JP2009088201A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】非接触の検査に関して、検査時に必要なインダクタと、ボンディング時に必要なボンディングパッドの両方が、各端子に必要であり、従来のボンディングパッドだけで十分であった場合と比較して、チップ面積の増大を招いてしまう。
【解決手段】半導体装置100は、半導体基板2と、半導体基板2上に設けられたインダクタ4と、インダクタ4上に、インタクタ4と接触するように設けられた金属ボール8と、金属ボール8に電気的に接続されたボンディングワイヤ10を含み、インダクタ4と、金属ボール8とを介して、外部との信号のやりとりを行なう。インダクタ4が、ボンディングパッドの機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。
【選択図】 図1
【解決手段】半導体装置100は、半導体基板2と、半導体基板2上に設けられたインダクタ4と、インダクタ4上に、インタクタ4と接触するように設けられた金属ボール8と、金属ボール8に電気的に接続されたボンディングワイヤ10を含み、インダクタ4と、金属ボール8とを介して、外部との信号のやりとりを行なう。インダクタ4が、ボンディングパッドの機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体装置に関し、特にインダクタを有する半導体装置に関する。
従来、半導体装置においては、インダクタは、インダクタの誘導成分Lとキャパシタの容量成分Cとを組み合わせて形成した共振回路の一構成要素などとして、利用されていた。
特許文献1には、このようなインダクタが開示されている。具体的には、特許文献1には、インダクタと、インダクタ上に上下可変に平面電極とを設けることによってインダクタと平面電極との間に形成された可変容量とを有する共振回路が、開示されている。
しかしながら、上述した用途のほかに、半導体装置に含まれるインダクタを、チップ間を無線で通信するために使うことが検討されており、さらに、半導体装置の検査時にインダクタの誘導カップリングを用いて、非接触の検査を行なうことも検討されている。
しかしながら、上述した非接触の検査に関して、以下のような問題点がある。すなわち、検査時に必要なインダクタと、ボンディング時に必要なボンディングパッドの両方が、各端子に必要であり、従来のボンディングパッドだけで十分であった場合と比較して、チップ面積の増大を招いてしまう。
以下に図面を参照して、上記の問題点について詳細に説明する。
図6は、問題点を説明するための図面である。図6は、半導体装置200の上面図であり、半導体装置200の一部(コーナー部)を示している。
図6の半導体装置200は、非接触の検査を行なうことができる半導体装置を示している。半導体装置200は、半導体基板202上に、非接触の検査時に必要なインダクタ204と、ボンディング時に必要なボンディングパッド206とを有している。
さらに、ボンディングパッド206は、金ボール208を介してボンディングワイヤ210に接続されており、ボンディングワイヤ210はさらに、半導体装置200が実装される実装基板の電極等(不図示)に接続されている。
インダクタ204と、ボンディングパッド206とは、対になっており、非接触の検査時には、インダクタ204を介して、半導体装置200の内部回路(不図示)と信号のやりとりを行う一方で、組み立て後には、ボンディングパッド206を介して、半導体装置200の内部回路(不図示)と信号のやりとりを行っている。なお、図6には示されていないが、半導体装置200上には、上述したインダクタ204とボンディングパッド206の対が多数形成されている。
ボンディングパッドにプローブ針を当てることによって検査を行なう従来の半導体装置においては、ボンディングパッド206だけで十分であったけれども、インダクタ204を介して非接触の検査を行なう図6に示される半導体装置200においては、ボンディングパッド206のほかに対となるインダクタ204が必要であり、インダクタ204を設けるスペース212を確保するために、従来の半導体装置と比較してチップ面積の増大を招いてしまう。
上述した課題を鑑みて、本発明によれば、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられた第1のインダクタと、 前記第1のインダクタ上に、前記第1のインタクタと接触するように設けられた金属ボールと、を含み、前記第1のインダクタと、前記金属ボールとを介して、外部との信号のやりとりを行なうことを特徴とする半導体装置が提供される。
本発明の半導体装置によれば、インダクタが、ボンディングパッドの機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
本発明によれば、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態を、図面を参照して、説明する。
本発明の第1の実施形態を、図面を参照して、説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態を示すための図である。図1(a)は、本発明の第1の実施形態の半導体装置100の上面図を示しており、図1(b)および図1(c)は、図1のA−A’断面図である。
図1(a)および図1(b)に示すように、半導体装置100は、半導体基板2上に配線層14を有しており、配線層14上にインダクタ4を有していて、非接触で検査可能な構成になっている。ここで配線層とは、その中に配線およびビアが形成された絶縁層を意味している。インダクタ4は、例えば、銅またはアルミニウムで形成されている。
インダクタ4の中心部分は、配線層14中に形成された配線16にビアプラグ18を介して、電気的に接続されている。配線16はさらに、内部回路(不図示)に接続されている。
配線層14上には、保護絶縁膜12が形成されており、保護絶縁膜12には、少なくともインダクタ4の一部を露出させるように開口部13が設けられている。
インダクタ4上には、金属ボール(例えば、金ボール、半田ボールなど)8が設けられており、金属ボールはインタクダ4に電気的に接続されている。金属ボールはさらに、ボンディングワイヤ10に電気的に接続されている。
金属ボール8およびボンディングワイヤ10は、非接触の検査が終了した後の組み立て工程において半導体装置100に装着される。したがって、非接触の検査の時には、インタクダ4上には、金属ボール8およびボンディングワイヤ10がないので、非接触の検査時になんら悪影響を及ぼさないことは明らかである。
また、非接触の検査が終了し、組み立て工程において金属ボール8およびボンディングワイヤが半導体装置100に装着された後には、金属ボール8およびボンディングワイヤは、インダクタ4、ビアプラグ18および配線16を介して、内部回路(不図示)に電気的に接続される。さらに、金属ボール8は、インダクタ4を構成する各配線と密着することによって、所定のボンディング強度を得ることができる。すなわち、インダクタ4は、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねている。
図1(c)は、図1(b)の変形例であり、図1(b)と異なる点は、インダクタ4が保護絶縁膜12上に設けられている点と、インダクタ4が保護絶縁膜12を貫通するビアプラグ18’を介して配線16に接続されている点であり、その他については、図1(b)と同じである。
次に本実施形態の効果について、以下に述べる。
本実施形態においては、図1に示すように、インダクタ4が、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、本実施形態の半導体装置100によれば、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態を、図面を参照して、説明する。
次に、本発明の第2の実施形態を、図面を参照して、説明する。
図2は、本発明の第1の実施形態を示すための図である。図2(a)は、本発明の第2の実施形態の半導体装置101の上面図を示しており、図2(b)および図2(c)は、図2のB−B’断面図である。
以下に、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を中心にして、本実施形態について説明する。
図2(a)および図2(b)に示すように、半導体装置101に設けられたインダクタ4’は、その中心部に太幅配線部20を有しており、太幅配線部20はビアプラグ18を介して、配線16に接続されている。配線16はさらに、内部回路(不図示)に接続されている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
また、図2(c)は、図2(b)の変形例であり、図2(b)と異なる点は、太幅配線部20を有するインダクタ4’が保護絶縁膜12上に設けられている点と、インダクタ4’の太幅配線部20が保護絶縁膜12を貫通するビアプラグ18’を介して配線16に接続されている点であり、その他については、図2(b)と同じである。
次に本実施形態の効果について、以下に述べる。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、図2に示すように、インダクタ4’が、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、本実施形態の半導体装置101においても、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
さらに、本実施形態においては、インダクタ4’の中央部に太幅配線部20を設けているので、金属ボール8とインダクタ4’との密着性を向上させることができる。
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態を、図面を参照して、説明する。
次に、本発明の第3の実施形態を、図面を参照して、説明する。
図3は、本発明の第3の実施形態を示すための図である。図3(a)は、本発明の第3の実施形態の半導体装置102の上面図を示しており、図3(b)および図3(c)は、図3のC−C’断面図である。
以下に、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を中心にして、本実施形態について説明する。
図3(a)および図3(b)に示すように、半導体装置102は、インダクタ4の下層に、さらに、別のインダクタ30を有している。インダクタ4とインダクタ30とは、図示されていないけれども、電気的に接続されている。さらに、インダクタ30の中心部分は、配線層14中に形成された配線16にビアプラグ18を介して、電気的に接続されている。配線16はさらに、内部回路(不図示)に接続されている。すなわち、金属ボール8およびボンディングワイヤ10は、インダクタ4、インダクタ30、ビアプラグ18および配線16を介して、内部回路(不図示)に接続されている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
また、図3(c)は、図3(b)の変形例であり、図3(b)と異なる点は、インダクタ4が保護絶縁膜12上に設けられている点と、インダクタ30が配線層14上に設けられている点であり、その他については、図3(b)と同じである。なお、図3(c)において、インダクタ30が配線層14上に配置されているけれども、インダクタ30は配線層14中に設けられていてもよい。
次に本実施形態の効果について、以下に述べる。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、図3に示すように、インダクタ4が、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、本実施形態の半導体装置102においても、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
さらに、本実施形態においては、インダクタ4の下層にインダクタ30を設けているので、インダクタのトータルの巻き数が実質的に増加している。したがって、非接触の検査時により良好な誘電カップリングを得ることができる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態を、図面を参照して、説明する。
次に、本発明の第4の実施形態を、図面を参照して、説明する。
図4は、本発明の第4の実施形態を示すための図である。図4(a)は、本発明の第4の実施形態の半導体装置103の上面図を示しており、図4(b)および図4(c)は、図4のD−D’断面図である。
以下に、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を中心にして、本実施形態について説明する。
図4(a)および図4(b)に示すように、半導体装置103に設けられたインダクタ4”は、その外周部に太幅配線部40を有している。さらに、インダクタ4”の中心部の細幅配線部は、ビアプラグ18を介して、配線16に接続されている。配線16はさらに、内部回路(不図示)に接続されている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
第2の実施形態が、インダクタ4’の中央部に太幅配線部を設けているのに対して、本実施形態においては、インダクタ4”の外周部に太幅配線部を設けている。
また、図4(c)は、図4(b)の変形例であり、図4(b)と異なる点は、太幅配線部40を有するインダクタ4”が保護絶縁膜12上に設けられている点と、インダクタ4”が保護絶縁膜12を貫通するビアプラグ18’を介して配線16に接続されている点であり、その他については、図4(b)と同じである。
次に本実施形態の効果について、以下に述べる。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、図4に示すように、インダクタ4”が、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、本実施形態の半導体装置103においても、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
さらに、本実施形態においては、インダクタ4”の外周部に太幅配線部40を設けているので、金属ボール8とインダクタ4”との密着性を向上させることができる。
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態を、図面を参照して、説明する。
次に、本発明の第5の実施形態を、図面を参照して、説明する。
図5は、本発明の第5の実施形態を示すための図である。図5(a)は、本発明の第5の実施形態の半導体装置104の上面図を示しており、図5(b)および図5(c)は、図5のE−E’断面図である。
以下に、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を中心にして、本実施形態について説明する。
図5(a)および図5(b)に示すように、本実施形態の半導体装置104は、第1の実施形態と異なり、金属ボール8にボンディングワイヤが電気的に接続されていない。すなわち、本実施形態の半導体装置104は、実装基板に対してフリップチップ接続可能な構成になっている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
また、図5(c)は、図5(b)の変形例であり、図5(b)と異なる点は、インダクタ4が保護絶縁膜12上に設けられている点と、インダクタ4が保護絶縁膜12を貫通するビアプラグ18’を介して配線16に接続されている点であり、その他については、図5(b)と同じである。
次に本実施形態の効果について、以下に述べる。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、図5に示すように、インダクタ4が、図6のボンディングパッド206の機能を兼ねているので、インダクタとボンディングパッドを対にして配置する必要がない。したがって、本実施形態の半導体装置104においても、チップ面積の増大を招くことなく、非接触で検査可能な構成にすることが可能になる。
さらに、本実施形態においては、実装基板に対してフリップチップ接続可能な構成になっているので、実装基板への実装工程の簡略化が可能になるとともに、高密度実装が可能である。
以上、図面を参照して各実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるわけでなく、さまざまな変更が可能である。
例えば、第3の実施形態においては、2層のインダクタを設けることを例示しているけれども、3層以上のインダクタを設けてもよい。
さらに、上記の実施形態を組み合わせることも可能である。例えば、第2の実施形態で例示されている中央部に太幅配線部を有するインダクタ4’の下層に、第3の実施形態で例示されているインダクタ30を設けてもよいし、第4の実施形態で例示されている外周部に太幅配線部を有するインダクタ4”の下層に、第3の実施形態で例示されているインダクタ30を設けてもよい。
また、第5の実施形態で例示されているボンディングワイヤを金属ボール8に電気的に接続しない構成を、第2乃至第4の実施形態に適用してもよい。
2 半導体基板
4 インダクタ
4’ インダクタ
4” インダクタ
8 金属ボール
10 ワイヤボンディング
12 保護絶縁膜
13 開口部
14 配線層
16 配線
18 ビアプラグ
18’ ビアプラグ
20 配線幅の広い部分
30 インダクタ
40 配線幅の広い部分
100 半導体装置
101 半導体装置
102 半導体装置
103 半導体装置
200 半導体装置
202 半導体基板
204 インダクタ
206 ボンディングパッド
208 金ボール
210 ボンディングワイヤ
212 インダクタが配置されているスペース
4 インダクタ
4’ インダクタ
4” インダクタ
8 金属ボール
10 ワイヤボンディング
12 保護絶縁膜
13 開口部
14 配線層
16 配線
18 ビアプラグ
18’ ビアプラグ
20 配線幅の広い部分
30 インダクタ
40 配線幅の広い部分
100 半導体装置
101 半導体装置
102 半導体装置
103 半導体装置
200 半導体装置
202 半導体基板
204 インダクタ
206 ボンディングパッド
208 金ボール
210 ボンディングワイヤ
212 インダクタが配置されているスペース
Claims (15)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられた第1のインダクタと、
前記第1のインダクタ上に、前記第1のインタクタと接触するように設けられた金属ボールと、
を含み、
前記第1のインダクタと、前記金属ボールとを介して、外部との信号のやりとりを行なうことを特徴とする半導体装置。 - 前記金属ボールに電気的に接続されたボンディングワイヤをさらに含み、
前記第1のインダクタと、前記金属ボールと、前記ボンディングワイヤを介して、外部との信号のやりとりを行なうことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 前記第1のインダクタは、スパイラル状に配置された第1の配線から構成されることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記第1のインダクタの中央部と外周部で、前記第1の配線の幅が異なっていることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
- 中央部の前記第1の配線の幅が、外周部の前記第1の配線の幅より広いことを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
- 外周部の前記第1の配線の幅が、中央部の前記第1の配線の幅より広いことを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
- 前記第1のインダクタの下層に設けられている第2のインダクタをさらに含むことを特徴とする請求項1乃至6記載の半導体装置。
- 前記第2のインダクタは、スパイラル状に配置された第2の配線から構成されることを特徴とする請求項7記載の半導体装置。
- 前記第1のインダクタと前記第2のインダクタは、電気的に接続されていることを特徴とする請求項7または8記載の半導体装置。
- 前記半導体基板上に設けられた配線層をさらに含み、
前記第1のインダクタは、前記配線層上に設けられていることを特徴とする請求項1乃至9記載の半導体装置。 - 前記配線層は、第3の配線を含み、
前記第1のインダクタは、前記第3の配線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項10記載の半導体装置。 - 前記配線層は、ビアプラグを含み、
前記第1のインダクタは、前記ビアプラグを介して、前記第3の配線と電気的に接続されていることを特徴とする請求項11記載の半導体装置。 - 前記配線層上に設けられている保護絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項10乃至12記載の半導体装置。
- 前記保護絶縁膜は、前記第1のインダクタの少なくとも1部を露出させるような開口部が有していることを特徴とする請求項13記載の半導体装置。
- 前記第1のインダクタは、前記保護絶縁膜上に設けられていることを特徴とする請求項13記載の半導体装置。
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- 2007-09-28 JP JP2007255386A patent/JP2009088201A/ja active Pending
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- 2008-09-25 US US12/232,887 patent/US7834418B2/en active Active
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