成工程では、反射表示領域において、外周部が隔壁部で仕切られた位相差膜を形成することができる。したがって、位相差膜の外周部における膜厚変化を抑制し、当該外周部の位相差値の変化による光漏れを低減することができる。また、当該光漏れが透過表示領域に漏れることを防止することができる。すなわち、反射表示モードおよび透過表示モードのいずれにおいても所定のコントラストが得られ、見映えのよい液晶装置を製造することができる。
[適用例9]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部によって区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、前記隔壁部形成工程は、前記フィルタエレメントの膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、前記位相差膜形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記フィルタエレメントに積層するように、前記位相差膜を形成することを特徴とする。
この方法によれば、隔壁部形成工程では、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画するように隔壁部が形成される。したがって、フィルタエレメントおよび位相差膜に対して、別々に隔壁部を形成する場合に比べて、製造工程を簡略化することができる。
この方法によれば、隔壁部形成工程では、フィルタエレメントと位相差膜とを共に区画するように隔壁部が形成される。したがって、フィルタエレメントおよび位相差膜に対して、別々に隔壁部を形成する場合に比べて、製造工程を簡略化することができる。
[適用例10]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、前記隔壁部形成工程は、前記位相差膜の膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、前記カラーフィルタ形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記位相差膜に積層するように、前記フィルタエレメントを形成してもよい。
この方法によれば、反射表示領域において、フィルタエレメントは位相差膜の上に積層される。したがって、フィルタエレメントを位相差膜の保護層として形成することができる。
この方法によれば、反射表示領域において、フィルタエレメントは位相差膜の上に積層される。したがって、フィルタエレメントを位相差膜の保護層として形成することができる。
[適用例11]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記フィルタエレメントを形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いてフィルタエレメントを形成するので、フォトリソグラフィ法に比べて、マスク類を不要とすると共にフィルタエレメント形成材料の無駄を省いて効率よくフィルタエレメントを形成することができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いてフィルタエレメントを形成するので、フォトリソグラフィ法に比べて、マスク類を不要とすると共にフィルタエレメント形成材料の無駄を省いて効率よくフィルタエレメントを形成することができる。
[適用例12]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記位相差膜を形成する前に前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を形成する配向膜形成工程をさらに備えることが望ましい。
この方法によれば、配向膜形成工程では、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が形成され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。
この方法によれば、配向膜形成工程では、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が形成され、遅相の乱れが少ない位相差膜とすることができる。また、配向膜によって位相差膜の遅相軸の方向を規定するので、様々な位相差膜形成材料を選択できる。
[適用例13]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記配向膜形成工程は、光硬化性の配向膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を乾燥させた後に光を照射することにより硬化させて、前記配向膜を形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に配向膜を形成することができる。すなわち、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を複数の画素領域に亘って形成する場合に比べて、配向膜形成材料の無駄を省くことができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に配向膜を形成することができる。すなわち、位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を複数の画素領域に亘って形成する場合に比べて、配向膜形成材料の無駄を省くことができる。
[適用例14]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記位相差膜形成工程は、位相差膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化して前記位相差膜を形成する成膜工程とを含むことが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に位相差膜を形成することができる。すなわち、位相差膜形成材料を一対の基板のうち一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に位相差膜形成材料の無駄を省くことができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に位相差膜を形成することができる。すなわち、位相差膜形成材料を一対の基板のうち一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に位相差膜形成材料の無駄を省くことができる。
[適用例15]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記塗布工程は、前記反射表示領域における少なくとも1色の表示色に対応して塗布する前記液状体の塗布量を、他の表示色に対応する前記液状体の塗布量と異ならせるとしてもよい。
この方法によれば、少なくとも1色の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚を、他の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚に対して異ならせることができる。すなわち、表示色の波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を製造することができる。
この方法によれば、少なくとも1色の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚を、他の表示色に対応して形成された位相差膜の膜厚に対して異ならせることができる。すなわち、表示色の波長に応じて、最適な位相差膜の膜厚を設定することができ、より見映えのよい液晶装置を製造することができる。
[適用例16]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域内の前記位相差膜に積層するように、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整するための液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程をさらに備えるとしてもよい。
この方法によれば、液晶層厚調整層形成工程を設けることにより、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは表示色によって位相差膜の膜厚が異なっていても、液晶層厚調整層を形成することによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
この方法によれば、液晶層厚調整層形成工程を設けることにより、位相差膜形成材料によって所定の位相差値が得られる膜厚が異なっていても、あるいは表示色によって位相差膜の膜厚が異なっていても、液晶層厚調整層を形成することによって、反射表示領域において所定の液晶層の厚みを確保することができる。
[適用例17]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記液晶層厚調整層形成工程は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように前記液晶層厚調整層を形成することが好ましい。
この方法によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を製造することができる。
この方法によれば、透過表示領域における透過光の位相と、反射表示領域において倍の光路を有する反射光の位相とを位相差膜で補償して同一にすることができる。すなわち、透過光に対する反射光の位相のずれを解消して見映えのよい液晶装置を製造することができる。
[適用例18]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記液晶層厚調整層を形成することが好ましい。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に液晶層厚調整層を形成することができる。すなわち、液晶層厚調整層形成材料を一対の基板の一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に液晶層厚調整層形成材料の無駄を省くことができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いて、反射表示領域のみに選択的に液晶層厚調整層を形成することができる。すなわち、液晶層厚調整層形成材料を一対の基板の一方の基板に対して全面に塗布してパターニングする場合に比べて、製造工程を簡略化すると共に液晶層厚調整層形成材料の無駄を省くことができる。
[適用例19]本適用例の電子機器は、上記適用例の液晶装置、または、上記適用例の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、見映えのよく、製造工程が簡略化された液晶装置を備えているので競争力のある電子機器を提供することができる。
この構成によれば、見映えのよく、製造工程が簡略化された液晶装置を備えているので競争力のある電子機器を提供することができる。
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。
(実施形態1)
<液晶装置>
まず、本実施形態の液晶装置について説明する。図1は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。
<液晶装置>
まず、本実施形態の液晶装置について説明する。図1は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。
図1に示すように、本実施形態の液晶装置100は、複数のサブ画素SGを有している。各サブ画素SGは、画素電極9と、共通電極19と、画素電極9をスイッチング制御するためのTFT(Thin Film Transistor)30とを有している。画素電極9と共通電極19との間には液晶層50が介在している。共通電極19は走査線駆動回路90から延びる共通線3bと電気的に接続されており、各サブ画素SGにおいて共通の電位に保持されるようになっている。
データ線駆動回路70から延びるデータ線6aがTFT30のソースと電気的に接続されている。データ線駆動回路70は、画像信号S1,S2,…,Snを、データ線6aを介して各サブ画素SGに供給する。前記画像信号S1〜Snはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループごとに供給するようにしてもよい。
また、TFT30のゲートには、走査線駆動回路90から延びる走査線3aが電気的に接続されている。走査線駆動回路90から所定のタイミングで走査線3aにパルス的に供給される走査信号G1,G2,…,Gmが、この順に線順次でTFT30のゲートに印加されるようになっている。画素電極9は、TFT30のドレインに電気的に接続されている。
スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1,G2,…,Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1,S2,…,Snが所定のタイミングで画素電極9に書き込まれるようになっている。画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1,S2,…,Snは、画素電極9と液晶を介して対向する共通電極19との間で一定期間保持される。
図2は、画素の構造を示す概略平面図である。図2に示すように、液晶装置100は、R(赤)、G(緑)、B(青)、3色のカラーフィルタ22R,22G,22Bに対応する3つのサブ画素SGにより構成された複数の画素を有している。各サブ画素SGには、略梯子状に形成された複数のスリット(隙間)29を有する矩形の画素電極9が設けられている。画素電極9の外周を取り囲むようにして、走査線3aと共通線3bと複数のデータ線6aとが配置されている。
走査線3aとデータ線6aとの交差部近傍にTFT30が形成されており、TFT30はデータ線6aおよび画素電極9と電気的に接続されている。また、画素電極9と平面視でほぼ重なる位置に矩形状の共通電極19が形成されている。
走査線3aとデータ線6aとの交差部近傍にTFT30が形成されており、TFT30はデータ線6aおよび画素電極9と電気的に接続されている。また、画素電極9と平面視でほぼ重なる位置に矩形状の共通電極19が形成されている。
画素電極9は、ITOなどの透明導電材料からなる導電膜である。1つのサブ画素SGの画素電極9に17本のスリット29が形成されている。各スリット29は、走査線3aおよびデータ線6aの双方と交差する方向(図中斜め方向)に延びて、Y軸方向において等間隔に配列するように形成されている。各スリット29は略同一の幅に形成され、互いに平行である。これにより、画素電極9は、複数本(図示では16本)の帯状電極部9cを有することになる。スリット29が一定の幅を有して等間隔で配列していることから、帯状電極部9cも一定の幅を有して等間隔で配列している。本実施形態では、スリット29の幅と帯状電極部9cの幅はいずれも4μmである。
共通電極19は、ITOなどの透明導電材料からなる平面視ほぼ矩形状の透明共通電極19tと、アルミニウムや銀などの光反射性を有する金属材料からなる平面視ほぼ矩形状の反射共通電極19rとからなる。透明共通電極19tと反射共通電極19rとは、互いの辺端部において電気的に接続されている。
反射共通電極19rは、走査線3aと平行に延びる共通線3bと一体に形成されている。したがって、透明共通電極19tと反射共通電極19rとからなる共通電極19は共通線3bと電気的に接続されている。
反射共通電極19rの形成領域が当該サブ画素SGの反射表示領域Rを構成しており、透明共通電極19tの形成領域が透過表示領域Tを構成している。すなわち、液晶装置100は、反射共通電極19rが反射層として機能し、各サブ画素SG内に反射表示領域Rと透過表示領域Tとを備えている。
反射共通電極19rは、走査線3aと平行に延びる共通線3bと一体に形成されている。したがって、透明共通電極19tと反射共通電極19rとからなる共通電極19は共通線3bと電気的に接続されている。
反射共通電極19rの形成領域が当該サブ画素SGの反射表示領域Rを構成しており、透明共通電極19tの形成領域が透過表示領域Tを構成している。すなわち、液晶装置100は、反射共通電極19rが反射層として機能し、各サブ画素SG内に反射表示領域Rと透過表示領域Tとを備えている。
なお、共通線3bと反射共通電極19rとを別々の導電膜を用いて形成し、これらを電気的に接続してもよい。その方法としては、反射共通電極19rと共通線3bとを層間絶縁膜を介して異なる配線層に形成し、層間絶縁膜に開口したコンタクトホールを介して両者を接続する方法が挙げられる。また、透明共通電極19tが反射共通電極19rを覆って形成されていてもよい。
TFT30は、走査線3a上に部分的に形成された島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層35と、データ線6aを分岐して半導体層35上に延出されたソース電極31と、半導体層35上から画素電極9の形成領域に延びる矩形状のドレイン電極32とを備えている。
走査線3aは、半導体層35と対向する位置でTFT30のゲート電極として機能する。ドレイン電極32と画素電極9とは、両者が平面的に重なる位置に形成された画素コンタクトホール47を介して電気的に接続されている。
なお、図示のサブ画素SGにおいて、画素電極9と共通電極19とが平面視で重なる領域が、当該サブ画素SGの容量として機能するので、画像信号を保持するために別途保持容量をサブ画素SGの形成領域内に設ける必要が無く、高い開口率を得ることができる。
走査線3aは、半導体層35と対向する位置でTFT30のゲート電極として機能する。ドレイン電極32と画素電極9とは、両者が平面的に重なる位置に形成された画素コンタクトホール47を介して電気的に接続されている。
なお、図示のサブ画素SGにおいて、画素電極9と共通電極19とが平面視で重なる領域が、当該サブ画素SGの容量として機能するので、画像信号を保持するために別途保持容量をサブ画素SGの形成領域内に設ける必要が無く、高い開口率を得ることができる。
図3を参照して、液晶装置100の構造をさらに詳しく説明する。図3は、液晶装置の構造を示す概略断面図である。詳しくは、同図(a)は、図2のA−A'線で切った断面図、同図(b)は、図2のB−B'線で切った断面図である。
図3(a)に示すように、液晶装置100は、一対の基板である対向基板20と、画素電極9および共通電極19を有する素子基板10とにより、液晶層50を挟持している。対向基板20は、カラーフィルタ22と、カラーフィルタ22(フィルタエレメント22G)をサブ画素SGごと(色ごと)に区画する隔壁部61とを備えている。カラーフィルタ22上(液晶層50側)には、反射表示領域Rに対応して位相差膜26(26G)と液晶層厚調整層としてのセル厚調整層27(27G)とが選択的に形成されている。隔壁部61は、これらの位相差膜26、セル厚調整層27をも区画するように設けられている。したがって、透過表示領域Tのセル厚(液晶層50の厚み)dに対して反射表示領域Rのセル厚が薄くなっており、本実施形態では、およそd/2、すなわち、半分となっている。
このように反射表示を行う液晶装置100では、光学設計上、反射黒表示を行う際に反射共通電極19rに到達する外光がすべての可視波長域で略円偏光である必要がある。反射共通電極19rに到達した外光が楕円偏光であると黒表示に色付きが生じ、高コントラストな反射表示を得ることが困難になるからである。
そこで本実施形態では、隔壁部61で区画された反射表示領域Rに選択的に位相差膜26とセル厚調整層27とを形成し、反射表示領域Rにおけるセル厚が透過表示領域Tに比して薄くなるように構成している。これにより、上偏光板24と位相差膜26と反射表示領域R内の液晶層50とで広帯域円偏光を作り出せるようにして反射共通電極19rに到達する外光をすべての可視波長域で円偏光に近づけている。
そこで本実施形態では、隔壁部61で区画された反射表示領域Rに選択的に位相差膜26とセル厚調整層27とを形成し、反射表示領域Rにおけるセル厚が透過表示領域Tに比して薄くなるように構成している。これにより、上偏光板24と位相差膜26と反射表示領域R内の液晶層50とで広帯域円偏光を作り出せるようにして反射共通電極19rに到達する外光をすべての可視波長域で円偏光に近づけている。
透明なガラスなどからなる素子基板10上には、走査線3a、共通電極19および共通線3bが形成されている。これらの走査線3a、共通電極19および共通線3bを覆って、シリコン酸化物膜などからなる絶縁薄膜11が形成されている。絶縁薄膜11上には、TFT30を構成する島状の半導体層35と、半導体層35と一部が重なるようにソース電極31(データ線6a)と、ドレイン電極32とが形成されている。これらの半導体層35、ソース電極31およびドレイン電極32を覆って、シリコン酸化物膜や樹脂膜からなる層間絶縁膜12が形成されている。層間絶縁膜12上には、画素電極9が形成され、層間絶縁膜12を貫通してドレイン電極32に達する画素コンタクトホール47を介して、画素電極9とドレイン電極32とが電気的に接続されている。共通電極19における透明共通電極19tと反射共通電極19rの境界は、ちょうど透過表示領域Tと反射表示領域Rとを仕切る隔壁部61の直下に位置している。
画素電極9を覆って、ポリイミドなどからなる配向膜18が形成されている。配向膜18は、ラビング処理などの配向処理を施されて液晶を所定方向に配向させるようになっている。本実施形態では、配向膜18による配向規制方向は、走査線3aの延在方向と平行であり、画素電極9のスリット29の延在方向とは交差する方向である。
素子基板10と同じく、透明なガラスなどからなる対向基板20上には、液晶層50側に向かってカラーフィルタ22(フィルタエレメント22G)と、配向膜23と、位相差膜26(26G)と、セル厚調整層27(27G)と、これらの各構成要素を区画する隔壁部61と、配向膜28とが形成されている。また、対向基板20の表面(液晶層50側に対して反対側の表面)には、上偏光板24が貼り付けられている。上偏光板24および素子基板10側の下偏光板14の光学的な配置は、クロスニコルとなっている。
隔壁部61は、ブラックマトリクス(BM)と呼ばれるものである。その形成方法は、例えば、対向基板20の表面に遮光性材料として黒色顔料などを含む樹脂材料を、オフセットなどの印刷法でパターニングする方法が挙げられる。また、上記樹脂材料として感光性を有するものを選択すれば、全面に塗布された上記樹脂材料をフォトリソグラフィ法でパターニングすることも可能である。本実施形態では、隔壁部61をカラーフィルタ22(フィルタエレメント22G)と、配向膜23と、位相差膜26(26G)と、セル厚調整層27(27G)とを区画するように、その高さを調整する。したがって、厚膜となるように、複数回に亘って積層することにより形成してもよい。また、透過表示領域Tと反射表示領域Rとを仕切る隔壁部61のY軸方向における長さ(言い換えれば幅)は、当該隔壁部61の直下に透明共通電極19tと反射共通電極19rの境界が位置するように、素子基板10と対向基板20との組立時のY軸方向の位置精度を考慮して決定することが好ましい。
カラーフィルタ22は、各色のフィルタエレメント形成材料(着色材料)を含む樹脂材料を、上記隔壁部61の開口部を埋めるように形成する。形成方法としては、上記樹脂材料を含む液状体を液滴吐出法(インクジェット法)を用いて塗布し、塗布された液状体を乾燥させてカラーフィルタ22を形成する方法が挙げられる。このような液滴吐出法を用いれば、フォトリソグラフィ法を用いて形成する場合に比べて、隔壁部61によって区画されたサブ画素領域に必要量の上記液状体を無駄なく塗布することが可能である。また、フォトマスクを必要とせず、露光・現像などの製造工程を省くこともできる。
位相差膜26は、反射表示領域Rに対応してカラーフィルタ22上に選択的に形成されている。位相差膜26は、位相差膜26を透過する光に対して略1/2波長(λ/2)の位相差(リタデーション)を付与するものであり、一対の基板により液晶層50を狭持したセルの内面側に設けられた所謂内蔵位相差膜である。
係る位相差膜26は、位相差膜形成材料としての重合性液晶化合物を含む液状体(有機溶液)を液滴吐出法(インクジェット法)を用いて、隔壁部61で区画された反射表示領域Rに形成された配向膜23上に塗布し、所定方向に配向させた状態で固化する方法により形成する。詳しくは、後述する液晶装置の製造方法にて説明する。
なお、重合性液晶化合物の配向方向(位相差膜26の遅相軸の方向)を規制する配向膜23は、液晶層50に面する配向膜18,28と同じ膜材料を用いることができる。その場合には、配向膜23の表面をラビングして、配向方向(遅相軸の方向)を定める。また、配向膜23に限らず、カラーフィルタ22の表面に、シリコン酸化物などを斜め蒸着する方法や、感光性配向膜材料を塗布して、偏光紫外線を照射することにより、光配向させる方法などがある。本実施形態では、隔壁部61で区画された領域に配向膜23を選択的に形成することが好ましいので、位相差膜26の形成方法と同様に、感光性配向膜材料を含む液状体を液滴吐出法を用いて塗布する方法を採用した。
係る位相差膜26は、位相差膜形成材料としての重合性液晶化合物を含む液状体(有機溶液)を液滴吐出法(インクジェット法)を用いて、隔壁部61で区画された反射表示領域Rに形成された配向膜23上に塗布し、所定方向に配向させた状態で固化する方法により形成する。詳しくは、後述する液晶装置の製造方法にて説明する。
なお、重合性液晶化合物の配向方向(位相差膜26の遅相軸の方向)を規制する配向膜23は、液晶層50に面する配向膜18,28と同じ膜材料を用いることができる。その場合には、配向膜23の表面をラビングして、配向方向(遅相軸の方向)を定める。また、配向膜23に限らず、カラーフィルタ22の表面に、シリコン酸化物などを斜め蒸着する方法や、感光性配向膜材料を塗布して、偏光紫外線を照射することにより、光配向させる方法などがある。本実施形態では、隔壁部61で区画された領域に配向膜23を選択的に形成することが好ましいので、位相差膜26の形成方法と同様に、感光性配向膜材料を含む液状体を液滴吐出法を用いて塗布する方法を採用した。
位相差膜26を透過する光に対して付与する位相差の値(以降、位相差値と呼ぶ)は、その構成材料である重合性液晶化合物の種類や、位相差膜26の層厚によって調整することができる。本実施形態では、位相差膜26のねらいの位相差値は、透過表示領域Tにおける液晶層50の位相差値(λ/2)と同等となっている。なお、波長λは550nmを基準としており、液晶層50の位相差値は、液晶分子の複屈折率Δnにセル厚dを乗ずることにより求められる。よって、反射表示領域Rの液晶層50の位相差値は、λ/4となる。
図3(b)に示すように、位相差膜26およびセル厚調整層27は、3色(R,G,B)のカラーフィルタ22に対応する各サブ画素SGの隔壁部61により区画された反射表示領域Rに設けられている。
カラーフィルタ22における各色のフィルタエレメント22R,22G,22Bの膜厚は、ほぼ同一であるが、フィルタエレメント22R,22G,22Bごとに形成された位相差膜26の膜厚は、この場合、色ごとに異なる。具体的には、位相差膜26R>位相差膜26G>位相差膜26Bの順になっている。これは、フィルタエレメント22R,22G,22Bごとの吸収波長を考慮して、最適な位相差値が与えられるように、位相差膜22の膜厚を色ごとに異ならせた。これにより、カラー表示における色純度を改善することができる。
したがって、前述したように反射表示領域Rにおけるセル厚をd/2とするため、セル厚調整層27の層厚を色ごとに異ならせる必要がある。具体的には、セル厚調整層27の層厚は、セル厚調整層27B>セル厚調整層27G>セル厚調整層27Rの順となっている。このような位相差膜26、セル厚調整層27の厚みの調整は、少なくとも1色(表示色)のフィルタエレメントに対して行えば、相当の効果を奏する。
セル厚調整層27は、光透過性かつ等方性を有する樹脂材料が好ましく。位相差膜26を覆う保護層として物理的な強度を有することが望ましい。例えば、アクリル系の樹脂材料が好適に用いられる。本実施形態では、隔壁部61で区画された領域にセル厚調整層27を選択的に形成するので、やはり液滴吐出法を採用することが好ましい。その場合には、セル厚調整層形成材料としての上記樹脂材料を含む液状体を用いる。
次に上記液晶装置100について、光学設計の条件をまとめて説明する。図4は、液晶装置の光学設計条件の1例を示す概略図である。図4に示すように液晶装置100の光学設計条件は、上偏光板24の偏光軸と下偏光板14の偏光軸とが直交している。反射表示領域Rに設けられた位相差膜26の遅相軸は、上偏光板24の偏光軸に対して22.5度の角度で交差している。遅相軸は、画素電極9に設けられたスリット29(図2参照)に対して45度の角度で交差するように設定されている。液晶層50における液晶分子の遅相軸の配向方向は、画素電極9と共通電極19との間に所定の駆動電圧が印加されないOFF状態では、下偏光板14の偏光軸に対して平行な状態となっている。画素電極9と共通電極19との間に所定の駆動電圧が印加されたON状態では、上偏光板24の偏光軸に対して45度の角度で交差することになる。これにより、OFF状態では、下偏光板14を透過して偏光された透過光(直線偏光)は、液晶層50でλ/2の位相が与えられ、透過光の振動方向が上偏光板24の偏光軸と直交する方向に変換される(吸収軸と平行となる)ので遮光される。一方で反射表示領域Rにおいて上偏光板24を透過して偏光した入射光(直線偏光)は、位相差膜26と液晶層50とによりそれぞれλ/2とλ/4の位相が与えられ、可視波長のほぼ全域において略円偏光となって反射共通電極19rに入射する。反射共通電極19rで反射した反射光は、再び上偏光板24に入射する際に上偏光板24の偏光軸に対して垂直な偏光に変換されるため、光が透過しない。したがって、所謂黒表示状態(ノーマリーブラック)となる。ON状態では、液晶分子の遅相軸の配向方向が上偏光板24および下偏光板14それぞれに対して45度となるため、カラーフィルタ22を透過した透過光および反射光の振動方向は上偏光板24の偏光軸と平行となり上偏光板24を透過する。よって、フィルタエレメント22R,22G,22Bの色に対応したカラー表示状態となる。
以上、本実施形態の液晶装置100は、サブ画素SGごとに透過表示領域Tと反射表示領域Rとを有し、反射表示領域Rに対応してセル内に位相差膜26を有する所謂FFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれるものである。光学設計が最適化され、位相差膜26が隔壁部61で区画された反射表示領域Rに形成されている。したがって、位相差膜26の外周部における位相差値の変化が抑制され、表示に影響し難い。よって、黒表示時における位相差膜26の外周部の光漏れによるコントラスト低下が少ない透過表示および反射表示を実現している。
<液晶装置の製造方法>
次に、本実施形態の液晶装置の製造方法について説明する。図5は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図6(a)〜(e)および図7(f)〜(j)は液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。
次に、本実施形態の液晶装置の製造方法について説明する。図5は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図6(a)〜(e)および図7(f)〜(j)は液晶装置の製造方法を示す概略断面図である。
図5に示すように、本実施形態の液晶装置100の製造方法は、隔壁部61を形成する隔壁部形成工程(ステップS1)と、隔壁部61で区画された領域にカラーフィルタ22を形成するカラーフィルタ形成工程(ステップS2)とを備えている。第1配向膜としての配向膜23を形成する第1配向膜形成工程(ステップS3)と、位相差膜形成材料を含む液状体を塗布する塗布工程と、塗布された液状体を乾燥させて位相差膜を形成する位相差膜形成工程(ステップS4)とを備えている。また、形成された位相差膜26上にセル厚調整層27を形成するセル厚調整層形成工程(ステップS5)と、第2配向膜としての配向膜28を形成する第2配向膜形成工程(ステップS6)と、素子基板10と対向基板20との間に液晶を充填して組み立てる液晶充填組立工程(ステップS7)とを備えている。
図5のステップS1は、隔壁部形成工程である。ステップS1では、図6(a)に示すように、複数の開口部61aを有する隔壁部61を形成する。具体的には、対向基板20の表面に、遮光性を有する隔壁部形成材料をオフセットなどの印刷法を用いて塗布、パターニングする方法、感光性を有する隔壁部形成材料を所定の膜厚で塗布して、露光・現像することによって隔壁部61をパターニングする方法が挙げられる。隔壁部61は、前述のサブ画素SGを区画して開口すると共に、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを仕切るように形成する(図3参照)。隔壁部61の膜厚すなわち高さhは、後に形成されるカラーフィルタ22の各フィルタエレメント22R,22G,22B、配向膜23、位相差膜26、セル厚調整層27を区画可能な高さとなるように調整する。そして、ステップS2へ進む。
図5のステップS2は、カラーフィルタ形成工程である。ステップS2では、まず、図6(b)に示すように、フィルタエレメント形成材料を含む3色の液状体4R,4G,4Bをそれぞれ所望の開口部61a(言い換えればサブ画素領域)に塗布する。本実施形態では、3色の液状体4R,4G,4Bをそれぞれ異なる吐出ヘッド1R,1G,1Bに充填し、各吐出ヘッド1R,1G,1Bと対向基板20とを相対的に走査することにより、各吐出ヘッド1R,1G,1Bに設けられた複数のノズル2から液滴として吐出する。3色の液状体4R,4G,4Bをほぼ同時に吐出してもよいし、個々に吐出してもよい。吐出ヘッド1R,1G,1Bとして例えばインクジェットヘッドを用いれば、必要量の液状体4R,4G,4Bをそれぞれ精度よく、かつ無駄なく所望の開口部61aに塗布することができる。
なお、液状体4R,4G,4Bを塗布する前に、隔壁部61が形成された対向基板20の塗布面を親液処理し、隔壁部61を撥液処理することが好ましい。親液処理の方法としては、酸素ガスを処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。また、撥液処理の方法としては、CF4を処理ガスとするプラズマ処理が挙げられる。このような表面処理を施すことにより、ムラなく液状体4R,4G,4Bを開口部61a内に塗布することができる。
次に、塗布された液状体4R,4G,4Bを乾燥させ、溶媒成分を除去することにより、図6(c)に示すように赤(R)に対応したフィルタエレメント22R、緑(G)に対応したフィルタエレメント22G、青(B)に対応したフィルタエレメント22Bをそれぞれ所定の膜厚(およそ1.5〜2μm)で形成することができる。そして、ステップS3へ進む。
図5のステップS3は、第1配向膜形成工程である。ステップS3では、図6(d)に示すように、まず、感光性配向膜形成材料を含む液状体5を隔壁部61で区画された反射表示領域Rのフィルタエレメント上に塗布する。カラーフィルタ形成工程と同様に、上記液状体5を吐出ヘッド1に充填し、吐出ヘッド1と対向基板20とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド1に設けられた複数のノズル2から液滴として吐出する。図示しないが、隔壁部61は反射表示領域Rと透過表示領域Tとを区画しているが、透過表示領域Tには、液状体5を吐出する必要はない。
次に、図6(e)に示すように、塗布された液状体5を乾燥させ、偏光紫外線(矢印にて図示)を照射することにより、光配向させつつ硬化させる。これにより、配向膜23を反射表示領域Rに形成する。なお、感光性配向膜材料としては、例えば、ポリイミド系の感光性樹脂材料が挙げられる。そして、ステップS4へ進む。
図5のステップS4は、位相差膜形成工程である。ステップS4では、まず、図7(f)に示すように、位相差膜形成材料を含む液状体6を隔壁部61で区画された反射表示領域Rに塗布する(塗布工程)。この場合も液滴吐出法(インクジェット法)を用い、上記液状体6を吐出ヘッド1に充填し、吐出ヘッド1と対向基板20とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド1に設けられた複数のノズル2から液滴として吐出する。なお、配向膜23の表面が液状体6に対して撥液性を示すことが考えられるので、前述したような親液処理を施すことが好ましい。
上記塗布工程では、各フィルタエレメント22R,22G,22Bに対応して液状体6の塗布量を、それぞれ異ならせている。液滴吐出法を用いれば、所望の領域に所望の量の液状体6を液滴として吐出可能である。
次に、図7(g)に示すように、塗布された液状体6を乾燥させ、固化することにより、膜厚が異なる各位相差膜26R,26G,26Bを形成する(成膜工程)。この場合、膜厚(塗布量)は、位相差膜26Gの位相差値を基準として設定されている。位相差膜26Gの膜厚は、およそ1.5〜2μmであり、位相差値は、およそ265〜275nmである。位相差膜26Rの膜厚は、これよりも厚く、位相差膜26Bの膜厚は、これよりも薄く設定されている。なお、これらの膜厚の設定は、位相差膜形成材料の選択によって左右されることは言うまでもない。
位相差膜形成材料として重合性液晶化合物を用いる場合の例としては、BASF社製のPaliocolor LC242などが挙げられる。LC242は、光重合タイプの材料である。以下、液状体6の組成について上記LC242を用いた実施例を説明する。
(実施例)
位相差膜形成材料;LC242、濃度30wt%。
光重合開始剤;2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン、具体的には、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア907、LC242に対する添加量は3wt%。
溶媒;PGMEA;2−アセトキシ−1−メトキシプロパン、濃度70wt%。
位相差膜形成材料;LC242、濃度30wt%。
光重合開始剤;2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン、具体的には、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア907、LC242に対する添加量は3wt%。
溶媒;PGMEA;2−アセトキシ−1−メトキシプロパン、濃度70wt%。
溶質としてのLC242は、溶媒であるPGMEAに対して、室温では溶解し難い。そこで、およそ70℃に加温した溶媒に溶質を加えて攪拌し、その溶解性を評価した。図8は、液状体における溶質の溶解性を評価した結果を示す表である。
図8に示すように、溶質濃度が30〜50wt%では、70℃で溶解させた後に、室温で100H(時間)放置しても溶質が析出しない。溶質濃度が60〜70wt%では、70℃で一旦溶解するも、室温で24H放置すると析出する。溶質濃度が80wt%では、同様に室温放置8Hで析出が起こる。溶質濃度が90wt%では、70℃に加温された溶媒にも溶解しない。したがって、液状体6としての安定性を考慮すると、溶質濃度は、50wt%以下が好ましい。液滴吐出法を用いて吐出するには、粘度が3mPa,s以上20mPa,s以下に調整されていることが望ましいので、本実施例では、溶質濃度を30wt%とした。このときの粘度は、およそ10mPa,sである。
このような液状体6を用い、1滴あたりの吐出量をおよそ10ngとして吐出した。そして、液状体6が塗布された対向基板20を加熱して、液状体6を乾燥させた。乾燥方法としては、加熱したホットプレート上に対向基板20を放置する方法や、乾燥炉を用いる方法が挙げられる。例えば、70℃に加熱したホットプレート上に放置した場合には、数十秒で乾燥させることができる。
乾燥して得られた薄膜に、主たる波長が365nmの紫外線を400mJ/cm2の条件で照射することにより、光重合が起こり位相差膜26を成膜することができた。なお、紫外線照射を行う際には、窒素(N2)雰囲気下で行うことが望ましい。これにより、大気中の酸素(O2)の影響により光重合が阻害されることを低減することができる。
図9は、液状体の塗布量と膜厚との関係を示すグラフである。図9に示すように、上記実施例の液状体6の塗布量を1.0〜6.0μg/mm2の範囲で塗布すれば、位相差膜26の膜厚を1.5〜4.5μmの範囲で制御可能なことがわかった。
このような液状体6を用いれば、塗布量をカラーフィルタの色ごとに調整することによって、図7(g)に示したような膜厚が異なる各位相差膜26R,26G,26Bを形成できる。位相差値は、位相差膜形成材料の複屈折率Δnと膜厚tとを乗ずることで与えられる。例えば、位相差値をλ/2とする場合、位相差膜形成材料の複屈折率Δnが0.14ならば、位相差膜26Rの膜厚を2.32μmとすることにより、赤(R)の波長650nmの半分の値の位相差値325nmが得られる。同様にして、位相差膜26Gの膜厚を1.96μmとすれば、緑(G)の波長550nmの半分の値の位相差値275nmが得られる。位相差膜26Bの膜厚を1.61μmとすれば、青(B)の波長450nmの半分の値の位相差値225nmが得られる。
光重合開始剤は、これに限定されるものではない。紫外線の波長によって、光重合開始剤の紫外線吸収特性が異なるので、紫外線照射装置の波長特性を考慮して光重合開始剤を選ぶと共に、位相差膜形成材料に対する添加量を調整することが望ましい。当然ながら位相差膜形成材料の化学的な構造を考慮して光重合開始剤を選ぶことは言うまでもない。
位相差膜形成材料は、上記光重合タイプの重合性液晶化合物に限定されるものではない。例えば、熱重合タイプを採用してもよい。熱重合タイプの場合、所謂フォトリソグラフィ法で位相差膜26を形成する場合に比べて、着色し易い感光基を有する感光性材料を用いなくて済むので、成膜後により透明な位相差膜26を形成することが可能である。一方、熱重合させるため、加熱によって膜厚にばらつきが生ずることを考慮して、加熱条件を設定することが望ましい。そして、ステップS5へ進む。
図5のステップS5は、セル厚調整層形成工程である。ステップS5では、まず、図7(h)に示すように、セル厚調整層形成材料を含む液状体7を隔壁部61で区画された反射表示領域Rに塗布する。この場合も液滴吐出法(インクジェット法)を用い、上記液状体7を吐出ヘッド1に充填し、吐出ヘッド1と対向基板20とを相対的に走査することにより、吐出ヘッド1に設けられた複数のノズル2から液滴として吐出する。
セル厚調整層形成材料としては、前述したように光硬化型のアクリル系樹脂材料を用いる。液状体7の塗布量は、各開口部61aにおいて成膜後に表面が平坦になるように、各位相差膜26R,26G,26Bごとに異ならせる。
次に、図7(i)に示すように、紫外線を照射して硬化させ、セル厚調整層27R,27G,27Bをそれぞれ形成する。なお、セル厚調整層27の厚みは、セル組み立て後の反射表示領域Rにおけるセル厚が、透過表示領域Tのセル厚dの半分となるように設定する。そして、ステップS6へ進む。
図5のステップS6は、第2配向膜形成工程である。ステップS6では、図7(j)に示すように、隔壁部61とセル厚調整層27R,27G,27Bとを覆うように第2配向膜としての配向膜28を形成する。配向膜28の形成方法としては、配向膜材料としてのポリイミドやポリアミック酸を含む有機溶液を塗布して、溶媒成分を除去する乾燥・焼成を行うことにより成膜化する。塗布方法としては、スピンコート、スリットコートなどの方法や、オフセットなどの印刷法、液滴吐出法が挙げられる。成膜化した配向膜28は、その表面を一定の方向にラビング処理する。そして、ステップS7へ進む。
図5のステップS7は、液晶充填組立工程である。ステップS7では、図3(a)および(b)に示したように、画素構成要素(画素電極9、共通電極19など)が形成された素子基板10と、対向基板20とを所定の位置で対向させ、シール材を介して接合する。素子基板10と対向基板20との間に液晶を充填して、液晶層50とする。液晶を充填する方法としては、一対の基板の一方に印刷法や吐出法で額縁状にシール材を形成する。これを受け皿に見たてて液晶を真空中で必要量滴下した後に、他方の基板と接合する方法が挙げられる。シール材としては、例えば、熱硬化型のエポキシ系接着剤が好適に用いられる。なお、液晶層50の厚みは、セル組み立て後の反射表示領域Rにおける液晶層50の厚みが、透過表示領域Tの液晶層50の厚みdの半分となるように設定される。
このようにしてできたセルの表裏面に上偏光板24と下偏光板14とを貼り付けることにより液晶装置100ができあがる。なお、液晶装置100は、これを駆動する駆動回路と接続され、これを照明するための照明装置を素子基板10の背面側に備えて用いられる。照明装置は、光源としてのLEDや冷陰極管、光源からの光を液晶装置100に導く導光板などを備える。
上記液晶装置100の製造方法によれば、カラーフィルタ形成工程(ステップS2)、第1配向膜形成工程(ステップS3)、位相差膜形成工程(ステップS4)、セル厚調整層形成工程(ステップS5)が少なくとも液滴吐出法を用いて製造されている。したがって、これらの工程においてフォトリソグラフィ法を用いる場合に比べて、製造工程を簡略化できる。また、各液状体4,5,6,7をそれぞれ無駄なく使用して、所望の薄膜を形成することができる。さらには、位相差膜26が遮光性を有する隔壁部61によって区画されているため、位相差膜26の外周部における位相差値の変化が抑制され、光漏れが生じ難い、また、当該光漏れが透過表示領域Tに漏れることを防止している。ゆえに、見映えのよい液晶装置100を製造することができる。
(実施形態2)
次に、他の液晶装置について、図10を参照して説明する。図10は、実施形態2の液晶装置を示す概略断面図である。なお、実施形態2の液晶装置は、上記実施形態1の液晶装置100と同じ等価回路の構成と、素子基板10の構成を有するものであり、対向基板20の構成が異なるものである。したがって、上記実施形態1と同様な構成の部分は、同じ符号を用いて表わしている。
次に、他の液晶装置について、図10を参照して説明する。図10は、実施形態2の液晶装置を示す概略断面図である。なお、実施形態2の液晶装置は、上記実施形態1の液晶装置100と同じ等価回路の構成と、素子基板10の構成を有するものであり、対向基板20の構成が異なるものである。したがって、上記実施形態1と同様な構成の部分は、同じ符号を用いて表わしている。
図10に示すように、本実施形態の液晶装置200は、対向基板20の隔壁部61により区画された反射表示領域Rにおいて、液晶層50に向かって配向膜23、位相差膜26(26G)、カラーフィルタ22(フィルタエレメント22G)の順に積層された構成を有する。つまり反射表示領域Rの位相差膜26(26G)にフィルタエレメント22Gが積層されている。
位相差膜26を形成する材料の選択によっては、形成された位相差膜26の物理的な特性、例えば表面硬度が低くなることが考えられる。その場合には、液晶分子を配向させるためのラビングなどの配向処理に耐えられず、位相差膜26が削れてしまうなどの不具合が生ずる。また、位相差膜26中にイオン成分などの不純物が含まれる場合、配向膜28で覆っても時間経過と伴に不純物が液晶層50に拡散して、光学特性が変化するおそれがある。上記実施形態1の液晶装置100では、位相差膜26を覆うようにセル厚調整層27を設けた。セル厚調整層27は、上記のような不具合を防止する保護層としての機能を有している。
液晶装置200では、位相差膜26の上にフィルタエレメント22Gを設けることにより、上記保護層としての機能をフィルタエレメント22Gに与えたものである。よって、液晶装置100に比べてより簡略化された構造となっている。
このような液晶装置200の製造方法は、上記実施形態1の液晶装置100の製造方法において、ステップS1〜ステップS4の順番を変え、ステップS5のセル厚調整層形成工程を除けばよい。すなわち、対向基板20において隔壁部61を形成した後に、反射表示領域Rに配向膜23を形成する。続いて、反射表示領域Rに位相差膜26を形成した後に、カラーフィルタ22を形成すればよい。これらの各工程は、いずれも液滴吐出法(インクジェット法)を用いているので、反射表示領域Rに選択的に配向膜23、位相差膜26、カラーフィルタ22を形成することができる。位相差膜形成工程では、セル厚調整層27が不要となるように材料選択と膜厚調整を行うことは言うまでもない。
このような液晶装置200の製造方法によれば、製造工程を省いてより効率的に半透過反射型の液晶装置200を製造することができる。
(実施形態3)
次に、液晶装置を備えた電子機器について図11を参照して説明する。図11は、電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。
次に、液晶装置を備えた電子機器について図11を参照して説明する。図11は、電子機器としての携帯型電話機を示す概略斜視図である。
図11に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯型電話機300は、操作用の入力部と表示部301とを備えた本体を有する。表示部301には、上記液晶装置100または上記液晶装置200とこれを照明する照明装置とが組み込まれている。したがって、照明装置からの透過光を利用した透過表示と、外光などの入射光を利用した反射表示とにより、表示された情報を確認することが可能である。すなわち、屋外など十分な明るさの環境下では、照明装置を駆動せず、反射表示モードにより情報を確認することができる。すなわち、省電力化を実現し、長い電池寿命を有する携帯型電話機300を実現している。
携帯型電話機300は、上記実施形態1の液晶装置100または上記実施形態2の液晶装置200、あるいは上記実施形態1の液晶装置100の製造方法を用いて製造された液晶装置100、または、実施形態2の液晶装置200の製造方法を用いて製造された液晶装置200を搭載している。したがって、見映えのよい表示品質を有し、コストパフォーマンスに優れた携帯型電話機300を提供することができる。
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
(変形例1)上記実施形態1の液晶装置100において、隔壁部61の配置は、これに限定されない。図12(a)および(b)は、隔壁部の配置を示す概略平面図である。上記実施形態1においては、図12(a)に示すように、隔壁部61を格子状に設け、各サブ画素SG(実質的には各フィルタエレメント22R,22G,22B)を区画すると共に、Y軸方向(同色のフィルタエレメントがストライプ状に配列する方向)において反射表示領域Rと透過表示領域Tとを仕切った。これに対して、同図(b)に示すように、Y軸方向に直交するX軸方向において、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを仕切るように構成してもよい。このように、反射表示領域Rと透過表示領域Tとを隔壁部61によってどのように仕切るかは、サブ画素SGの形状や視角特性などを考慮してより効果的な反射表示領域Rおよび透過表示領域Tの配置を決定すればよい。この他にも、サブ画素SG内において、島状に反射表示領域Rを孤立させて設けることも可能である。
(変形例2)上記実施形態1の液晶装置100において、隔壁部61、位相差膜26、セル厚調整層27の配置は、これに限定されない。例えば、図3(a)および(b)において、対向基板20側にカラーフィルタ22を設け、素子基板10側に、隔壁部61、位相差膜26、セル厚調整層27を配置してもよい。このような構成としても同様な効果が得られる。また、対向基板20側の構成が簡素になるので、カラーフィルタ22を備えた原材料基板として、外部メーカーから調達が可能となる。さらには、セル厚調整層27は必須ではなく、透過表示領域Tのセル厚dに対して、反射表示領域Rのセル厚がd/2となるように、λ/2の位相差値を与える位相差膜26の膜厚を調整すればよい。
(変形例3)上記実施形態1の液晶装置100において、反射表示領域Rを実現するサブ画素SGの構成は、光反射性を有する反射共通電極19rに限定されない。例えば、透明共通電極19tを平面視で画素電極9と同じ大きさで設け、透明共通電極19tの下層に光反射性を有する反射層を形成してもよい。反射層の形成方法は、例えば複数の凹凸を有する樹脂層上にAl、Agなどの金属薄膜を成膜する方法が挙げられる。このような反射層は反射表示領域Rに対応して形成する。これによれば、反射層で反射した光の指向性を低減してより明るい反射表示を実現できる。
(変形例4)上記実施形態1の液晶装置100において、3色のフィルタエレメント22R,22G,22Bの配置は、ストライプ方式に限定されない。例えば、モザイク方式の配置、デルタ方式の配置においても、上記実施形態1の位相差膜26の構成を適用することができる。なお、カラーフィルタ22は、3色に限定されず、R,G,B以外の色を加えた多色構成としてもよい。また、カラーフィルタ22を設けず、所謂白黒表示のみの半透過反射型の液晶パネルにおいても適用可能である。
(変形例5)上記実施形態1の液晶装置100および上記実施形態2の液晶装置200は、FFS方式の半透過反射型に限定されない。例えば、IPS方式、VA(Vertical Alignment)方式の半透過反射型の液晶装置にも適用可能である。また、スイッチング素子は、TFT30に限らず、TFD(Thin Film Diode)素子でもよい。さらには、スイッチング素子を備えたアクティブ方式に限定されず、単純マトリクス方式の液晶装置にも適用可能である。
(変形例6)上記実施形態1の液晶装置100の製造方法において、カラーフィルタ22の形成方法は、液滴吐出法を用いることに限定されない。フォトリソグラフィ法でカラーフィルタ22を形成した後に、隔壁部61をカラーフィルタ22上に形成してもよい。
(変形例7)上記実施形態1の液晶装置100の製造方法において、位相差膜26の遅相軸の方向を規定する配向膜23の形成方法は、液滴吐出法を用いて液状体5を開口部61aに塗布し、偏光紫外線を照射して光配向させる方法に限定されない。例えば、配向膜形成材料を含む液状体5をスピンコートやロールコートによって塗布して、パターニングする方法や、オフセットなどの印刷法を用いパターニングする方法も採用可能である。
(変形例8)上記実施形態1の液晶装置100の製造方法において、セル厚調整層形成工程(ステップS5)は、必須ではない。例えば、セル厚調整が不要となるように、位相差膜形成材料を選んで位相差膜26の膜厚を調整してもよい。
(変形例9)上記実施形態1の液晶装置100の製造方法において、位相差膜26およびセル厚調整層27を表示色ごとに膜厚を異ならせる構成は、これに限定されない。例えば、位相差膜26およびセル厚調整層27の膜厚が、表示色に関わらず同一としてもよい。これによれば、製造工程における膜厚の調整過程を除いて、より簡素化できる。
(変形例10)上記実施形態2の液晶装置200の製造方法は、これに限定されない。例えば、まず対向基板20上に配向膜23を形成し、ラビング処理することによって遅相軸の方向を規制する。その後に、オフセットや転写などの印刷法を用いて隔壁部61を形成する。続いて、隔壁部61により区画された反射表示領域Rに位相差膜26を形成する。さらに隔壁部61により区画されたサブ画素領域にカラーフィルタ22の各フィルタエレメント22R,22G,22Bを形成するとしてもよい。これによれば、位相差膜26の遅相軸の方向を規制する方法として、ラビング処理を用いることができ、隔壁部61にじゃまされることなく、遅相軸の方向を安定化させることができる。
(変形例11)上記実施形態3において、液晶装置100または液晶装置200を備えた電子機器は、携帯型電話機300に限定されない。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ、電子手帳、映像情報を表示するビューワーやDVDプレーヤ、携帯型情報端末などの電子機器に搭載すれば、好適である。
4R,4G,4B…フィルタエレメント形成材料を含む液状体、5…配向膜材料を含む液状体、6…位相差膜形成材料を含む液状体、7…セル厚調整層形成材料を含む液状体、10…一対の基板の一方としての素子基板、20…一対の基板の一方としての対向基板、22…カラーフィルタ、22R,22G,22B…フィルタエレメント、23…配向膜、26,26R,26G,26B…位相差膜、27,27R,27G,27B…セル厚調整層、50…液晶層、61…隔壁部、61a…隔壁部で区画された領域としての開口部、100…液晶装置、200…液晶装置、300…電子機器としての携帯型電話機、R…反射表示領域、SG…サブ画素、T…透過表示領域。
Claims (19)
- 一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶層と、
1つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素と、
前記反射表示領域に設けられた位相差膜とを備え、
前記位相差膜は、前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側に設けられ、
前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜を区画する遮光性の隔壁部を設けたことを特徴とする液晶装置。 - 複数色のフィルタエレメントを備えたカラーフィルタが前記一方の基板の前記液晶層側に設けられ、
前記隔壁部は、前記複数色のフィルタエレメントをそれぞれ区画すると共に、前記位相差膜を区画していることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記一方の基板の前記反射表示領域に設けられた前記フィルタエレメントは、前記液晶層に向かって前記位相差膜の上に積層されていることを特徴とする請求項2に記載の液晶装置。
- 前記一方の基板の前記液晶層側に、前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。
- 前記複数の画素の前記フィルタエレメントの少なくとも1色に対応して設けられた前記位相差膜は、他の色の前記フィルタエレメントに対応して設けられた前記位相差膜に対して膜厚が異なっていることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記位相差膜と前記液晶層との間に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整する液晶層厚調整層が前記隔壁部によって区画された前記反射表示領域に設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記液晶層厚調整層は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように設けられていることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置。
- 1つの画素領域内に反射表示領域および透過表示領域を有する複数の画素を備えた液晶装置の製造方法であって、
一対の基板のうち一方の基板の表面に、複数の前記画素領域をそれぞれ区画すると共に、前記反射表示領域と前記透過表示領域とを仕切るように遮光性の隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
前記隔壁部により区画された前記反射表示領域に位相差膜を形成する位相差膜形成工程と、
前記一対の基板を液晶層を介して接合する組立工程と、を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、
前記隔壁部形成工程は、前記フィルタエレメントの膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、
前記位相差膜形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記フィルタエレメントに積層するように、前記位相差膜を形成することを特徴とする請求項8に記載の液晶装置の製造方法。 - 前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に複数色のフィルタエレメントを有するカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工程をさらに備え、
前記隔壁部形成工程は、前記位相差膜の膜厚を越える高さで前記隔壁部を形成し、
前記カラーフィルタ形成工程は、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域の前記位相差膜に積層するように、前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする請求項8に記載の液晶装置の製造方法。 - 前記カラーフィルタ形成工程は、フィルタエレメント形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記複数の画素領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記フィルタエレメントを形成することを特徴とする請求項9または10に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記位相差膜を形成する前に前記位相差膜の遅相軸の方向を規定する配向膜を形成する配向膜形成工程をさらに備えたことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記配向膜形成工程は、光硬化性の配向膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を乾燥させた後に光を照射することにより硬化させて、前記配向膜を形成することを特徴とする請求項12に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記位相差膜形成工程は、位相差膜形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布する塗布工程と、塗布された前記液状体を固化して前記位相差膜を形成する成膜工程とを含むことを特徴とする請求項8乃至13のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記塗布工程は、前記反射表示領域における少なくとも1色の表示色に対応して塗布する前記液状体の塗布量を、他の表示色に対応する前記液状体の塗布量と異ならせることを特徴とする請求項14に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みを調整するための液晶層厚調整層を形成する液晶層厚調整層形成工程をさらに備えたことを特徴とする請求項8乃至15のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記液晶層厚調整層形成工程は、前記透過表示領域の前記液晶層の厚みに対して、前記反射表示領域の前記液晶層の厚みが半分となるように前記液晶層厚調整層を形成することを特徴とする請求項16に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記液晶層厚調整層形成工程は、液晶層厚調整層形成材料を含む液状体を液滴として、前記隔壁部で区画された前記反射表示領域に塗布し、塗布された前記液状体を固化することにより、前記液晶層厚調整層を形成することを特徴とする請求項16または17に記載の液晶装置の製造方法。
- 請求項1乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置、または請求項8乃至18のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法を用いて製造された液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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