CN101446708A - 液晶装置及液晶装置的制造方法以及电子设备 - Google Patents

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Abstract

提供一种减少相位差膜的外周部的漏光的图像质量好的半透射反射型的液晶装置及其制造方法。本适用例的液晶装置(100)包括：作为一对基板的元件基板(10)及相对基板(20)，被元件基板(10)和相对基板(20)夹持的液晶层(50)，在1个子像素SG内具有反射显示区R和透射显示区T的多个像素，以及设置在反射显示区R中的相位差膜(26)；在相对基板(20)的液晶层(50)侧设置区分相位差膜(26)的遮光性的隔壁部(61)。

Description

液晶装置及液晶装置的制造方法以及电子设备
技术领域
本发明涉及具有反射显示区和透射显示区的液晶装置及液晶装置的制造方法以及电子设备。
背景技术
作为液晶装置，已知有如下这样的液晶显示装置，包括：多个扫描线和多个信号线交叉的阵列基板，以及夹持液晶层与该阵列基板相面对的相对基板；在扫描线和信号线交叉的交叉部，配置各自具有具备反射外部光的装置和相位差膜(phase difference film)的反射部的红、蓝、绿的像素，当设红的像素的相位差膜中的相位差值(phase difference value)为rR、绿的像素的相位差膜中的相位差值为rG、蓝的像素的相位差膜中的相位差值为rB时，rR>rG、rG>rB、rR>rB中至少1个成立，并且，120nm<rR<180nm、且110nm<rG<170nm、且80nm<rB<140nm(专利文献1)。
上述液晶显示装置考虑红、蓝、绿的像素的光学特性，通过规定这些像素的相位差值，在反射显示时来实现防止对比度的下降和降低着色。
此外，作为另一种液晶装置，已知有如下的另一种液晶显示装置，由液晶层、夹持该液晶层的第1基板及第2基板构成，在一像素内具有反射显示部和透射显示部，反射显示部中的液晶层的延迟(retardation)为四分之一波长，相位差板(phase difference plate)的延迟是二分之一波长(专利文献2)。
上述另一种液晶显示装置，通过采用所谓半透射型IPS方式，进行上述光学设计，就能够实现与透射型IPS方式同等的宽视角。
在这些液晶显示装置中，在面向液晶层的一侧形成相位差膜(相位差板)。作为这样的内置型的相位差膜的形成方法，在专利文献1中列举了在基板上涂敷高分子液晶聚合物和感光性树脂的混合物，利用照相蚀刻法(photo-etching process)进行构图的例子。
专利文献1：JP特开2006-292847号公报
专利文献2：JP特开2005-338256号公报
发明内容
但是，在上述相位差膜的形成方法中，当利用照相蚀刻法进行构图时，在相位差膜的外周部，存在膜厚变化。由此，产生由膜厚变化引起的相位差值的变化，在实际的显示中，存在因漏光而导致对比下降的问题。
此外，存在所谓需要对应红、蓝、绿的像素来构图相位差膜，制造工序复杂的课题。
并且，通过照相蚀刻法进行构图的情况下，存在一大半相位差膜形成材料就会无用的课题。
本发明为了解决上述课题的至少一部分，可以作为以下的实施方式或适用例来实现。
[适用例1]本适用例的液晶装置，其特征在于，包括：一对基板，被上述一对基板夹持的液晶层，在1个像素区域内具有反射显示区和透射显示区的多个像素，以及设置在上述反射显示区中的相位差膜；上述相位差膜被设置在上述一对基板中的一个基板的上述液晶层侧；在上述一个基板的上述液晶层侧设置区分上述相位差膜的遮光性的隔壁部。
根据此结构，由于用遮光性的隔壁部区分相位差膜，所以抑制了相位差膜的外周部的膜厚变化，能够降低因该外周部的相位差值的变化引起的漏光。此外，能够防止该漏光泄漏到透射显示区。即，能够提供一种在反射显示模式及透射显示模式的任何一个中都可得到规定的对比、图像质量好的液晶装置。
[适用例2]在上述适用例的液晶装置中，优选为，将包括多个颜色的滤色元件的滤色片设置在上述一个基板的上述液晶层侧；上述隔壁部分别区分上述多个颜色的滤色元件，并且还区分上述相位差膜。
根据此结构，隔壁部同时区分滤色元件和相位差膜。因此，能够以简单的结构提供可进行彩色显示的图像质量好的液晶装置。
[适用例3]在上述适用例的液晶装置中，设置在上述一个基板的上述反射显示区中的上述滤色元件，也可以面向上述液晶层而层叠在上述相位差膜之上。
在液晶装置中，面对液晶层而设置的各种功能层，优选具有不使杂质扩散进液晶层的结构。根据此结构，设置在反射显示区中的滤色元件，能够保护相位差膜。因此，通过使滤色元件作为保护层起作用，就能够防止来自相位差膜的杂质的扩散。因此，可提高形成相位差膜的材料的选择的自由度。
[适用例4]在上述适用例的液晶装置中，其特征在于，在上述一个基板的上述液晶层侧设置有规定上述相位差膜的相位迟滞轴(slow axis)方向的取向膜。
根据此结构，通过取向膜规定相位差膜的相位迟滞轴的方向，能够形成相位迟滞紊乱少的相位差膜。此外，由于通过取向膜规定相位差膜的相位迟滞轴的方向，所以能够选择各种各样的相位差膜形成材料。例如，可列举热硬化类型、光硬化类型等。
[适用例5]在上述适用例的液晶装置中，对应上述多个像素的上述滤色元件的至少1个颜色而设置的上述相位差膜，与对应另一颜色的上述滤色元件而设置的上述相位差膜相比，膜厚不同也是可以的。
根据此结构，能够按照滤色元件的吸收波长，设定最佳的相位差膜的膜厚，能够提供图像质量更好的液晶装置。
[适用例6]在上述适用例的液晶装置中，也可以在上述相位差膜和上述液晶层之间，将调整上述反射显示区的上述液晶层的厚度的液晶层厚度调整层设置在由上述隔壁部区分的上述反射显示区中。
根据此结构，即使按照相位差膜形成材料得到规定的相位差值的膜厚不同，或者相位差膜的膜厚因滤色元件的颜色而不同，通过设置液晶层厚度调整层也能够在反射显示区中确保规定的液晶层的厚度。
[适用例7]在上述适用例的液晶装置中，优选设置上述液晶层厚度调整层，以使上述反射显示区的上述液晶层的厚度为上述透射显示区的上述液晶层的厚度的一半。
根据此结构，用相位差膜进行补偿，使透射显示区中的透射光的相位和在反射显示区中具有成倍的光路的反射光的相位相同。即，能够提供消除相对于透射光的反射光的相位的偏移(phase shift)、图像质量好的液晶装置。
[适用例8]本适用例的液晶装置的制造方法，该液晶装置包括：在1个像素区域内具有反射显示区及透射显示区的多个像素，该液晶装置的制造方法的特征在于，包括：隔壁部形成工序，在一对基板之中的一个基板的表面上形成遮光性的隔壁部，以便区分多个上述像素区域，并且还将上述反射显示区和上述透射显示区隔开；相位差膜形成工序，在由上述隔壁部区分的上述反射显示区中形成相位差膜；以及组装工序，隔着液晶层粘接上述一对基板。
根据此方法，在相位差膜形成工序中，能够在反射显示区中形成外周部被隔壁部隔开的相位差膜。因此，抑制了相位差膜的外周部的膜厚变化，能够降低因该外周部的相位差值的变化而引起的漏光。此外，能够防止该漏光泄漏到透射显示区中。即，能够制造在反射显示模式及透射显示模式的任何一个中都能够得到规定的对比、图像质量好的液晶装置。
[适用例9]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，其特征在于，还包括滤色片形成工序，在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域中形成具有多个颜色的滤色元件的滤色片；上述隔壁部形成工序，以超过上述滤色元件的膜厚的高度形成上述隔壁部；上述相位差膜形成工序形成上述相位差膜，以使其层叠在由上述隔壁部区分的上述反射显示区的上述滤色元件上。
根据此方法，在隔壁部形成工序中，形成隔壁部，以便同时区分滤色元件和相位差膜。因此，与相对于滤色元件及相位差膜分别形成隔壁部的情形相比，能够简化制造工序。
[适用例10]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，还可以包括滤色片形成工序，在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域中形成具有多个颜色的滤色元件的滤色片；上述隔壁部形成工序，以超过上述相位差膜的膜厚的高度形成上述隔壁部；上述滤色片形成工序形成上述滤色元件，以使其层叠在由上述隔壁部区分的上述反射显示区的上述相位差膜上。
根据此方法，在反射显示区中将滤色元件层叠在相位差膜之上。因此能够形成滤色元件作为相位差膜的保护层。
[适用例11]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选上述滤色片形成工序，将含滤色元件形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域上，固化涂敷的上述液状体，由此，形成上述滤色元件。
根据此方法，由于使用液滴喷出法形成滤色元件，所以与光刻法(photolithography)相比，在不需要掩膜类的同时还减少滤色元件形成材料的浪费，能够高效地形成滤色元件。
[适用例12]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选还包括取向膜形成工序，在形成上述相位差膜前形成规定上述相位差膜的相位迟滞轴方向的取向膜。
根据此方法，在取向膜形成工序中，形成规定相位差膜的相位迟滞轴方向的取向膜，能够形成相位迟滞紊乱少的相位差膜。此外，由于利用取向膜规定相位差膜的相位迟滞轴的方向，所以能够选择各种各样的相位差膜形成材料。
[适用例13]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选上述取向膜形成工序，将含光硬化性的取向膜形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上，在使涂敷的上述液状体干燥后通过照射光使其硬化，形成上述取向膜。
根据此方法，使用液滴喷出法，能够仅在反射显示区中选择性地形成取向膜。即，与通过多个像素区域形成规定相位差膜的相位迟滞轴方向的取向膜的情形相比，能够减少取向膜形成材料的浪费。
[适用例14]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选上述相位差膜形成工序，包括：涂敷工序，将含相位差膜形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上；以及成膜工序，固化涂敷的上述液状体，形成上述相位差膜。
根据此方法，使用液滴喷出法，能够仅在反射显示区中选择性地形成取向膜。即，与对于一对基板之中的一个基板整面地涂敷相位差膜形成材料进行构图的情形相比，在简化制造工序的同时还能够减少相位差膜形成材料的浪费。
[适用例15]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，上述涂敷工序，使对应上述反射显示区中的至少1个颜色的显示颜色涂敷的上述液状体的涂敷量与对应另一显示颜色的上述液状体的涂敷量不同也是可以的。
根据此方法，能够使对应至少1个颜色的显示颜色形成的相位差膜的膜厚与对应另一显示颜色形成的相位差膜的膜厚相比不相同。即，能够按照显示颜色的波长设定最佳的相位差膜的膜厚，能够制造图像质量更好的液晶装置。
[适用例16]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，也可以还包括液晶层厚度调整层形成工序，按照在由上述隔壁部区分的上述反射显示区内的上述相位差膜上层叠的方式，形成用于调整上述反射显示区的上述液晶层的厚度的液晶层厚度调整层。
根据此方法，通过设置液晶层厚度调整层形成工序，即使因相位差膜形成材料不同而得到规定相位差值的膜厚不同，或因显示颜色不同相位差膜的膜厚不同，通过形成液晶层厚度调整层也能够在反射显示区中确保规定的液晶层的厚度。
[适用例17]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选上述液晶层厚度调整层形成工序，形成上述液晶层厚度调整层，以使上述反射显示区的上述液晶层的厚度为上述透射显示区的上述液晶层的厚度的一半。
根据此方法，能够用相位差膜进行补偿，使透射显示区中的透射光的相位和在反射显示区中具有成倍的光路的反射光的相位相同。即，消除了相对于透射光的反射光的相位的偏移，能够制造图像质量好的液晶装置。
[适用例18]在上述适用例的液晶装置的制造方法中，优选上述液晶层厚度调整层形成工序，将含液晶层厚度调整层形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上，固化涂敷的上述液状体，由此，形成上述液晶层厚度调整层。
根据此方法，使用液滴喷出法，能够仅在反射显示区中选择性地形成液晶层厚度调整层。即，与对于一对基板之中的一个基板整面地涂敷液晶层厚度调整层形成材料进行构图的情形相比，在简化制造工序的同时还能够减少液晶层厚度调整层形成材料的浪费。
[适用例19]本适用例的电子设备，其特征在于，包括：上述适用例的液晶装置，或使用上述适用例的液晶装置的制造方法制造的液晶装置。
根据此结构，由于具备图像质量好、简化制造工序的液晶装置，所以能够提供具有竞争力的电子设备。
附图说明
图1是表示实施方式1的液晶装置的电结构的等效电路图。
图2是表示像素的构造的概括平面图。
图3(a)是表示由图2的A-A′截断的液晶装置的结构的剖面图，(b)是表示由图2的B-B′截断的液晶装置的结构的剖面图。
图4是表示液晶装置的光学设计条件的1例的概括图。
图5是表示液晶装置的制造方法的流程图。
图6(a)～(e)是表示液晶装置的制造方法的概括剖面图。
图7(f)～(j)是表示液晶装置的制造方法的概括剖面图。
图8是表示评价液状体中的溶质的溶解性的结果的表。
图9是表示液状体的涂敷量和膜厚的关系的曲线图。
图10是表示实施方式2的液晶装置的结构的概括剖面图。
图11是表示作为电子设备的携带型电话机的概括斜视图。
图12(a)及(b)是表示隔壁部的排列的概括平面图。
符号说明
4R、4G、4B…含滤色元件形成材料的液状体
5…含取向膜材料的液状体
6…含相位差膜形成材料的液状体
7…含单元厚度调整层形成材料的液状体
10…作为一对基板之一的元件基板
20…作为一对基板之一的相对基板
22…滤色片
22R、22G、22B…滤色元件
23…取向膜
26、26R、26G、26B…相位差膜
27、27R、27G、27B…单元厚度调整层
50…液晶层
61…隔壁部
61a…作为由隔壁部区分的区域的开口部
100…液晶装置
200…液晶装置
300…作为电子设备的携带型电话机
R…反射显示区
SG…子像素
T…透射显示区
具体实施方式
下面按照附图，说明将本发明具体化了的实施方式。
(实施方式1)
<液晶装置>
首先，说明本实施方式的液晶装置。图1是表示液晶装置的电结构的等效电路图。
如图1所示，本实施方式的液晶装置100，具有多个子像素SG。各子像素SG具有像素电极9、共用电极19、以及用于开关控制像素电极9的TFT(Thin Film Transistor)30。在像素电极9和共用电极19之间插入液晶层50。共用电极19与从扫描线驱动电路90延伸过来的共用线3b电连接，就会在各子像素SG中保持在共同的电位。
从数据线驱动电路70延伸过来的数据线6a与TFT 30的源极电连接。数据线驱动电路70，通过数据线6a将图像信号S1、S2、…、Sn提供给各子像素SG。既可以按此顺序线顺序地提供上述像素信号S1～Sn，也可以按每组对彼此相邻接的多个数据线6a提供上述图像信号S1～Sn。
此外，在TFT 30的栅极上电连接自扫描线驱动电路90延伸过来的扫描线3a。自扫描线驱动电路90以规定的计时按脉冲方式提供给扫描线3a的扫描信号G1、G2、…、Gm，会按此顺序线顺序地施加给TFT 30的栅极。像素电极9电连接到TFT 30的漏极。
作为开关元件的TFT 30，按照扫描信号G1、G2、…、Gm的输入仅在固定期间成为导通状态，由此，从数据线6a提供的图像信号S1、S2、…、Sn就会在规定的计时中被写入像素电极9。在像素电极9和隔着液晶相对的共用电极19之间固定期间保持通过像素电极9写入液晶的规定电平的图像信号S1、S2、…、Sn。
图2是表示像素的构造的概括平面图。如图2所示，液晶装置100具有由对应R(红)、G(绿)、B(蓝)3色的滤色片22R、22G、22B的3个子像素SG构成的多个像素。在各子像素SG中，设置具有以近似梯子状形成的多个缝隙(间隙)29的矩形的像素电极9。包围像素电极9的外周，配置扫描线3a、共用线3b和多个数据线6a。
在扫描线3a和数据线6a的交叉部附近形成TFT 30，TFT 30与数据线6a及像素电极9电连接。此外，在俯视下与像素电极9几乎重合的位置形成矩形形状的共用电极19。
像素电极9是由ITO等透明导电材料制成的导电膜。在1个子像素SG的像素电极9上形成17条缝隙29。各缝隙29向与扫描线3a及数据线6a双方交叉的方向(图中倾斜的方向)延伸，在Y轴方向中等间隔地排列而形成。各缝隙29以大致相同的宽度形成，彼此平行。由此，像素电极9，就具有多条(图示中16条)的带状电极部9c。由于缝隙29具有固定的宽度等间隔地排列着，所以，带状电极部9c也具有固定的宽度等间隔地排列着。在本实施方式中，缝隙29的宽度和带状电极部9c的宽度全都为4μm。
共用电极19用由ITO等透明导电材料制成的俯视下近似矩形形状的透明共用电极19t和由铝和银等具有光反射性的金属材料制成的俯视下近似矩形形状的反射共用电极19r构成。透明共用电极19t和反射共用电极19r在彼此的边末端电连接。
反射共用电极19r和与扫描线3a平行地延伸的共用线3b一体地形成。因此，由透明共用电极19t和反射共用电极19r构成的共用电极19与共用线3b电连接。
反射共用电极19r的形成区域构成该子像素SG的反射显示区R，透明共用电极19t的形成区域构成透射显示区T。即，液晶装置100中，反射共用电极19r作为反射层起作用，在各子像素SG内具备反射显示区R和透射显示区T。
再有，也可以使用不同的导电膜形成共用线3b和反射共用电极19r，电连接它们。作为此方法，可列举如下方法，隔着层间绝缘膜在不同的布线层上形成反射共用电极19r和共用线3b，通过在层间绝缘膜上开口的接触孔连接两者。此外，可以覆盖反射共用电极19r形成透明共用电极19t。
TFT 30包括：部分形成在扫描线3a上的岛状的由非晶硅膜形成的半导体层35，分支数据线6a向半导体层35上延伸的源电极31，以及自半导体层35上向像素电极9的形成区域延伸的矩形形状的漏电极32。
扫描线3a在与半导体层35相对的位置作为TFT 30的栅电极起作用。漏电极32和像素电极9通过在两者平面地重合的位置处形成的像素接触孔47电连接。
再有，在图示的子像素SG中，由于像素电极9和共用电极19俯视下重合的区域作为该子像素SG的电容起作用，所以不需要为了保持图像信号而在子像素SG的形成区域内设置另外的保持电容，就能够得到高的开口率(aperture ratio)。
参照图3，进一步详细地说明液晶装置100的构造。图3是表示液晶装置的构造的概括剖面图。详细地说，同图(a)是由图2的A-A′线截断的剖面图，同图(b)是由图2的B-B′线截断的剖面图。
如图3(a)所示，液晶装置100用作为一对基板的相对基板20，和具有像素电极9及共用电极19的元件基板10来夹持液晶层50。相对基板20包括滤色片22，以及按每一子像素SG(每一颜色)区分滤色片22(滤色元件22G)的隔壁部61。在滤色片22上(液晶层50侧)对应反射显示区R选择性地形成相位差膜26(26G)和作为液晶层厚度调整层的单元厚度调整层27(27G)。设置隔壁部61，以便还区分这些相位差膜26、单元厚度调整层27。因此，相比于透射显示区T的单元厚度(液晶层50的厚度)d减薄反射显示区R的单元厚度，在本实施方式中，大约为d/2，即一半。
像这样，在进行反射显示的液晶装置100中，光学设计上，有必要使在进行反射黑显示(reflective black display)时到达反射共用电极19r的外部光在所有的可见波长区域中为近似圆偏振光。这是因为当到达反射共用电极19r的外部光是椭圆偏振光时，在黑显示中产生着色，很难得到高对比的反射显示。
因此，在本实施方式中，在由隔壁部61区分的反射显示区R中选择性地形成相位差膜26和单元厚度调整层27，以便使得反射显示区R中的单元厚度相比于透射显示区T变薄。由此，能够用上偏振片24、相位差膜26和反射显示区R内的液晶层50制作出宽频带圆偏振光，使到达反射共用电极19r的外部光在所有的可见波长区域中接近圆偏振光。
在由透明的玻璃等制成的元件基板10上形成扫描线3a、共用电极19及共用线3b。覆盖这些扫描线3a、共用电极19及共用线3b形成由氧化硅薄膜等制成的绝缘薄膜11。在绝缘薄膜11上形成：构成TFT 30的岛状的半导体层35，与半导体层35一部分重合的源电极31(数据线6a)，以及漏电极32。覆盖这些半导体层35、源电极31及漏电极32，形成由氧化硅薄膜和树脂膜制成的层间绝缘膜12。在层间绝缘膜12上形成像素电极9，通过贯通层间绝缘膜12到达漏电极32的像素接触孔47电连接像素电极9和漏电极32。共用电极19中的透明共用电极19t和反射共用电极19r的边界，正好位于隔开透射显示区T和反射显示区R的隔壁部61的正下方。
覆盖像素电极9形成由聚酰亚胺等制成的取向膜18。对取向膜18实施摩擦处理(rubbing)等取向处理就能以规定方向对液晶进行取向。在本实施方式中，通过取向膜18的取向调整方向，是与扫描线3a的延伸方向平行、与像素电极9的缝隙29的延伸方向交叉的方向。
与元件基板10相同，在由透明的玻璃等制成的相对基板20上，面向液晶层50侧形成：滤色片22(滤色元件22G)、取向膜23、相位差膜26(26G)、单元厚度调整层27(27G)、区分这些各构成要素的隔壁部61、以及取向膜28。此外，在相对基板20的表面(相对于液晶层50侧相反侧的表面)上粘贴有上偏振片24。上偏振片24及元件基板10侧的下偏振片14的光学的排列成为正交偏光关系(クロスニコル：crossed Nicol relation)。
隔壁部61也称为黑矩阵(BM：Black Matrix)。例如，它的形成方法可列举利用胶版印刷(offset printing)等印刷法在相对基板20的表面上将含黑色颜料等的树脂材料作为遮光性材料来进行构图的方法。此外，如果选择具有感光性的材料作为上述树脂材料，则可以利用光刻法对整面涂敷的上述树脂材料进行构图。在本实施方式中，调整隔壁部61的高度，以便区分滤色片22(滤色元件22G)、取向膜23、相位差膜26(26G)、单元厚度调整层27(27G)。因此，也可以通过历经数次进行层叠来形成，以便达到膜厚。此外，优选考虑元件基板10和相对基板20的组装时的Y轴方向的位置精度来决定隔开透射显示区T和反射显示区R的隔壁部61的Y轴方向中的长度(换言之宽度)，以便能使透明共用电极19t和反射共用电极19r的边界位于该隔壁部61的正下方。
按照将含各色的滤色元件形成材料(着色材料)的树脂材料添埋上述隔壁部61的开口部的方式来形成滤色片22。作为形成方法，可列举使用液滴喷出法(喷墨法)涂敷含上述树脂材料的液状体，使涂敷的液状体干燥来形成滤色片22的方法。如果使用这样的液滴喷出法，则与使用光刻法来形成的情形相比，能够不浪费地在由隔壁部61区分的子像素区域上涂敷所需量的上述液状体。此外，不需要光掩膜(photomask)，能够节省曝光·显影等制造工序。
对应反射显示区R在滤色片22上选择性地形成相位差膜26。相位差膜26对透射相位差膜26的光赋予大致1/2波长(λ/2)的相位差(延迟)，是设置在由一对基板夹持液晶层50的单元的内面侧的所谓内置相位差膜。
使用液滴喷出法(喷墨法)在形成在由隔壁部61区分的反射显示区R中的取向膜23上涂敷作为相位差膜形成材料的含聚合性液晶化合物的液状体(有机溶液)，通过在按规定方向取向的状态下进行固化的方法来形成相关的相位差膜26。详细地，利用后述的液晶装置的制造方法进行说明。
再有，调整聚合性液晶化合物的取向方向(相位差膜26的相位迟滞轴的方向)的取向膜23，能够使用与面向液晶层50的取向膜18、28相同的膜材料。在此情况下，摩擦取向膜23的表面，决定取向方向(相位迟滞轴的方向)。此外，不限于取向膜23，还有在滤色片22的表面上斜着蒸发氧化硅等的方法，和涂敷感光性取向膜材料，通过照射偏振光紫外线，进行光取向的方法等。在本实施例中，由于优选在由隔壁部61区分的区域中选择性地形成取向膜23，所以与相位差膜26的形成方法相同地，采用使用液滴喷出法涂敷含感光性取向膜材料的液状体的方法。
对透射相位差膜26的光赋予的相位差的值(以后称为相位差值)，能够根据作为此构成材料的聚合性液晶化合物的种类、和相位差膜26的层厚来调整。在本实施方式中，规定相位差膜26的目标的相位差值与透射显示区T中的液晶层50的相位差值(λ/2)相等。再有，波长λ以550nm为基准，通过将单元厚度d乘以液晶分子的双折射率Δn就能够求出液晶层50的相位差值。因此，反射显示区R的液晶层50的相位差值为λ/4。
如图3(b)所示，在由对应3色(R、G、B)的滤色片22的各子像素SG的隔壁部61区分的反射显示区R中设置相位差膜26及单元厚度调整层27。
虽然滤色片22中的各色的滤色元件22R、22G、22B的膜厚几乎相同，但形成在每一滤色元件22R、22G、22B上的相位差膜26的膜厚此情况下按每一颜色而不同。具体地，为相位差膜26R>相位差膜26G>相位差膜26B的顺序。这考虑了每一滤色元件22R、22G、22B的吸收波长，为了赋予最佳的相位差值而按每一颜色使相位差膜22的膜厚不同。由此，能够改善彩色显示中的色纯度。
因此，如前所述，为了使反射显示区R中的单元厚度为d/2，就需要按每一颜色使单元厚度调整层27的层厚不同。具体地，规定单元厚度调整层27的层厚为单元厚度调整层27B>单元厚度调整层27G>单元厚度调整层27R的顺序。如果对至少1个颜色(显示颜色)的滤色元件进行这样的相位差膜26、单元厚度调整层27的厚度的调整，就取得相当的效果。
优选单元厚度调整层27具有透光性和各向同性的树脂材料。优选具有物理的强度来作为覆盖相位差膜26的保护层。例如，适于使用丙烯酸类的树脂材料。在本实施方式中，由于在由隔壁部61区分的区域中选择性地形成单元厚度调整层27，所以同样优选采用液滴喷出法。在此情况下，使用作为单元厚度调整层形成材料的含上述树脂材料的液状体。
接着，总结光学设计的条件说明上述液晶装置100。图4是表示液晶装置的光学设计条件的1例的概括图。如图4所示，液晶装置100的光学设计条件为，上偏振片24的偏振轴和下偏振片14的偏振轴正交。设置在反射显示区R中的相位差膜26的相位迟滞轴，相对上偏振片24的偏振轴以22.5度的角度交叉。设定相位迟滞轴以使其相对设置在像素电极9上的缝隙29(参照图2)以45度的角度交叉。液晶层50中的液晶分子的相位迟滞轴的取向方向，在像素电极9和共用电极19之间没有施加规定的驱动电压的OFF状态下，相对于下偏振片14的偏振轴成为平行的状态。在像素电极9和共用电极19之间施加规定的驱动电压的ON状态下，就会相对于上偏振片24的偏振轴以45度的角度交叉。由此，在OFF状态下，由于透射下偏振片14偏振的透射光(直线偏振光)，在液晶层50中被赋予λ/2的相位，透射光的振动方向转换成与上偏振片24的偏振轴正交的方向(变为与吸收轴平行)，所以被遮光。另一方面，在反射显示区R中透射上偏振片24偏振的入射光(直线偏振光)，通过相位差膜26和液晶层50被分别赋予λ/2和λ/4的相位，在可见波长的几乎整个区域中变为近似圆偏振光并射入反射共用电极19r。由于由反射共用电极19r反射的反射光，再次射入上偏振片24时转换为相对于上偏振片24的偏振轴垂直的偏振光，所以不透光。因此，成为所谓的黑显示状态(常态黑：normally black)。在ON状态下，由于液晶分子的相位迟滞轴的取向方向相对于上偏振片24及下偏振片14分别成为45度，所以透射滤色片22的透射光及反射光的振动方向与上偏振片24的偏振轴平行，透射上偏振片24。因此，成为对应滤色元件22R、22G、22B的颜色的彩色显示状态。
在上文中，本实施方式的液晶装置100是一种被称为所谓FFS(FringeField Switching)方式的液晶装置，在该FFS方式中，在每一子像素SG中具有透射显示区T和反射显示区R，且对应反射显示区R在单元内具有相位差膜26。使光学设计最佳化，在由隔壁部61区分的反射显示区R中形成相位差膜26。因此，抑制了相位差膜26的外周部的相位差值的变化，难以影响显示。因此，实现减少了因黑显示时的相位差膜26的外周部的漏光而引起的对比下降的透射显示及反射显示。
<液晶装置的制造方法>
接着，说明本实施方式的液晶装置的制造方法。图5是表示液晶装置的制造方法的流程图，图6(a)～(b)及图7(f)～(j)是表示液晶装置的制造方法的概括剖面图。
如图5所示，本实施方式的液晶装置100的制造方法包括：形成隔壁部61的隔壁部形成工序(步骤S1)，和在由隔壁部61区分的区域中形成滤色片22的滤色片形成工序(步骤S2)。包括：形成作为第1取向膜的取向膜23的第1取向膜形成工序(步骤S3)，涂敷含相位差膜形成材料的液状体的涂敷工序，以及使涂敷的液状体干燥而形成相位差膜的相位差膜形成工序(步骤S4)。此外，包括在形成的相位差膜26上形成单元厚度调整层27的单元厚度调整层形成工序(步骤S5)，形成作为第2取向膜的取向膜28的第2取向膜形成工序(S6)，以及在元件基板10和相对基板20之间填充液晶进行组装的液晶填充组装工序(步骤S7)。
图5的步骤S1是隔壁部形成工序。在步骤S1，如图6(a)所示，形成具有多个开口部61a的隔壁部61。具体地，可列举使用胶版印刷等印刷法在相对基板20的表面上涂敷·构图具有遮光性的隔壁部形成材料的方法，按规定的膜厚涂敷具有感光性的隔壁部形成材料，通过进行曝光·显影来构图隔壁部61的方法。形成隔壁部61，以便区分上述子像素SG进行开口，并且还隔开反射显示区R和透射显示区T(参照图3)。调整隔壁部61的膜厚即高度h，以使其成为可区分以后形成的滤色片22的各滤色元件22R、22G、22B，取向膜23，相位差膜26，单元厚度调整层27的高度。然后，进入步骤S2。
图5的步骤S2是滤色片形成工序。在步骤S2中，首先如图6(b)所示，分别在所希望的开口部61a(换言之，子像素区域)中涂敷含滤色元件形成材料的3色的液状体4R、4G、4B。本实施方式中，在互不相同的喷头1R、1G、1B中填充3色的液状体4R、4G、4B，通过相对地扫掠各喷头1R、1G、1B和相对基板20，作为液滴从设置在各喷头1R、1G、1B上的多个喷嘴2中喷出。既可以几乎同时地喷出3色的液状体4R、4G、4B，也可以单个地喷出。如果采用例如喷墨头作为喷头1R、1G、1B，就能够在所希望的开口部61a中分别高精度地且没有浪费的涂敷所需量的液状体4R、4G、4B。
再有，优选在涂敷液状体4R、4G、4B之前，对形成隔壁部61的相对基板20的涂敷面进行亲液处理，对隔壁部61进行疏液处理。作为亲液处理的方法，可列举以氧气为处理气体的等离子体处理。此外，作为疏液处理的方法，可列举以CF4为处理气体的等离子体处理。通过实施这样的表面处理，就能够均匀地将液状体4R、4G、4B涂敷到开口部61a内。
接着，通过干燥涂敷的液状体4R、4G、4B，去除溶剂成分，就能够如图6(c)所示，按各自规定的膜厚(大约1.5～2μm)形成对应红(R)的滤色元件22R，对应绿(G)的滤色元件22G，对应蓝(B)的滤色元件22B。然后，进入步骤S3。
图5的步骤S3是第1取向膜形成工序。在步骤S3中，如图6(d)所示，首先，在由隔壁部61区分的反射显示区R的滤色元件上涂敷含感光性取向膜形成材料的液状体5。与滤色片形成工序相同，在喷头1中填充上述液状体5，通过相对地扫掠喷头1和相对基板20，作为液滴从设置在喷头1上的多个喷嘴2中喷出。虽然未图示，但隔壁部61区分反射显示区R和透射显示区T，在透射显示区T中，不需要喷出液状体5。
接着，如图6(e)所示，使涂敷的液状体5干燥，通过照射偏振光紫外线(用箭头标记图示)，一面进行光取向一面进行硬化。由此，在反射显示区R中形成取向膜23。再有，作为感光性取向膜材料，例如可列举聚酰亚胺类的感光性树脂材料。然后，进入步骤S4。
图5的步骤S4是相位差膜形成工序。在步骤S4中，首先，如图7(f)所示，在由隔壁部61区分的反射显示区R上涂敷含相位差膜形成材料的液状体6(涂敷工序)。此时也采用液滴喷出法(喷墨法)，在喷头1中填充上述液状体6，通过相对地扫掠喷头1和相对基板20，作为液滴从设置在喷头1上的多个喷嘴2中喷出。再有，由于考虑到取向膜23的表面相对液状体6呈现出疏液性，所以优选实施上述那样的亲液处理。
在上述涂敷工序中，对应各滤色元件22R、22G、22B使液状体6的涂敷量互不相同。如果使用液滴喷出法，则能够将所希望量的液状体6作为液滴向所希望的区域喷出。
接着，如图7(g)所示，通过使涂敷的液状体6干燥，进行固化，来形成膜厚互不相同的各相位差膜26R、26G、26B(成膜工序)。此时，以相位差膜26G的相位差值为基准设定膜厚(涂敷量)。相位差膜26G的膜厚大约是1.5～2μm，相位差值大约是265～275nm。相位差膜26R的膜厚设定得比它厚，相位差膜26B的膜厚设定得比它薄。再有，毫无疑问，根据相位差膜形成材料的选择来左右这些的膜厚的设定。
作为使用聚合性液晶化合物作为相位差膜形成材料的情形的例子，可列举BASF制的Paliocolor LC242等。LC242是光聚合类型的材料。下面，针对液状体6的组成说明使用上述LC242的实施例。
(实施例)
相位差膜形成材料：LC242，浓度30wt％。
光聚合开始剂：2-甲基-1[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮，具体地，汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals Ltd.)制的Irgacure 907，相对LC242的添加量为3wt％。
溶剂：PGMEA：2-乙酰氧基-1-甲氧基丙烷，浓度70wt％。
作为溶质的LC242，相对作为溶剂的PGMEA在室温下难以溶解。因此，将溶质加入加温到大约70℃的溶剂中搅拌，评价其溶解性。图8是表示评价液状体中的溶质的溶解性的结果的表。
如图8所示，在溶质浓度为30～50wt％下，在70℃下使其溶解后，在室温下即使放置100H(小时)也无溶质析出。在溶质浓度为60～70wt％下，一度在70℃下溶解，在室温下放置24H就会析出。在溶质浓度为80wt％下，同样地室温放置8H引起溶质析出。在溶质浓度为90wt％下，即使在加温到70℃的溶剂中也不溶解。因此，考虑作为液状体6的稳定性时，优选溶质浓度为50wt％以下。为了使用液滴喷出法进行喷出，由于希望将粘度调整到3mPa·s以上，20mPa·s以下，所以，在本实施例中，设溶质浓度为30wt％。此时的粘度大约是10mPa·s。
使用这样的液状体6，按每1滴的喷出量为约10ng喷出。然后，加热涂敷了液状体6的相对基板20，使液状体6干燥。作为干燥的方法，可列举将相对基板20放置在加热的热板(hot plate)上的方法，和使用干燥炉的方法。例如，在放置在加热到70℃的热板上的情况下，能够以几十秒使其干燥。
通过对经干燥得到的薄膜以400mJ/cm2的条件照射主要的波长为365nm的紫外线，就能够引起光聚合成膜相位差膜26。再有，进行紫外线照射时，优选在氮(N2)气氛下进行。由此，能够减少因大气中的氧(O2)的影响而阻碍光聚合的情形。
图9是表示液状体的涂敷量和膜厚的关系的曲线图。如图9所示可知，如果以上述实施例的液状体6的涂敷量为1.0～6.0μg/mm2的范围进行涂敷，则可将相位差膜26的膜厚控制在1.5～4.5μm的范围内。
如果使用这样的液状体6，通过按滤色片的每一颜色调整涂敷量，就能够形成图7(g)所示这样的膜厚不同的各相位差膜26R、26G、26B。通过将相位差膜形成材料的双折射率Δn和膜厚t相乘就赋予相位差值。例如，相位差值为λ/2的情形，如果相位差膜形成材料的双折射率Δn为0.14，则通过使相位差膜26R的膜厚为2.32μm，就能够得到红(R)的波长650nm的一半的值的相位差值325nm。同样地，如果相位差膜26G的膜厚为1.96μm，则可得到绿(G)的波长550nm的一半的值的相位差值275nm。如果相位差膜26B的膜厚为1.61μm，则可得到蓝(B)的波长450nm的一半的值的相位差值225nm。
光聚合开始剂不限定于此。由于按紫外线的波长的不同光聚合开始剂的紫外线吸收特性不同，所以优选考虑紫外线照射装置的波长特性选择光聚合开始剂的同时，还调整相对相位差膜形成材料的添加量。毫无疑问，当然考虑相位差膜形成材料的化学的结构选择光聚合开始剂。
相位差膜形成材料不限定于上述光聚合类型的聚合性液晶化合物。例如，也可以采用热聚合类型。热聚合类型的情形，与利用所谓光刻法形成相位差膜26的情形相比，由于不使用具有容易着色的感光基的感光性材料就可实现，所以经过成膜后形成透明的相位差膜26成为可能。另一方面，由于进行热聚合，所以优选考虑因加热而在膜厚中产生偏差，来设定加热条件。然后，进入步骤S5。
图5的步骤S5是单元厚度调整层形成工序。在步骤S5中，首先，如图7(h)所示，在由隔壁部61区分的反射显示区R上涂敷含单元厚度调整层形成材料的液状体7。此情形也使用液滴喷出法(喷墨法)，在喷头1中填充上述液状体7，通过相对地扫掠喷头1和相对基板20，作为液滴从设置在喷头1上的多个喷嘴2中喷出。
作为单元厚度调整层形成材料，如前所述使用光硬化型的丙烯酸类树脂材料。按各相位差膜26R、26G、26B中的每一个使液状体7的涂敷量不同，以便在各开口部61a中成膜后使表面变得平坦。
接着，如图7(i)所示，照射紫外线进行硬化，分别形成单元厚度调整层27R、27G、27B。再有，设定单元厚度调整层27的厚度，以使单元组装后的反射显示区R中的单元厚度为透射显示区T的单元厚度d的一半。然后，进入步骤S6。
图5的步骤S6是第2取向膜形成工序。在步骤S6中，如图7(j)所示，形成作为第2取向膜的取向膜28以便覆盖隔壁部61和单元厚度调整层27R、27G、27B。作为取向膜28的形成方法，为涂敷作为取向膜材料的含聚酰亚胺和聚酰胺酸的有机溶液，通过进行去除溶剂成份的干燥·焙烧来成膜化。作为涂敷方法，可列举旋涂(spin coating)、细缝涂布(slitcoating)等方法，和胶版印刷等印刷法、液滴喷出法。成膜化后的取向膜28，对其表面按固定的方向进行摩擦处理。然后进入步骤S7。
图5的步骤S7是液晶填充组装工序。在步骤S7中，如图3(a)及(b)所示，使形成了像素构成要素(像素电极9、共用电极19等)的元件基板10，和相对基板20在规定的位置互相面对，通过密封材料进行粘接。在元件基板10和相对基板20之间填充液晶，成为液晶层50。作为填充液晶的方法，在一对基板的一个上通过印刷法和喷出法画框状地形成密封材料。列举如下方法，将密封材料作为承接器皿，在真空中滴下所需量的液晶，之后，与另一基板粘接。作为密封材料，例如适于采用热硬化型的环氧类粘接剂。再有，设定液晶层50的厚度，以使单元组装后的反射显示区R中的液晶层50的厚度变为透射显示区T的液晶层50的厚度d的一半。
通过在这样得到的单元的表背面粘贴上偏振片24和下偏振片14就能完成液晶装置100。再有，液晶装置100与驱动其的驱动电路连接，在元件基板10的背面侧配备使用用于对其照明的照明装置。照明装置包括：作为光源的LED和冷阴极管、将来自光源的光导向液晶装置100的导光板等。
根据上述液晶装置100的制造方法，滤色片形成工序(步骤S2)、第1取向膜形成工序(步骤S3)、相位差膜形成工序(步骤S4)、单元厚度调整层形成工序(步骤S5)至少使用液滴喷出法进行制造。因此，在这些工序中，与使用光刻法的情形相比，能够简化制造工序。此外，可分别不浪费地使用各液状体4、5、6、7形成所希望的薄膜。并且，由于相位差膜26被具有遮光性的隔壁部61区分，所以抑制了相位差膜26的外周部的相位差值的变化，难以产生漏光，此外，还防止了该漏光泄漏到透射显示区T。因此，能够制造图像质量好的液晶装置100。
(实施方式2)
接着，参照图10说明另一液晶装置。图10是表示实施方式2的液晶装置的概括剖面图。再有，实施方式2的液晶装置，具有与上述实施方式1的液晶装置100相同的等效电路的结构和元件基板10的结构，但相对基板20的结构不同。因此，对于与上述实施方式1相同的结构的部分使用相同的符号表示。
如图10所示，本实施方式的液晶装置200，具有在由相对基板20的隔壁部61区分的反射显示区R中面向液晶层50顺序层叠取向膜23、相位差膜26(26G)、滤色片22(滤色元件22G)的结构。即，在反射显示区R的相位差膜26(26G)上层叠滤色元件22G。
考虑到按照形成相位差膜26的材料的选择，形成的相位差膜26的物理的特性，例如表面硬度变低。此情况下，不耐用于对液晶分子进行取向的摩擦等的取向处理，会产生刮削相位差膜26等的不适合。此外，在相位差膜26中含有离子成份等杂质的时候，担心即使覆盖取向膜28，随时间经过，杂质也会扩散进液晶层50中，使光学特性变化。在上述实施方式1的液晶装置100中，设置单元厚度调整层27以便覆盖相位差膜26。单元厚度调整层27具有作为防止上述这样的不适合的保护层的功能。
在液晶装置200中，通过在相位差膜26之上设置滤色元件22G，就赋予滤色元件22G作为上述保护层的功能。因此，与液晶装置100相比成为更简化的结构。
这样的液晶装置200的制造方法，在上述实施方式1的液晶装置100的制造方法中，改变步骤S1～S4的顺序，去除步骤S5的单元厚度调整层形成工序即可。即，在相对基板20中形成隔壁部61后，在反射显示区R中形成取向膜23。接着，在反射显示区R中形成相位差膜26后，形成滤色片22即可。这些各工序，由于任何一个都使用液滴喷出法(喷墨法)，所以能够在反射显示区R中选择性地形成取向膜23、相位差膜26、滤色片22。毫无疑问，在相位差膜形成工序中，可不需要单元厚度调整层27，进行材料选择和膜厚调整。
根据这样的液晶装置200的制造方法，就能够节省制造工序更有效地制造半透射反射型的液晶装置200。
(实施方式3)
接着，参照图11说明具备液晶装置的电子设备。图11是表示作为电子设备的携带型电话机的概括斜视图。
如图11所示，作为本实施方式的电子设备的携带型电话机300，具有包括操作用的输入部和显示部301的本体。在显示部301中装入上述液晶装置100或上述液晶装置200和对其进行照明的照明装置。因此，通过利用来自照明装置的透射光的透射显示，和利用外部光等的入射光的反射显示，就能够确认显示的信息。即，在屋外等足够明亮的环境下，不驱动照明装置，利用反射显示模式就能够确认信息。即，实现了省电、具有长的电池寿命的携带型电话机300。
携带型电话机300搭载有上述实施方式1的液晶装置100或上述实施方式2的液晶装置200，或者使用上述实施方式1的液晶装置100的制造方法制造出的液晶装置100，或使用实施方式2的液晶装置200的制造方法制造出的液晶装置200。因此，能够提供具有图像质量好的显示品质、性价比优良的携带型电话机300。
除上述实施方式外还可考虑各种各样的变化例。下面举例说明变化例。
(变化例1)在上述实施方式1的液晶装置100中，隔壁部61的排列不限于此。图12(a)及(b)是表示隔壁部的排列的概括平面图。在上述的实施方式1中，如图12(a)所示，以格子状设置隔壁部61，在区分各子像素SG(实质上各滤色元件22R、22G、22B)的同时，还在Y轴方向(同色的滤色元件以条纹状排列的方向)中，隔开反射显示区R和透射显示区T。相对于此，如同图(b)所示，在与Y轴方向正交的X轴方向中，结构也可以为隔开反射显示区R和透射显示区T的情形。像这样，如何利用隔壁部61隔开反射显示区R和透射显示区T，考虑子像素SG的形状和视角特性，决定更有效的反射显示区R和透射显示区T的排列即可。除此之外，在子像素SG内，可以岛状孤立地设置反射显示区R。
(变化例2)在上述实施方式1的液晶装置100中，隔壁部61、相位差膜26、单元厚度调整层27的排列不限于此。例如，在图3(a)及(b)中，在相对基板20侧设置滤色片22，在元件基板10侧配置隔壁部61、相位差膜26、单元厚度调整层27也是可以的。作为这样的结构也能得到同样的效果。此外，由于相对基板20侧的结构简单，所以作为具备滤色片22的原材料基板，可从外部制造厂调配。并且，单元厚度调整层27不是必需的，可以调整赋予λ/2的相位差值的相位差膜26的膜厚，以便相对于透射显示区T的单元厚度d，使反射显示区R的单元厚度为d/2。
(变化例3)在上述实施方式1的液晶装置100中，实现反射显示区R的子像素SG的结构，不限于具有光反射性的反射共用电极19r。例如，按俯视下与像素电极9相同的尺寸来设置透明共用电极19t，在透明共用电极19t的下层形成具有光反射性的反射层也是可以的。反射层的形成方法，可列举例如在具有多个凹凸的树脂层上成膜Al、Ag等的金属薄膜的方法。对应反射显示区R形成这样的反射层。据此，降低了由反射层反射的光的指向性，可实现更明亮的反射显示。
(变化例4)在上述实施方式1的液晶装置100中，3色的滤色元件22R、22G、22B的排列不限于条纹状方式。例如，在镶嵌方式的排列、三角形方式的排列中也能够应用上述实施方式1的相位差膜26的结构。再有，滤色片22不限于3色，可以为增加R、G、B以外的颜色的多色结构。此外，不设置滤色片22，在仅所谓白黑显示的半透射反射型的液晶面板中也可以应用。
(变化例5)上述实施方式1的液晶装置100及上述实施方式2的液晶装置200，不限于FFS方式的半透射反射型。例如，也能在IPS方式、VA(Vertical Alignment)方式的半透射反射型的液晶装置中应用。此外，开关元件不限于TFT 30，也可以是TFD(Thin Film Diode)元件。并且，不限于具备开关元件的主动方式，也可以应用于简单矩阵方式的液晶装置。
(变化例6)在上述实施方式1的液晶装置100的制造方法中，滤色片22的形成方法不限于使用液滴喷出法。也可以在利用光刻法形成滤色片22后，在滤色片22上形成隔壁部61。
(变化例7)在上述实施方式1的液晶装置100的制造方法中，规定相位差膜26的相位迟滞轴方向的取向膜23的形成方法不限于如下方法，即，使用液滴喷出法在开口部61a中涂敷液状体5，照射偏振光紫外线进行光取向。例如，也可以采用通过旋涂或辊涂(roll coating)涂敷含取向膜形成材料的液状体5进行构图的方法，或使用胶版印刷等印刷法进行构图的方法。
(变化例8)在上述实施方式1的液晶装置100的制造方法中，单元厚度调整层形成工序(步骤S5)不是必需的。例如，不用单元厚度调整也可以选择相位差膜形成材料来调整相位差膜26的膜厚。
(变化例9)在上述实施方式1的液晶装置100的制造方法中，按每一显示颜色使相位差膜26及单元厚度调整层27膜厚不同的结构不限于此。例如，相位差膜26及单元厚度调整层27的膜厚也可以与显示颜色无关，是相同的。据此，去除制造工序中的膜厚的调整过程，能够更加简化。
(变化例10)上述实施方式2的液晶装置200的制造方法不限于此。例如，首先在相对基板20上形成取向膜23，通过摩擦处理调整相位迟滞轴的方向。此后，使用胶版印刷和转印等印刷法形成隔壁部61。接着，在由隔壁部61区分的反射显示区R中形成相位差膜26。并且在由隔壁部61区分的子像素区域中形成滤色片22的各滤色元件22R、22G、22B也是可以的。据此，作为调整相位差膜26的相位迟滞轴方向的方法，能够使用摩擦处理，不被隔壁部61阻碍，能够使相位迟滞轴的方向稳定。
(变化例11)在上述实施方式3中，具备液晶装置100或液晶装置200的电子设备不限于携带型电话机300。例如也可以搭载在笔记本型个人电脑、电子记录簿、显示视频信息的阅读器和DVD播放器、携带型信息终端等电子设备上。

Claims (19)

1.一种液晶装置，其特征在于，包括：
一对基板，
被上述一对基板夹持的液晶层，
在1个像素区域内具有反射显示区和透射显示区的多个像素，以及
设置在上述反射显示区中的相位差膜；
上述相位差膜被设置在上述一对基板中的一个基板的上述液晶层侧，
在上述一个基板的上述液晶层侧设置区分上述相位差膜的遮光性的隔壁部。
2.根据权利要求1所述的液晶装置，其特征在于，
具备多个颜色的滤色元件的滤色片被设置在上述一个基板的上述液晶层侧，
上述隔壁部分别区分上述多个颜色的滤色元件，并且还区分上述相位差膜。
3.根据权利要求2所述的液晶装置，其特征在于，
设置在上述一个基板的上述反射显示区中的上述滤色元件，面向上述液晶层而层叠在上述相位差膜之上。
4.根据权利要求1或2所述的液晶装置，其特征在于，
在上述一个基板的上述液晶层侧设置有规定上述相位差膜的相位迟滞轴方向的取向膜。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的液晶装置，其特征在于，
与对应另一颜色的上述滤色元件而设置的上述相位差膜相比，对应上述多个像素的上述滤色元件的至少1个颜色而设置的上述相位差膜的膜厚不同。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的液晶装置，其特征在于，
在上述相位差膜和上述液晶层之间，调整上述反射显示区的上述液晶层的厚度的液晶层厚度调整层被设置在由上述隔壁部区分的上述反射显示区中。
7.根据权利要求6所述的液晶装置，其特征在于，
设置上述液晶层厚度调整层，以使上述反射显示区的上述液晶层的厚度为上述透射显示区的上述液晶层的厚度的一半。
8.一种液晶装置的制造方法，其中该液晶装置包括在1个像素区域内具有反射显示区及透射显示区的多个像素，其特征在于，该方法包括：
隔壁部形成工序，在一对基板之中的一个基板的表面上形成遮光性的隔壁部，以便分别区分多个上述像素区域，并且还将上述反射显示区和上述透射显示区隔开；
相位差膜形成工序，在由上述隔壁部区分的上述反射显示区中形成相位差膜；以及
组装工序，隔着液晶层粘接上述一对基板。
9.根据权利要求8所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，还包括：
滤色片形成工序，在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域中形成具有多个颜色的滤色元件的滤色片；
上述隔壁部形成工序，以超过上述滤色元件的膜厚的高度形成上述隔壁部，
上述相位差膜形成工序，形成上述相位差膜，以使其层叠在由上述隔壁部区分的上述反射显示区的上述滤色元件上。
10.根据权利要求8所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，还包括：
滤色片形成工序，在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域中形成具有多个颜色的滤色元件的滤色片；
上述隔壁部形成工序，以超过上述相位差膜的膜厚的高度形成上述隔壁部，
上述滤色片形成工序，形成上述滤色元件，以使其层叠在由上述隔壁部区分的上述反射显示区的上述相位差膜上。
11.根据权利要求9或10所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述滤色片形成工序，将含滤色元件形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述多个像素区域上，固化涂敷的上述液状体，由此，形成上述滤色元件。
12.根据权利要求8至10中任一项所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，还包括取向膜形成工序，在形成上述相位差膜之前形成规定上述相位差膜的相位迟滞轴方向的取向膜。
13.根据权利要求12所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述取向膜形成工序，将含光硬化性的取向膜形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上，在使涂敷的上述液状体干燥后通过照射光使其硬化，形成上述取向膜。
14.根据权利要求8至13中任一项所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述相位差膜形成工序，包括：涂敷工序，将含相位差膜形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上；以及成膜工序，固化涂敷的上述液状体，形成上述相位差膜。
15.根据权利要求14所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述涂敷工序，使对应上述反射显示区中的至少1个颜色的显示颜色而涂敷的上述液状体的涂敷量与对应另一显示颜色的上述液状体的涂敷量不同。
16.根据权利要求8至15中任一项所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，还包括液晶层厚度调整层形成工序，在由上述隔壁部区分的上述反射显示区中形成用于调整上述反射显示区的上述液晶层的厚度的液晶层厚度调整层。
17.根据权利要求16所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述液晶层厚度调整层形成工序形成上述液晶层厚度调整层，以使上述反射显示区的上述液晶层的厚度为上述透射显示区的上述液晶层的厚度的一半。
18.根据权利要求16或17所述的液晶装置的制造方法，其特征在于，上述液晶层厚度调整层形成工序，将含液晶层厚度调整层形成材料的液状体作为液滴，涂敷在由上述隔壁部区分的上述反射显示区上，固化涂敷的上述液状体，由此，形成上述液晶层厚度调整层。
19.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1至7中任一项所述的液晶装置，或使用权利要求8至18中任一项所述的液晶装置的制造方法来制造的液晶装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103323974B (zh) * 2012-03-21 2017-05-31 株式会社日本显示器 显示装置、其制造方法以及电子设备
CN108732806A (zh) * 2018-05-29 2018-11-02 上海天马微电子有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制造方法
CN112186120A (zh) * 2020-09-30 2021-01-05 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100969148B1 (ko) * 2003-05-30 2010-07-08 엘지디스플레이 주식회사 편광된 ｕｖ를 이용한 위상차 필름의 제조방법
WO2007089040A1 (en) * 2006-02-03 2007-08-09 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device and color film plate, and processes for producing the same
KR20100065615A (ko) * 2008-12-08 2010-06-17 삼성전자주식회사 액정 표시장치, 이를 위한 표시판 및 그 제조 방법
JP5077367B2 (ja) * 2010-01-28 2012-11-21 凸版印刷株式会社 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板、その製造方法、及び半透過型液晶表示装置
JP5548488B2 (ja) * 2010-03-10 2014-07-16 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル
JP5560865B2 (ja) * 2010-04-08 2014-07-30 凸版印刷株式会社 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板、その製造方法、及び半透過型液晶表示装置
JP5703819B2 (ja) * 2010-05-14 2015-04-22 Jsr株式会社 液晶表示素子、ポジ型感放射線性組成物、液晶表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
CN102662272A (zh) * 2012-04-12 2012-09-12 华映视讯（吴江）有限公司 半穿透半反射式液晶显示器及其液晶面板
KR101503908B1 (ko) * 2013-02-26 2015-03-19 한성희 광변조 유닛 및 이를 구비하는 입체 디스플레이장치
US10782552B2 (en) * 2017-08-01 2020-09-22 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display panel and display device

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4223992B2 (ja) 2004-05-25 2009-02-12 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP2006292847A (ja) 2005-04-06 2006-10-26 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
JP2006317799A (ja) 2005-05-13 2006-11-24 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置及び表示装置の製造方法
JP2007241071A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 反射透過型液晶表示装置
JP5055811B2 (ja) 2006-04-06 2012-10-24 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶ディスプレイ
JP4529941B2 (ja) 2006-05-15 2010-08-25 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP2009133948A (ja) * 2007-11-29 2009-06-18 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103323974B (zh) * 2012-03-21 2017-05-31 株式会社日本显示器 显示装置、其制造方法以及电子设备
CN108732806A (zh) * 2018-05-29 2018-11-02 上海天马微电子有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制造方法
CN112186120A (zh) * 2020-09-30 2021-01-05 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN112186120B (zh) * 2020-09-30 2022-10-14 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置

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