KR101077424B1 - 터치패널 및 그 제조방법 - Google Patents

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김상화
이종영
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명은 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 터치패널(100)은 투명기판(110), 패터닝된 격벽(123)을 구비하도록 투명기판(110)에 형성된 투명돌출부(120) 및 격벽(123)에 둘러싸이도록 투명돌출부(120) 내에 형성된 투명전극(130)을 포함하는 구성이며, 투명기판(110)에 투명돌출부(120)를 채용하여 투명전극(130)을 투명돌출부(120)의 격벽(123) 내에 형성함으로써, 제조공정 중 투명전극(130)에 스크래치가 발생하거나 투명전극(130)이 박리되는 것을 방지하여 터치패널(100)의 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

터치패널 및 그 제조방법{Touch panel and a manufacturing method the same}
본 발명은 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용 컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.
하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.
또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치패널(Touch Panel)이 개발되었다.
이러한 터치패널은 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.
한편, 터치패널의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW Type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치패널과 정전용량방식 터치패널이다.
그러나, 종래기술에 따른 저항막방식 터치패널과 정전용량방식 터치패널은 입력수단의 터치를 인식하는 투명전극이 투명기판으로부터 돌출되어 파손될 우려가 있다. 더욱 상세히 살펴보면, 종래기술에 따른 터치패널은 돌출되어 형성된 투명전극을 보호할 수 있는 어떠한 수단도 구비하고 있지 않으므로, 제조공정 중 투명전극에 스크래치(scratch) 등이 발생할 수 있을 뿐만 아니라, 입력수단의 반복적인 터치로 인하여 투명전극이 투명기판으로부터 박리될 수 있는 문제점이 존재한다. 전술한 스크래치, 박리 등이 발생하면 투명전극은 입력수단의 터치를 인식하는 능력이 떨어지고, 결과적으로는 터치패널의 감도가 저하되는 문제점이 존재한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 별도의 투명돌출부를 채용하여 투명전극을 투명돌출부의 격벽 내에 형성함으로써 제조공정 중 투명전극에 스크래치가 발생하거나 투명전극이 박리되는 것을 방지할 수 있는 터치패널 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치패널은 투명기판, 패터닝된 격벽을 구비하도록 상기 투명기판에 형성된 투명돌출부 및 상기 격벽에 둘러싸이도록 상기 투명돌출부 내에 형성된 투명전극을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 투명전극은 전도성 고분자로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 투명전극이 형성된 상기 격벽 내의 상기 투명기판은 플라즈마 표면처리를 통해서 친수성을 갖는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽은 소수성을 갖는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽은 소수성 에폭시로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽의 두께와 상기 투명전극의 두께는 동일한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치패널의 제조방법은 (A) 투명기판을 준비하는 단계, (B) 패터닝된 격벽을 구비하도록 상기 투명기판에 투명돌출부를 형성하는 단계 및 (C) 상기 격벽에 둘러싸이도록 상기 투명돌출부 내에 투명전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서, 상기 격벽은 디스펜서(dispenser)를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 투명전극을 형성하는 단계에서, 상기 투명전극은 전도성 고분자로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 투명전극을 형성하는 단계 이전에, 상기 투명전극을 형성할 상기 격벽 내의 상기 투명기판이 친수성을 갖도록 플라즈마 표면처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈마 표면처리를 수행하는 단계에서, 상기 격벽에 대응하는 개구부가 구비된 마스크를 상기 투명기판에 배치한 후 플라즈마 표면처리를 수행하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서, 상기 격벽은 소수성을 갖는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서, 상기 격벽은 소수성 에폭시로 형성된 것으로 특징으로 한다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법 으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따르면, 투명기판에 투명돌출부를 채용하여 투명전극을 투명돌출부의 격벽 내에 형성함으로써, 제조공정 중 투명전극에 스크래치가 발생하거나 투명전극이 박리되는 것을 방지하여 터치패널의 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1 내지 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 사시도;
도 3은 도 1에 도시된 터치패널의 A-A'선에 따른 단면도;
도 4는 도 1에 도시된 터치패널의 B-B'선에 따른 단면도;
도 5 내지 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 도시한 도면; 및
도 9 내지 도 11은 본 발명의 바람직한 실시예를 이용하여 제작한 터치패널의 단면도이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1 내지 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 사시도이고, 도 3은 도 1에 도시된 터치패널의 A-A'선에 따른 단면도이며, 도 4는 도 1에 도시된 터치패널의 B-B'선에 따른 단면도이다.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 터치패널(100)은 투명기판(110), 패터닝된 격벽(123)을 구비하도록 투명기판(110)에 형성된 투명돌출부(120) 및 격벽(123)에 둘러싸이도록 투명돌출부(120) 내에 형성된 투명전극(130)을 포함하는 구성이다.
상기 투명기판(110)은 투명전극(130), 투명돌출부(120)를 형성할 영역을 제공하는 것이다. 여기서, 투명기판(110)은 액티브영역과 베젤영역으로 구획되는데, 액티브영역은 입력수단의 터치를 인식할 수 있도록 투명전극(130)이 형성되는 부분으로 투명기판(110)의 중심에 구비되고, 베젤영역은 투명전극(130)과 통전하는 전극배선(140)이 형성되는 부분으로 액티브영역의 테두리에 구비된다. 이때, 투명기판(110)은 투명전극(130)과 투명돌출부(120) 등을 지지할 수 있는 지지력과 화상표시장치에서 제공하는 화상을 사용자가 인식할 수 있도록 하는 투명성을 갖추어야 한다. 전술한 지지력과 투명성을 고려할 때, 투명기판(110)의 재질은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 투명기판(110)과 투명전극(130) 사이의 접착력을 향상시키기 위하여 투명기판(110)에는 고주파 처리 또는 프라이머(primer) 처리를 수행하는 것이 바람직하다.
상기 투명돌출부(120)는 투명전극(130)을 매립시켜 투명전극(130)을 보호하는 역할을 수행하는 것으로, 투명기판(110)으로부터 돌출되도록 형성된다. 여기서, 투명돌출부(120)는 패터닝된 격벽(123)으로 이루어지는데, 격벽(123)은 디스펜서(125; 도 6 참조) 등을 이용하여 투명전극(130)을 둘러싸는 패턴으로 형성된다. 또한, 격벽(123)은 소수성을 갖는 재질로 형성하는 것이 바람직한데, 이는 투명전극(130)을 격벽(123) 내에만 정확히 형성하기 위한 것으로 상세한 내용은 후술하도록 한다. 격벽(123)은 소수성을 갖추어야 할 뿐만 아니라, 화상표시장치에서 제공하는 화상을 사용자가 인식하는데 방해하지 않도록 투명성을 갖추어야 한다. 따라서, 격벽(123)은 소수성 에폭시 등을 이용하여 형성하는 것이 바람직하다.
상기 투명전극(130)은 입력수단이 터치시 신호를 발생시켜 컨트롤러에서 터치 좌표를 인식할 수 있도록 하는 역할을 수행하는 것으로, 투명돌출부(120)의 격벽(123)에 둘러싸이도록 형성된다. 투명전극(130)이 격벽(123)에 둘러싸여 보호되므로 제조공정 중 투명전극(130)에 스크래치가 발생하거나 투명전극(130)이 박리되는 것을 방지할 수 있어 터치패널(100)의 내구성을 향상시킬 수 있다. 한편, 투명전극(130)은 통상적으로 사용하는 ITO(Indium Thin Oxide)뿐만 아니라 유연성이 뛰어나고 코팅 공정이 단순한 전도성 고분자를 이용하여 형성할 수 있다. 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(이하, PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌 등을 포함하는 것이다. 여기서, 전도성 고분자(특히, PEDOT/PSS)로 투명전극(130)을 형성한 경우, 투명전극(130)은 친수성을 갖는다. 따라서, 전술한 바와 같이 격벽(123)을 소수성으로 형성하면 제조공정 중 친수성인 투명전극(130)이 격벽(123) 외부로 유출되는 것을 방지하여 투명전극(130)을 격벽(123) 내에만 정확히 형성할 수 있다. 또한, 전도성 고분자로 형성된 투명전극(130)이 친수성이므로 격벽(123) 내의 투명기판(115)을 플라즈마(plasma) 표면처리를 통해서 친수성으로 개질시킴으로써(도 7 참조), 격벽(123) 내에서 투명전극(130)을 고르게 분산시켜 일정한 두께로 투명전극(130)을 형성할 수 있다.
이하, 도 4를 참조하여 투명전극(130)의 두께(T2)와 격벽(123)의 두께(T1)를 살펴본다. 투명전극(130)의 두께(T2)가 격벽(123)의 두께(T1)보다 두꺼우면, 투명전극(130)이 격벽(123)에 비해 돌출되므로 제조공정 중 투명전극(130)에 스크레치가 발생하는 것을 방지할 수 없다. 또한, 투명전극(130)의 두께(T2)가 격벽(123)의 두께(T1)보다 얇으면, 투명전극(130)이 격벽(123)에 비해 함몰되므로 터치 좌표를 인식하는 능력이 떨어진다. 따라서, 투명전극(130)의 두께(T2)와 격벽(123)의 두께(T1)는 동일한 것이 바람직하다. 여기서, 동일의 의미는 투명전극(130)의 두께(T2)와 격벽(123)의 두께(T1)가 수학적으로 완전히 동일하다는 것을 의미하는 것이 아니라 제조공정에서 발생하는 가공오차 등에 의한 미미한 두께의 변화를 포함하는 의미로 사용된다.
또한, 도면상 투명전극(130)은 막대형 패턴(도 1 참조) 또는 마름모형 패턴(도 2 참조)으로 도시되어 있으나, 본 발명의 권리범위는 막대형 패턴과 마름모형 패턴에 제한되는 것은 아니고, 당업계에서 공지된 모든 패턴을 활용할 수 있다.
한편, 상기 투명전극(130)의 테두리에는 투명전극(130)으로부터 전기적 신호를 전달받는 전극배선(140)이 인쇄된다. 여기서, 전극배선(140)의 재료로는 전기 전도도가 뛰어난 은 페이스트(Ag paste) 또는 유기은으로 조성된 물질을 사용하는 것이 바람직하지만, 이에 한정되는 것은 아니고 전도성 고분자, 카본블랙(CNT포함), ITO와 같은 금속산화물이나 금속류 등 저저항(低抵抗) 금속을 사용할 수 있다.
도 5 내지 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 터치패널의 제조방법을 공정순서대로 도시한 도면이다.
도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 터치패널(100)의 제조방법은 (A) 투명기판(110)을 준비하는 단계, (B) 패터닝된 격벽(123)을 구비하도록 투명기판(110)에 투명돌출부(120)를 형성하는 단계 및 (C) 격벽(123)에 둘러싸이도록 투명돌출부(120) 내에 투명전극(130)을 형성하는 단계를 포함하는 구성이다.
우선, 도 5에 도시된 바와 같이, 투명기판(110)을 준비하는 단계이다. 여기서, 투명기판(110)은 투명전극(130), 투명돌출부(120)를 형성할 영역을 제공하는 것으로, 투명전극(130)과 투명돌출부(120)를 지지할 수 있는 지지력과 화상표시장치에서 제공하는 화상을 사용자가 인식할 수 있도록 하는 투명성을 갖추어야 한다.
다음, 도 6에 도시된 바와 같이, 패터닝된 격벽(123)을 구비하도록 투명기판(110)에 투명돌출부(120)를 형성하는 단계이다. 여기서, 격벽(123)은 디스펜서(125)를 이용하여 형성하고, 디스펜서(125)는 구동수단(127)에 의해 이동하며 격벽(123)을 패터닝한다. 또한, 디스펜서(125)를 이용하여 격벽(123)을 형성한 후에는 열처리 공정을 통해서 격벽(123)을 경화시킨다. 한편, 후술할 단계에서 형성할 투명전극(130)이 친수성인 경우, 투명전극(130)이 격벽(123) 외부로 유출되는 것을 방지하기 위해서 격벽(123)은 소수성을 갖는 재질로 형성하는 것이 바람직하고, 예를 들어 소수성 에폭시로 형성할 수 있다.
다음, 도 7에 도시된 바와 같이, 투명전극(130)을 형성할 격벽(123) 내의 투명기판(115)이 친수성을 갖도록 플라즈마 표면처리를 수행하는 단계이다. 본 단계는 다음 단계에서 형성할 투명전극(130)이 친수성인 경우 필요한 단계이다. 즉, 본 단계에서 격벽(123) 내의 투명기판(115)을 플라즈마(plasma) 표면처리를 통해서 친수성으로 개질시킴으로써, 다음 단계에서 격벽(123) 내에 친수성인 투명전극(130)을 고르게 분산시켜 일정한 두께로 투명전극(130)을 형성할 수 있다. 한편, 투명전극(130)을 형성할 격벽(123) 내의 투명기판(115)에만 플라즈마 표면처리를 수행하기 위해서, 격벽(123)에 대응하는 개구부(137)가 구비된 마스크(135)를 투명기판(110)의 상측에 배치한 후 플라즈마 표면처리를 수행하는 것이 바람직하다.
다음, 도 8에 도시된 바와 같이, 격벽(123)에 둘러싸이도록 투명돌출부(120) 내에 투명전극(130)을 형성하는 단계이다. 여기서, 투명전극(130)은 ITO(Indium Thin Oxide)뿐만 아니라 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(이하, PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌 등을 포함하는 전도성 고분자를 이용하여 형성할 수 있다. 이 중, 투명전극(130)을 전도성 고분자(특히, PEDOT/PSS)로 형성한 경우 투명전극(130)은 친수성을 갖는다. 따라서, 친수성인 투명전극(130)은 소수성인 격벽(123)의 외부로 유출되지 않아 투명전극(130)을 격벽(123) 내에만 정확하게 형성할 수 있다. 또한, 이전 단계에서 격벽(123) 내의 투명기판(115)을 플라즈마 표면처리를 통해서 친수성으로 개질시켰음으로, 본 단계에서 격벽(123) 내에 친수성인 투명전극(130)을 고르게 분산시켜 일정한 두께로 투명전극(130)을 형성할 수 있다.
한편, 본 단계는 투명전극(130)을 격벽(123) 내에 형성하여야 하므로, 다이렉트(direct) 패터닝 공정인 스크린 인쇄법(Screen Printing), 그라비아 인쇄법(Gravure Printing), 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing) 등을 이용하는 것이 바람직하다. 하지만, 격벽(123) 내의 투명기판(115)만을 친수성으로 개질시켰음으로, 친수성인 투명전극(130)을 투명기판(110)의 전면에 코팅하더라도 최종적으로는 격벽(123) 내에만 투명전극(130)이 형성된다. 따라서, 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation) 등의 건식 공정, 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤 코팅(Roll coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 등의 습식 공정을 이용하여도 투명전극(130)을 격벽(123) 내에만 선택적으로 형성할 수 있다.
이후, 전극배선(140)을 투명전극(130)의 테두리에 스크린 인쇄법(Screen Printing), 그라비아 인쇄법(Gravure Printing) 또는 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing) 등으로 인쇄할 수 있다(도 1 및 도 4 참조).
도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 터치패널(100)의 경우, 1층 구조의 투명전극(130)을 이용하여 자기 정전용량방식(Self Capacitive Type) 터치패널 또는 상호 정전용량방식(Mutual Capacitive Type) 터치패널을 제작할 수 있다. 뿐만 아니라, 후술하는 바와 같이 상기 구성을 포함하는 다양한 형태의 터치패널을 제작할 수 있다.
도 9 내지 도 11은 본 발명의 바람직한 실시예를 이용하여 제작한 터치패널의 단면도이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 투명기판(110)의 양면에 투명전극(130)을 각각 형성하여 상호 정전용량방식(Mutual Capacitive Type) 터치패널(200; 도 9 참조)을 제작할 수 있다. 또한, 도 10 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 일면에 투명전극(130)이 형성된 투명기판(110)을 2개 구비하여 투명전극(130)이 마주보도록 2개의 투명기판(110)을 접착층(150)으로 접착하여 상호 정전용량방식(Mutual Capacitive Type) 터치패널(300; 도 10 참조) 또는 저항막방식(Resistive Type) 터치패널(400; 도 11 참조)을 제작할 수 있다. 여기서, 상호 정전용량방식(Mutual Capacitive Type) 터치패널(300; 도 10 참조)의 경우 마주보는 2개의 투명전극(130)이 절연되도록 접착층(150)이 투명기판(110)의 전면에 부착된다. 반면, 저항막방식(Resistive Type) 터치패널(400; 도 11 참조)의 경우 입력수단의 압력이 작용하면 마주보는 2개의 투명전극(130)이 접촉할 수 있도록 접착층(150)이 투명기판(110)의 테두리에만 부착되고 입력수단의 압력이 제거되면 투명전극(130)이 원위치로 복귀하도록 반발력을 제공하는 도트 스페이서(160)가 투명전극(130)의 노출면에 구비된다.
본 발명의 바람직한 실시예를 이용하여 제작한 터치패널(200, 300, 400) 역시 투명돌출부(120)를 채용하여 투명전극(130)을 투명돌출부(120)의 격벽(123) 내에 형성함으로써, 제조공정 중 투명전극(130)에 스크래치가 발생하거나 투명전극(130)이 박리되는 것을 방지하여 터치패널(200, 300, 400)의 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 터치패널 및 그 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.
100, 200, 300, 400: 터치패널 110: 투명기판
115: 격벽 내의 투명기판 120: 투명돌출부
123: 격벽 125: 디스펜서
127: 구동수단 130: 투명전극
135: 마스크 137: 개구부
140: 전극배선 150: 접착층
160: 도트 스페이서 T1: 격벽의 두께
T2: 투명전극의 두께

Claims (15)

  1. 투명기판;
    패터닝된 격벽을 구비하도록 상기 투명기판에 형성된 투명돌출부; 및
    상기 격벽에 둘러싸이도록 상기 투명돌출부 내에 형성된 투명전극;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 투명전극은 전도성 고분자로 형성된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 투명전극이 형성된 상기 격벽 내의 상기 투명기판은 플라즈마 표면처리를 통해서 친수성을 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 격벽은 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 격벽은 소수성 에폭시로 형성된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 격벽의 두께와 상기 투명전극의 두께는 동일한 것을 특징으로 하는 터치패널.
  8. (A) 투명기판을 준비하는 단계;
    (B) 패터닝된 격벽을 구비하도록 상기 투명기판에 투명돌출부를 형성하는 단계; 및
    (C) 상기 격벽에 둘러싸이도록 상기 투명돌출부 내에 투명전극을 형성하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서,
    상기 격벽은 디스펜서(dispenser)를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 투명전극을 형성하는 단계에서,
    상기 투명전극은 전도성 고분자로 형성된 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 또는 폴리페닐렌비닐렌을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  12. 청구항 8에 있어서,
    상기 투명전극을 형성하는 단계 이전에,
    상기 투명전극을 형성할 상기 격벽 내의 상기 투명기판이 친수성을 갖도록 플라즈마 표면처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 플라즈마 표면처리를 수행하는 단계에서,
    상기 격벽에 대응하는 개구부가 구비된 마스크를 상기 투명기판에 배치한 후 플라즈마 표면처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  14. 청구항 8에 있어서,
    상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서,
    상기 격벽은 소수성을 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 투명돌출부를 형성하는 단계에서,
    상기 격벽은 소수성 에폭시로 형성된 것으로 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.
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