JP2009120649A - 高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤の存在下、アルデヒド類を逐次的に添加すると共に、系内の水分を除去しつつ反応させることを特徴とする高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が180℃以下で、かつ真空度が6666
Paabs(50mmHgabs)以下とする。
本発明方法で得られる高分子量ハイオルソノボラック樹脂の全メチレン結合に対するオルソ−オルソ結合比率が75%以上である。
【選択図】なし
Description
これに対してハイオルソノボラック樹脂はフェノール類がメチレン結合を介してオルソ位同士で結合したものを多く含む樹脂で、前記触媒として例えば二価金属(Ca、Mg、Znなど)の酢酸塩類などの弱酸を使用して反応することで得られる。
このようなハイオルソノボラック樹脂は、高温下でも揮発成分が少なく、例えばエポキシ樹脂の硬化剤として使用した場合、耐熱性に優れた成形物が得られる。また、オルソーオルソ結合の割合が高いので、分子が直鎖状となり、その結果、成形物の靭性が向上し、さらにエポキシ配合物のポットライフが長くなるなどの効果が得られる。
しかし、ハイオルソノボラック樹脂を合成する場合、反応系のpHが弱酸性領域であるためランダムノボラック樹脂と比較して反応速度が遅く、また未反応フェノール類や2核体などの低分子量成分を多く含む樹脂となる。
このような未反応物が多く含まれると、製品を使用現場で使用した時、未反応物が昇華し、生産設備に付着して汚したり、製品に混入して不良品を発生させ、生産歩留まりを低下させてしまう。
例えば特許文献1には、未反応フェノール類および2核体を水蒸気蒸留によって蒸留除去する方法が示されている。
しかし、この方法では、2核体を水蒸気蒸留で除去するためには、少なくとも220℃以上の高温で長時間蒸留を行うことが必要となる。さらに特許文献1によれば、ノボラック樹脂の分子量を上げるために未反応フェノール類および2核体を除去した後、2次反応として再びアルデヒド類とシュウ酸を加えて反応させているが、2次反応のフェノール類とアルデヒド類の反応が強酸存在下で行われること、およびこの段階で系内に存在するフェノール類のパラ位が空位であることから、2次反応で生成するメチレン結合はパラ位同士あるいはオルソ位−パラ位のものが大部分となり、高分子量のノボラック樹脂は得られるものの、オルソ位同士の結合比率は一般的なハイオルソノボラック樹脂に比べて低くなる。
特許文献2には、まず1次反応としてフェノール類とアルデヒド類とを無触媒の下、反応温度180〜280℃で反応させてハイオルソノボラック樹脂を合成した後、2次反応としてアルデヒド類と有機ホスホン酸を追加して反応を行い、高分子量ノボラック樹脂を得る方法が示されている。
しかし、前記有機ホスホン酸は、ハイオルソノボラック樹脂の合成触媒として公知である二価金属の酢酸塩類などの弱酸性触媒と比較すると、酸性度が高いため、得られるノボラック樹脂のオルソ位同士の結合比率は、一般的なハイオルソノボラック樹脂に比べて低くなる。
また特許文献3には、フェノール類と二価金属塩の存在下パラホルムアルデヒドを100〜150℃の温度で連続的に供給し、水を除去しつつ反応するノボラック樹脂の製造方法が示されている。
しかし特許文献3記載の方法は反応時間が短くなるという利点はあるものの、系内の固形分濃度が高くなることから、高分子量或いは低分子量成分の少ない樹脂の製造は困難である。そのために、未反応フェノール類および2核体の含有率が少ない高分子量ハイオルソノボラック樹脂は得られない。
1.フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤の存在下、アルデヒド類を逐次的に添加して反応させると共に、系内の水分を除去することを特徴とする高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法、
2.前記反応温度が130〜180℃になるように、沸点が80〜180℃の範囲にある有機溶剤を用いる請求項1に記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法、
3.さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が180℃以下で、かつ真空度が6666Paabs(50mmHgabs)以下である請求項1または2に記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法、
4.前記高分子量ハイオルソノボラック樹脂の全メチレン結合に対するオルソ−オルソ結合比率が75%以上である請求項1〜3のいずれかに記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法、
を提供するものである。
その結果、本発明のハイオルソノボラック樹脂は、高温下でも揮発成分が少なく、例えばエポキシ樹脂の硬化剤として使用した場合、耐熱性に優れた成形物が得られる。また、オルソーオルソ結合の割合が高いので、分子が直鎖状となり、その結果、成形物の靭性が向上し、さらにエポキシ配合物のポットライフが長くなるなどの効果が得られる。
本発明におけるハイオルソノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類を弱酸性触媒の下で反応させて製造される。
本発明方法に使用されるフェノール類としては、一般的なフェノール樹脂の製造に使用されるものであれば良く、例えばフェノール、クレゾール、エチルフェノール、キシレノール、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、フェニルフェノール、シクロヘキシルフェノール、トリメチルフェノール、ビスフェノールA、カテコール、レゾシノール、ハイドロキノン、ナフトール、ピロガロール、バニリン、キシレノールなどを、単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのうち、フェノールやクレゾール類が実用上好ましい。
上記アルデヒド類の使用量は、フェノール類の合計量1モルに対して、0.6〜1.5モル、好ましくは0.7〜1.2モルの割合で用いるのが望ましい。このアルデヒド類の使用量が0.6モルより少ないと、低分子量の樹脂しか得られず、一方アルデヒド類が1.5モルより多いと、ゲル化の危険性が発生する可能性があるため好ましくない。
このようなアルデヒド類の逐次的添加手段としては、公知のプランジャーポンプ、ダイヤフラムポンプなどの高圧ポンプや、回転容積型の一軸偏心ネジポンプ、およびチューブポンプなどのスラリーポンプが挙げられる。
これらの弱酸性触媒は、単独もしくは2種以上混合して使用することができる。
このような弱酸性触媒の配合量は、フェノール類100質量部に対して0.1〜20質量部、好ましくは0.1〜10重量部、更に好ましくは0.2〜5重量部の割合で用いるのが望ましい。
なお、通常のノボラック樹脂を製造するときに使用する触媒として、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸などの強酸類があるが、これらを使用すると反応系のpHが低くなり過ぎ、その結果、オルソ−オルソ結合以外のメチレン結合が多く生成する結果となる。加えて、低分子量成分が十分に低減しないまま高分子量化が先に進んでしまうため、目的の樹脂が得られなくなる。
そこで、本発明方法では、このような強酸類は一切使用しないことが必要である。
本発明方法においては、フェノール類とアルデヒド類は、フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤存在下、アルデヒド類を逐次的に添加して反応させると共に、系内の水分を除去しながら反応させることが重要であるが、このとき反応温度が130〜180℃の範囲であると、前記反応の進行が早く進み、かつ未反応のアルデヒドやメチロール基が残存しにくくなるので好ましい。
この理由で、反応溶媒として用いる有機溶剤は沸点が80〜180℃の範囲のものが好ましい。溶剤の沸点が80℃未満では、反応温度を130℃以上にするためには、その使用量が少量に限定されてしまうため好ましくなく、一方、沸点が180℃を超えると、最終的に有機溶剤が樹脂中に残存する可能性が生じるため好ましくない。
沸点が80〜180℃の範囲の有機溶剤としては、例えばプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、1,4−ジオキサン等のエーテル類等が単独で、若しくは二種以上を併用して使用することができる。
その使用量としては、一般的にはフェノール類100重量部に対して10〜100重量部程度である。
有機溶剤は、本発明方法においては、フェノール類とアルデヒド類を効率良く反応させるために必須である。反応が進んで、ノボラック樹脂の分子量が増大し、反応系内の粘度が高くなると、逐次的に添加しているアルデヒド類が樹脂と混合しにくくなる。しかし、有機溶剤を使用することで、系内の粘度が低く保たれ、その結果アルデヒド類とノボラック樹脂との反応が効率良く進行する。もちろん、蒸留による有機溶剤の減少、または樹脂の分子量の増大による系内の粘度上昇が認められた場合は、有機溶剤を適宜追加して添加して良い。
有機溶剤を使用しない場合、逐次的に添加されるアルデヒド類の濃度が、局部的に高くなり、その結果、スポットゲルが生じたり、アルデヒド類が反応しないまま、系外に排出されてしまうため、好ましくない。
系外に排出された共沸混合物は、公知の手段で水分を分離した後、有機溶剤は反応系内に還流させれば良い。
本発明方法における反応時間は、特に制限はなく、アルデヒド類および触媒の量、および反応温度により適宜調整すれば良い。
こうして得られた反応液には、未反応フェノール類が残存しているので、続いて、未反応フェノールの除去工程に入る。
未反応フェノールの除去手段としては、公知の手段、たとえば減圧蒸留法や水蒸気蒸留法などが例示される。
減圧蒸留或いは水蒸気蒸留を行って未反応フェノール類を除去する場合、蒸留温度は180℃以下が好ましい。180℃以上でも未反応フェノール類は除去できるが、除去効率はほとんど変わらず、かえってエネルギーコストがかかるため好ましくない。また本発明の製造方法では未反応フェノール類の除去工程の前の段階で既に2核体量が十分低減されているため、未反応フェノール類を除去できるだけの条件があればよく、そのためには180℃以上の温度は必要ない。
未反応フェノール類を主に効率良く除去するためには、180℃以下の温度で、かつ真空度を6666Paabs(50mmHgabs)以下にすることが望ましい。その結果、本発明においては、2核体以下の成分を8%程度以下とすることができる。
このオルソノボラック樹脂の重量平均分子量は、10,000以上、好ましくは、30,000〜100,0000、より好ましくは40,000〜70,000程度の高分子である。
また、オルソノボラック樹脂のオルソーオルソ結合比率が75%以上のものが得られる。
本実施例で使用した樹脂の分析方法は以下の通りである。
(1)GPC
カラム構成は昭和電工(株)製のKF−804+KF−804で行い、溶媒としてテトラヒドロフランを使用し、流量1ml/分で測定した。
分子量はポリスチレン換算、含有率は全ピーク面積中の百分率で算出した。
(2)オルソ−オルソ結合比
13C−NMRスペクトルによるオルソ−オルソ、オルソ−パラ、パラ−パラのメチレン結合の比率から算出した。
オルソ−オルソ結合比率(%)=(オルソ−オルソ結合/全メチレン結合)×100
(3)軟化点
エレックス科学製気相軟化点測定装置EX−719PDを用いて昇温速度2.5℃/分で測定した。
(4)加熱減量
SII社製SSC/5200を使用して空気雰囲気中、昇温速度10℃/分で測定した。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、フェノール100部、酢酸亜鉛0.5部、メチルイソブチルケトン20部を仕込み、内温を150℃にして37%ホルマリン69部を3時間かけて滴下した。滴下中にメチルイソブチルケトンと水が共沸するが、このうち水は除去し、メチルイソブチルケトンは還流するようにした。
滴下終了後、同温度で1時間さらに反応させた後、数回水洗を行い、触媒を除去した。
次いで170℃、50mmHgabの減圧下で水蒸気蒸留を行い、未反応フェノールを除去した。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が4.9%、重量平均分子量が49000の高分子量ハイオルソノボラック樹脂が得られた。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、フェノール100部、酢酸亜鉛0.5部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20部を仕込み、内温を150℃にして、37%ホルマリン69部を3時間かけて滴下した。滴下中に溜出する共沸混合物はすべて系外に排出した。滴下終了後、同温度で1時間熟成反応させた後、数回水洗を行い触媒を除去した。次いで170℃、6666Paabs(50mmHgabs)の減圧下で水蒸気蒸留を行い、未反応フェノールを除去した。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が4.5%、重量平均分子量が50200の高分子量ハイオルソノボラック樹脂が得られた。
フェノール類としてメタクレゾール100部、37%ホルマリンを41部使用した以外は合成例1と同様に行なった。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が6.1%、重量平均分子量が56000の高分子量ハイオルソノボラック樹脂が得られた。
フェノール類としてメタクレゾール100部、37%ホルマリンを41部使用した以外は合成例2と同様に行なった。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が5.5%、重量平均分子量が60300の高分子量ハイオルソノボラック樹脂が得られた。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、フェノール100部、シュウ酸0.5部、メチルイソブチルケトン20部を仕込み、内温を150℃にして37%ホルマリン69部を3時間かけて滴下した。滴下中にメチルイソブチルケトンと水が共沸するので、このうち水は除去し、メチルイソブチルケトンは還流するようにした。
滴下終了後、同温度で1時間反応した後、170℃、6666Paabs
(50mmHgabs)の減圧下で水蒸気蒸留を行って未反応フェノールを除去した。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が12.2%、重量平均分子量が51500のノボラック樹脂が得られた。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、フェノール100部、酢酸亜鉛0.5部、メチルイソブチルケトン20部を仕込み、内温を130℃にして37%ホルマリン69部を3時間かけて滴下した。滴下中は水分を除去せず、常圧還流により反応させたところ、内温は徐々に100℃まで低下した。
滴下終了後、100℃で1時間熟成反応させた後、数回水洗を行い、触媒を除去した。次いで170℃、6666Paabs(50mmHgabs)の減圧下で水蒸気蒸留を行なった。その結果、未反応フェノールを除去し、2核体以下の低分子量成分の含有率が9.9%、重量平均分子量が23200のノボラック樹脂が得られた。
水蒸気蒸留を170℃、20000Paabs(150mmHgabs)で実施した以外は、比較例2と同様に行なった。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が13.1%、重量平均分子量が15600のノボラック樹脂が得られた。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、フェノール100部、37%ホルマリン69部、酢酸亜鉛0.5部を仕込み、100℃で5時間還流させた。次いで170℃、6666Paabs(50mmHgabs)の減圧下で水蒸気蒸留を行い、未反応フェノールを除去した。その結果、2核体以下の低分子量成分の含有率が10.4%、重量平均分子量が19700のノボラック樹脂が得られた。
実施例1〜4、比較例1〜4で得られたノボラック樹脂の特性値を表1に示す。
実施例1〜4で得られた高分子量ハイオルソノボラック樹脂、比較例1〜4で得られたノボラック樹脂のそれぞれに、オルソクレゾール型エポキシ樹脂(エポキシ当量205)を、フェノール性水酸基と当量になるように配合し、硬化促進剤のトリフェニルフォスフィンをエポキシ樹脂100部に対して1部、さらに充填材として溶融シリカ粉末を配合物全重量の70%になるように配合した。これらを100℃の熱ロールにて溶融混練して熱硬化性樹脂組成物を得た。
得られた熱硬化性樹脂組成物を金型にて170℃−15分、圧力30kg/cm2で加圧成形した。その後、170℃−3.5時間アフターキュアを行って、テストピースを作製した。これらを前記の順に対応させて実施例5〜8、比較例5〜8とした。
(5)曲げ強度
JIS K−6911に準拠した方法で測定した。
実施例5〜8、比較例5〜8について、特性評価試験の結果を表2に示す。
Claims (4)
- フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤の存在下、アルデヒド類を逐次的に添加して反応させると共に、系内の水分を除去することを特徴とする高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。
- 前記反応温度が130〜180℃になるように、沸点が80〜180℃の範囲にある有機溶剤を用いる請求項1に記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。
- さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が180℃以下で、かつ真空度が6666Paabs(50mmHgabs)以下である請求項1または2に記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。
- 前記高分子量ハイオルソノボラック樹脂の全メチレン結合に対するオルソ−オルソ結合比率が75%以上である請求項1〜3のいずれかに記載の高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2009120649A true JP2009120649A (ja) | 2009-06-04 |
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JP (1) | JP5254598B2 (ja) |
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