JP2009101351A5 - - Google Patents

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  1. 基材に、白金酸化物あるいは白金酸化物と他の金属元素との複合酸化物からなり厚さが１μｍ以下である触媒前駆体からなる第１の層を気相法により形成する工程と、前記第１の層にクラックを形成する工程と、前記クラックが形成された第１の層を還元する工程と、を少なくとも有することを特徴とする触媒層の製造方法。
  2. 前記第１の層にクラックを形成する工程と、前記クラックが形成された第１の層を還元する工程との間に、前記第１の層の表面に触媒前駆体もしくは触媒からなる第２の層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の触媒層の製造方法。
  3. 前記第２の層が触媒前駆体からなり、前記第２の層を形成する工程と、前記クラックが形成された第１の層を還元する工程との間に、前記第２の層にクラックを形成する工程を有することを特徴とする請求項２に記載の触媒層の製造方法。
  4. 前記クラックを形成する工程が、クラックが形成される層を冷却またはイオンエッチングしてクラックを形成する工程であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の触媒層の製造方法。
  5. 前記第１の層が樹枝状構造を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の触媒層の製造方法。
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