JP2009110945A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5417732B2 (ja) * 2008-03-31 2014-02-19 住友化学株式会社 親液撥液パターンの形成方法および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
KR101553691B1 (ko) 2008-07-10 2015-09-17 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광장치
WO2010092796A1 (ja) * 2009-02-10 2010-08-19 パナソニック株式会社 発光素子、発光素子を備えた発光装置および発光素子の製造方法
KR102005736B1 (ko) * 2009-10-16 2019-07-31 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치의 제작 방법
US8153528B1 (en) * 2009-11-20 2012-04-10 Integrated Photovoltaic, Inc. Surface characteristics of graphite and graphite foils
KR101643009B1 (ko) * 2009-12-22 2016-07-27 가부시키가이샤 제이올레드 표시 장치와 그 제조 방법
KR101077424B1 (ko) * 2010-07-23 2011-10-26 삼성전기주식회사 터치패널 및 그 제조방법
JP5543599B2 (ja) 2010-08-06 2014-07-09 パナソニック株式会社 発光素子の製造方法
WO2012017495A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 パナソニック株式会社 有機ｅｌ素子およびその製造方法
WO2012017489A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 パナソニック株式会社 有機ｅｌ素子、表示装置および発光装置
WO2012017496A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 パナソニック株式会社 発光素子、発光素子を備えた発光装置および発光素子の製造方法
CN103038908B (zh) 2010-08-06 2016-01-06 株式会社日本有机雷特显示器 发光元件、具备发光元件的发光装置以及发光元件的制造方法
WO2012017497A1 (ja) 2010-08-06 2012-02-09 パナソニック株式会社 有機ｅｌ素子
JP5677448B2 (ja) * 2010-10-15 2015-02-25 パナソニック株式会社 有機発光パネルとその製造方法、および有機表示装置
JP5197882B2 (ja) 2010-10-15 2013-05-15 パナソニック株式会社 有機発光パネルとその製造方法、および有機表示装置
CN102960066B (zh) 2010-10-15 2015-09-30 株式会社日本有机雷特显示器 有机发光面板及其制造方法以及有机显示装置
JP2012103474A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板、並びにこれを用いた液晶表示装置
JP5776296B2 (ja) * 2011-04-18 2015-09-09 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルター基板、電気光学装置および電子機器
DE102012002650B4 (de) * 2012-02-10 2013-10-31 Demmel Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Dekorblende
US8946985B2 (en) * 2012-05-07 2015-02-03 Samsung Display Co., Ltd. Flexible touch screen panel and flexible display device with the same
CN104123925B (zh) * 2014-07-11 2016-05-11 京东方科技集团股份有限公司 一种显示器、显示方法及装置
KR20160092110A (ko) * 2015-01-26 2016-08-04 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
WO2019106716A1 (ja) 2017-11-28 2019-06-06 堺ディスプレイプロダクト株式会社 有機ｅｌ発光素子及びその製造方法
KR102511870B1 (ko) 2017-12-15 2023-03-20 삼성전기주식회사 인덕터
JP6755344B2 (ja) * 2019-01-17 2020-09-16 堺ディスプレイプロダクト株式会社 有機ｅｌ発光素子及びその製造方法
JP2019102466A (ja) * 2019-01-17 2019-06-24 堺ディスプレイプロダクト株式会社 有機ｅｌ発光素子及びその製造方法
JP6752305B2 (ja) * 2019-01-17 2020-09-09 堺ディスプレイプロダクト株式会社 有機ｅｌ発光素子及びその製造方法
US11121345B2 (en) * 2019-11-26 2021-09-14 Applied Materials, Inc. Structures and methods of OLED display fabrication suited for deposition of light enhancing layer
KR102911183B1 (ko) * 2019-12-31 2026-01-14 삼성디스플레이 주식회사 색변환 부재 및 이를 포함하는 표시 장치

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100660384B1 (ko) 1998-03-17 2006-12-21 세이코 엡슨 가부시키가이샤 표시장치의 제조방법
TW471011B (en) * 1999-10-13 2002-01-01 Semiconductor Energy Lab Thin film forming apparatus
JP2001272527A (ja) * 2000-03-27 2001-10-05 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
US6885146B2 (en) * 2002-03-14 2005-04-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device comprising substrates, contrast medium and barrier layers between contrast medium and each of substrates
US7285440B2 (en) * 2002-11-25 2007-10-23 International Business Machines Corporation Organic underlayers that improve the performance of organic semiconductors
JP2004296424A (ja) * 2003-03-11 2004-10-21 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd 金属層の形成方法、金属層、及び金属層を用いた表示装置
JP2004294878A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Seiko Epson Corp 微細構造物の製造方法、デバイス、光学素子、集積回路及び電子機器
JP2004319119A (ja) * 2003-04-11 2004-11-11 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置及びその製造方法
CN100380596C (zh) * 2003-04-25 2008-04-09 株式会社半导体能源研究所 液滴排出装置、图案的形成方法及半导体装置的制造方法
CN100467141C (zh) * 2003-04-25 2009-03-11 株式会社半导体能源研究所 图形的制作方法和液滴排出装置
US7192859B2 (en) * 2003-05-16 2007-03-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing semiconductor device and display device
JP3923462B2 (ja) * 2003-10-02 2007-05-30 株式会社半導体エネルギー研究所 薄膜トランジスタの作製方法
US7226819B2 (en) * 2003-10-28 2007-06-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Methods for forming wiring and manufacturing thin film transistor and droplet discharging method
JP5093985B2 (ja) * 2004-01-16 2012-12-12 株式会社半導体エネルギー研究所 膜パターンの形成方法
US8053171B2 (en) * 2004-01-16 2011-11-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Substrate having film pattern and manufacturing method of the same, manufacturing method of semiconductor device, liquid crystal television, and EL television
TWI366701B (en) * 2004-01-26 2012-06-21 Semiconductor Energy Lab Method of manufacturing display and television
CN100533808C (zh) * 2004-01-26 2009-08-26 株式会社半导体能源研究所 显示器件及其制造方法以及电视设备
JP4557755B2 (ja) * 2004-03-11 2010-10-06 キヤノン株式会社 基板、導電性基板および有機電界効果型トランジスタの各々の製造方法
CN100573833C (zh) * 2004-03-25 2009-12-23 株式会社半导体能源研究所 用于制造薄膜晶体管的方法
TWI367686B (en) * 2004-04-07 2012-07-01 Semiconductor Energy Lab Light emitting device, electronic device, and television device
US7732334B2 (en) * 2004-08-23 2010-06-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
US7470604B2 (en) * 2004-10-08 2008-12-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing display device
JP4693619B2 (ja) * 2004-12-17 2011-06-01 株式会社半導体エネルギー研究所 導電層を有する基板の作製方法及び半導体装置の作製方法
US7687326B2 (en) * 2004-12-17 2010-03-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US7449372B2 (en) 2004-12-17 2008-11-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of substrate having conductive layer and manufacturing method of semiconductor device
US7977669B2 (en) * 2005-02-10 2011-07-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device having a liquid-repellent layer
JP4788161B2 (ja) * 2005-03-03 2011-10-05 セイコーエプソン株式会社 塗布液組成物、薄膜形成方法および有機薄膜
JP4592473B2 (ja) * 2005-03-31 2010-12-01 三洋電機株式会社 発光パネルの製造方法、表示パネルの製造方法及び表示パネル
GB2430178A (en) 2005-09-20 2007-03-21 Seiko Epson Corp Method of producing a substrate having areas of different hydrophilicity and/or oleophilicity on the same surface
GB2430547A (en) * 2005-09-20 2007-03-28 Seiko Epson Corp A method of producing a substrate having areas of different hydrophilicity and/or oleophilicity on the same surface
GB2430201A (en) 2005-09-20 2007-03-21 Seiko Epson Corp Substrate surface with different hydrophilic or oleophilic areas
US7892059B2 (en) * 2006-05-10 2011-02-22 Casio Computer Co., Ltd. Manufacturing method for organic electroluminescent display device including etching partition wall after imparting lyophilicity to partion wall and pixel electrode
US7879390B2 (en) * 2007-05-30 2011-02-01 Palo Alto Research Center Incorporated Surface energy control methods for color filter printing
US8017422B2 (en) * 2007-06-19 2011-09-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for forming pattern, method for manufacturing light emitting device, and light emitting device
US20090072225A1 (en) * 2007-09-18 2009-03-19 Electronics And Telecommunications Research Institute Flat panel display device having organic thin film transistor and manufacturing method thereof
JP2009134274A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置の作製方法
JP5417732B2 (ja) * 2008-03-31 2014-02-19 住友化学株式会社 親液撥液パターンの形成方法および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

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