JP2009066943A - 流延ダイ、溶液製膜設備及び溶液製膜方法 - Google Patents

Abstract

【課題】厚さムラ故障を回避しつつ、効率よくフイルムを製造する。
【解決手段】流延ダイ５２は、積層ドープ６１が通過するスロット１０６を有する。スロット１０６は、第１スロット部１１１、第２スロット部１１２及び第１接続スロット部１１６を有する。第２スロット部１１２は、方向ＳＤの流路幅が、第１スロット部１１１の方向ＳＤの流路幅よりも狭くなるように形成される。第１接続スロット部１１６は、方向ＳＤの流路幅が、第１スロット部１１１側から第２スロット部１１２側に向かうに従い次第に狭くなるように形成される。第１接続スロット部１１６の内壁面１１６ａには、動摩擦係数が内壁面１１６ａよりも低い低摩擦層が形成される。
【選択図】図４

Description

本発明は、流延ダイ、溶液製膜設備及び溶液製膜方法に関する。

ポリマーフイルム（以下、フイルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学機能性フイルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレートなどを用いたセルロースエステル系フイルムは、強靭性を有し、低複屈折率であることから、写真感光用フイルムをはじめとして、近年市場が拡大している液晶表示装置（ＬＣＤ）の構成部材である偏光板の保護フイルムまたは光学補償フイルムなどの光学機能性フイルムに用いられている。

フイルムの主な製造方法としては、溶融押出方法と溶液製膜方法とがある。溶融押出方法とは、ポリマーをそのまま加熱溶解させた後、押出機で押し出してフイルムを製造する方法であり、生産性が高く、設備コストも比較的低額であるなどの特徴を有する。しかし、膜厚精度を調整することが難しく、また、フイルム上に細かいスジ（ダイライン）ができるために、光学機能性フイルムへ使用することができるような高品質のフイルムを製造することが困難である。一方、溶液製膜方法は、ポリマーと溶媒とを含んだポリマー溶液（ドープ）を支持体上に流延して形成した流延膜が自己支持性を有するものとなった後、これを支持体から剥がして湿潤フイルムとし、さらに、この湿潤フイルムを乾燥させてフイルムとする方法である。溶融押出方法と比べて、光学等方性や厚み均一性に優れるとともに、含有異物の少ないフイルムを得ることができるため、光学機能性フイルムは、主に溶液製膜方法で製造されている。

この溶液製膜方法は、セルローストリアセテートなどのポリマーをジクロロメタンや酢酸メチルを主溶媒とする溶媒に溶解した高分子溶液（以下、ドープと称する）を調製する。更に、このドープに所定の添加剤を混合し、流延用のドープを調製する。このドープを流延ダイより吐出させて流延ビードを形成させ、キャスティングドラムやエンドレスバンドなどの支持体上に流延膜を形成する。そして、流延膜の冷却により、流延膜のゲル化を進行させ、流延膜に自己支持性を発現させる。その後、この流延膜を、支持体から湿潤フイルムとして剥ぎ取り、この湿潤フイルムを乾燥させたものをフイルムとして巻き取る。

走行する支持体の表面近傍には、走行方向と略同一の方向に流れる同伴風が発生する。この同伴風が、流延ダイの流出口と支持体との間に形成される流延ビードの近傍に流入すると、流延ビードが振動する。流延ビードが振動すると、最終的に得られるフイルムの膜厚にムラが生じてしまう故障（以下、厚さムラ故障と称する）が発生してしまう。特許文献１では、減圧チャンバを用いて、流延ビードの背面側を減圧し、流延ビード近傍への同伴風の流入を防ぐ溶液製膜方法が開示されている。
特開２００６−１２３５００号公報

近年において、液晶表示装置の需要の急速な増加に伴い、生産効率の高い溶液製膜方法が強く望まれている。したがって、光学性機能フイルムを効率よく製造できる溶液製膜方法及び溶液製膜設備が検討されている。

ところが、高速の製膜速度（例えば、４０ｍ／分以上）で溶液製膜方法を行うと、得られたフイルムの長手方向において、厚さムラ故障が生じてしまうこと、更に、製膜速度を高くするに従い、この厚さムラ故障がより顕著に発生することがわかった。

高速製膜下における厚さムラ故障について、特許文献１に記載される減圧チャンバを用いて、流延ビードの背面側の減圧量を増大することにより、流延ビード近傍への同伴風の流入を防ぐこともできるが、減圧量の増大に伴い、流延ビード近傍に乱れた空気の流れが発生する。そして、この乱れた空気の流れは、厚さムラ故障のみならず、流延膜の表面にシワが発生する面状故障といった二次故障の原因となり得るため、厚さムラ故障の防止手段として、特許文献１に記載される発明のみでは不十分である。

発明者らは、鋭意検討の結果、この厚みムラ故障が同伴風のみに起因するのではなく、流延ダイ中を通過するドープの挙動に起因することを見出した。

本発明は、溶液製膜方法における厚みムラ故障の発生を解決するものであり、膜厚が均一なフイルムを効率よく製造することができる流延ダイ、溶液製膜設備及び溶液製膜方法を提供することを目的とする。

本発明は、ポリマーと溶媒とを含むドープを供給口から供給し、スロットを介して流出口から、走行する支持体上に吐出し、前記支持体上に流延膜を形成し、前記スロットは、前記ドープの流出方向に直交する方向における断面形状が、第１方向に伸びるように形成される１対の第１内壁面と、前記第１方向に直交する第２方向に、前記第１内壁面よりも短く伸びるように形成される１対の第２内壁面とにより、スリット状に形成される流延ダイにおいて、前記スロットが、前記供給口の下流側に設けられる第１スロット部と、前記第１スロット部の下流側に設けられ、前記第１内壁面間の流路幅が前記第１スロット部の前記第１内壁面間の流路幅よりも狭い第２スロット部と、前記第１スロット部と前記第２スロット部との間に設けられ、前記第１内壁面間の流路幅が前記第１スロット部側から前記第２スロット部側に向かうに従い次第に狭くなる接続スロット部と、前記接続スロット部の前記第１内壁面に形成され、前記第１スロット部及び前記第２スロット部の前記第１内壁面よりも動摩擦係数が小さい低摩擦層と、を備えることを特徴とする。

前記低摩擦層の動摩擦係数が０．４以下であることが好ましい。また、前記低摩擦層の表面粗さＲａが０．０１μｍ以上３μｍ以下であることが好ましい。更に、前記低摩擦層の硬度Ｈｖが、３５０以上であることが好ましい。加えて、前記低摩擦層がタングステンカーバイドを含むことが好ましい。

前記第１スロット部または前記第２スロット部の前記第１内壁面と、前記接続スロット部、前記第１スロット部または前記第２スロット部の前記第２内壁面と、のうち少なくとも１つに、前記低摩擦層を設けたことが好ましい。

主ドープと前記主ドープよりも粘度の低い副ドープとが前記第２方向に層をなす積層ドープを、前記供給口に供給することが好ましい。また、前記主ドープが供給される主ドープ供給口と前記供給口とを連通する主流路と、前記副ドープを供給する副ドープ供給口と前記主流路とを連通する副流路と、前記副流路との連通部よりも下流側の前記主流路に設けられ、前記主流路を通過した前記主ドープと前記副流路を通過した前記副ドープとから前記積層ドープを形成する合流部と、を備えることが好ましい。

前記支持体の走行速度が４０ｍ／分以上であることが好ましい。また、前記支持体が、軸を中心に回転するドラムであることが好ましい。更に、前記ポリマーがセルロースアシレートを含むことが好ましい。

本発明の溶液製膜設備は、上記記載の流延ダイのうちいずれか１つと、前記支持体と、前記支持体から剥ぎ取った前記流延膜を乾燥して、フイルムとする乾燥装置と、を備えることを特徴とする。

本発明の溶液製膜方法は、上記記載の流延ダイのうちいずれか１つを用いて、前記ドープを記支持体上に流出し、前記支持体上の前記ドープから前記流延膜を形成し、前記支持体から剥ぎ取った前記流延膜を乾燥することを特徴とする。

本発明によれば、前記第１内壁面間の流路幅が上流側から下流側に向かうに従い次第に狭くなる接続スロット部が流延ダイに設けられ、この接続スロット部が有する前記第１内壁面に、前記第１内壁面よりも動摩擦係数が小さい低摩擦層が設けられたため、スリット中をドープが通過する際、ドープに含まれるポリマー分子のゆがみを抑制しつつ、ドープを前記第１方向に十分広げることができる。したがって、本発明によれば、厚さムラ故障を抑えつつ、所望の幅方向のフイルムを容易に製造することができる。特に、高速製膜時では厚さムラ故障が顕著に現れるが、本発明によれば、高速製膜時においても、厚さムラ故障を抑えながら、所望の幅方向のフイルムを容易に製造することができる。

以下に、本発明の実施態様について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施態様に限定されるものではない。

（溶液製膜方法）
図１に、本実施形態で用いるフイルム製造ライン１０の概略図を示す。フイルム製造ライン１０は、流延室１２とピンテンタ１３とクリップテンタ１４と乾燥室１５と冷却室１６と巻取室１７とを有する。

ストックタンク２０は、後述する流路を介して流延室１２と接続する。ストックタンク２０には、モータ２０ａで回転する攪拌翼２０ｂとジャケット２０ｃとが備えられており、その内部には、溶媒とフイルム２２の原料となるポリマーとを含むドープ２４が貯留されている。ストックタンク２０は、常時、その外周面に設けられているジャケット２０ｃにより、ドープ２４の温度が略一定となるように調整されるとともに、攪拌翼２０ｂの回転により、ポリマーなどの凝集を抑制しながら、ドープ２４を均一の状態に保持する。

ストックタンク２０と後述するフィードブロックとの間には、中間層用ドープ流路３０ａと裏面用ドープ流路３０ｂと表面層用ドープ流路３０ｃとが接続されている。ドープ２４は、それぞれの流路３０ａ〜３０ｃに設けられているポンプ３１ａ〜３１ｃにより送液される。ポンプ３１ａ〜３１ｃは、図示しない制御部に接続する。この制御部により、ポンプ３１ａ〜３１ｃは、所定の流量で各ドープを送り出す。ポンプ３１ａ〜３１ｃとしては、ギアポンプを用いることが好ましい。このギアポンプとしては、公知のギアポンプであればいずれでもよい。

中間層用ドープ流路３０ａには、配管を介してストックタンク３３ａが接続する。ストックタンク３３ａには、中間層用添加液３４ａが貯留する。流路３０ａとストックタンク３３ａとを接続する配管には、ポンプ３５ａが設けられる。ストックタンク３３ａ中の中間層用添加液３４ａは、ポンプ３５ａにより中間層用ドープ流路３０ａに送液され、中間層用ドープ流路３０ａ中のドープ２４に添加される。その後、ドープ２４と中間層用添加液３４ａとは、中間層用ドープ流路３０ａに設けられる静止型混合器（スタティックミキサ）３８ａにより攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを中間層用ドープ３９ａと称する。中間層用添加液３４ａには、例えば紫外線吸収剤，レターデーション制御剤や可塑剤などの添加剤が予め含まれた溶液（または分散液）が入れられている。

裏面用ドープ流路３０ｂには、配管を介してストックタンク３３ｂが接続する。ストックタンク３３ｂには、裏面層用添加液３４ｂが貯留する。流路３０ｂとストックタンク３３ｂとを接続する配管には、ポンプ３５ｂが設けられる。ストックタンク３３ｂ中の裏面層用添加液３４ｂは、ポンプ３５ｂにより裏面用ドープ流路３０ｂに送液され、裏面用ドープ流路３０ｂ中のドープ２４に添加される。その後、ドープ２４と裏面層用添加液３４ｂとは、裏面用ドープ流路３０ｂに設けられる静止型混合器３８ｂにより攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを裏面層用ドープ３９ｂと称する。

表面層用ドープ流路３０ｃには、配管を介してストックタンク３３ｃが接続される。ストックタンク３３ｃには、表面層用添加液３４ｃが貯留する。流路３０ｃとストックタンク３３ｃとを接続する配管には、ポンプ３５ｃが設けられる。ストックタンク３３ｃ中の表面層用添加液３４ｃは、ポンプ３５ｃにより表面層用ドープ流路３０ｃに送液され、表面層用ドープ流路３０ｃ中のドープ２４に添加される。その後、ドープ２４と表面層用添加液３４ｃとは、表面層用ドープ流路３０ｃに設けられる静止型混合器３８ｃにより攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを表面層用ドープ３９ｃと称する。

裏面層用添加液３４ｂや表面層用添加液３４ｃには、支持体である流延バンドからの剥離を容易とする剥離促進剤（例えば、クエン酸エステルなど）、フイルムをロール状に巻き取った際にフイルム面間での密着を抑制するマット剤（例えば、二酸化ケイ素など）や劣化防止剤などの添加剤が予め含有されている。なお、裏面層用添加液３４ｂや表面層用添加液３４ｃには、可塑剤，紫外線吸収剤やレターデーション制御剤などの光学特性制御剤などの添加剤が含まれていても良い。

（ドープの粘性）
本実施形態では、基層を形成するドープ（以下、基層形成用ドープと称する）として中間層用ドープ３９ａを用い、表層を形成するドープ（以下、表層形成用ドープと称する）として、裏面層用ドープ３９ｂ，表面層用ドープ３９ｃを用いる。基層形成用ドープとしては、製造する光学機能性フイルムの強度や光学的機能に適するドープを用い、表層形成用ドープとしては、光学機能性フイルムの平面性や滑り性を良くするためのドープを用いる。また、上記に加え、表層形成用ドープとして、基層形成用ドープよりも粘性が低いものを用いることが好ましい。これにより、後述する流延膜や湿潤フイルムの表面におけるスジやムラの生成や、厚さムラなどを防ぐことができる。なお、積層共流延法等により製造され、層構造をなす積層フイルムにおいて、フイルムの主要部を形成する層を基層と称し、基層の片面あるいは両面に露出する層を表層と称する。

（ドープ濃度）
なお、基層形成用ドープに含まれるポリマー濃度は、１５重量％以上３０重量％以下であることが好ましく、２０重量％以上２５重量％以下であることがより好ましい。表層形成用ドープに含まれるポリマー濃度は、１０重量％以上２５重量％以下であることが好ましく、１５重量％以上２５重量％以下であることがより好ましく、１９重量％以上２２重量％以下であることが特に好ましい。

流延室１２には、３種類のドープ３９ａ〜３９ｃから、後述する積層ドープをつくるフィードブロック５１と、積層ドープを流出する流延ダイ５２と、支持体であり、積層ドープから流延膜５３を形成するキャスティングドラム（以下、流延ドラムと称する）５４と、流延ドラム５４から流延膜５３を剥ぎ取る剥取ローラ５５と、温調装置５６、５７と凝縮器（コンデンサ）５８と回収装置５９とが備えられている。また、制御部６０は、流延ドラム５４、温調装置５６、５７、回収装置５９と接続する。

また、凝縮器５８は、流延室１２内に気化する溶媒を凝縮液化する。制御部６０の制御の下、回収装置５９は、凝縮器５８により凝縮液化した溶媒を回収し、流延室１２内の雰囲気のガス露点ＴＲを、所定の範囲に保つ。ガス露点とは、流延室１２内の雰囲気に気化する溶媒の凝縮液化が開始する温度である。回収された溶媒は再生装置で再生された後に、ドープ調製用溶媒として再利用される。制御部６０の制御の下、温調装置５７は、流延室１２内の雰囲気の温度を所定の範囲に保つ。

（流延ドラム）
流延ドラム５４は、制御部６０の制御の下、図示を省略した駆動装置により軸５４ａを中心に、方向Ｚ１へ回転する。流延ドラム５４の回転により、周面５４ｂは方向Ｚ１へ所定の速度ＺＶで走行する。温調装置５６は、制御部６０の制御の下、所望の温度に調節された伝熱媒体を、流延ドラム５４内に設けられる流路中を循環させる。この伝熱媒体の循環により、流延ドラム５４の周面５４ｂの温度を所望の温度ＴＳに保つことができる。

流延ドラム５４の幅は特に限定されるものではないが、ドープの流延幅の１．１倍〜２．０倍の範囲のものを用いることが好ましい。周面５４ｂの表面粗さは０．０１ｍ以下となるように研磨したものを用いることが好ましい。周面５４ｂの表面欠陥は最小限に抑制する必要がある。具体的には、３０μｍ以上のピンホールが無く、１０μｍ以上３０μｍ未満のピンホールは１個／ｍ²以下であり、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ²以下であることが好ましい。流延ドラム５４の回転に伴う周面５４ｂ上下方向の位置変動は２００μｍ以下であることが好ましい。流延ドラム５４の速度変動を３％以下とし、流延ドラム５４が一回転する際に生じる幅方向の蛇行は３ｍｍ以下とすることが好ましい。

流延ドラム５４の材質は、ステンレス製であることが好ましく、十分な耐腐食性と強度とを有するようにＳＵＳ３１６製であることがより好ましい。流延ドラム５４の周面５４ｂに施されるクロムメッキ処理はビッカース硬さＨｖ７００以上、膜厚２μｍ以上、いわゆる硬質クロムメッキであることが好ましい。

フィードブロック５１は、流路３０ａ〜３０ｃから送られる各ドープ３９ａ〜３９ｃを合流させて、積層ドープ６１をつくり、所定の流量の積層ドープ６１を流延ダイ５２へ送る。そして、流延ダイ５２は、回転する流延ドラム５４の周面５４ｂに向けて、積層ドープ６１を吐出する。その後、流延ドラム５４の周面５４ｂ上の積層ドープ６１から流延膜５３が形成される。そして、流延ドラム５４が約３／４回転する間に、ゲル化による自己支持性が流延膜５３に発現し、流延膜５３は剥取ローラ５５によって流延ドラム５４から剥ぎ取られる。

また、減圧チャンバ６３を、流延ダイ５２に対し、方向Ｚ１の上流側に配置してもよい。減圧チャンバ６３は、流延ビードの背面（後に、流延ドラム５４の周面５４ｂに接する面）側を所望の圧力まで減圧する。図示しない制御部の制御の下、減圧チャンバ６３は、流延ビードの背面側を−１０Ｐａ以上−２０００Ｐａ以下の範囲で減圧することができる。流延ビードの背面側の減圧により、流延ドラム５４の回転により発生する同伴風の影響を少なくし、流延ダイ５２と流延ドラム５４との間に安定した流延ビードを形成し、膜厚ムラの少ない流延膜５３を形成することができる。

流延室１２の下流には、渡り部６５、ピンテンタ１３、クリップテンタ１４が順に設置されている。渡り部６５は、剥取ローラ５５によって剥ぎ取られた湿潤フイルム６８を、ローラ６６により、ピンテンタ１３に導入する。ピンテンタ１３は、湿潤フイルム６８の両側縁部を貫通して保持する多数のピンプレートを有し、このピンプレートが軌道上を走行する。ピンプレートにより走行する湿潤フイルム６８に対し乾燥風が送られ、湿潤フイルム６８は乾燥し、フイルム２２となる。

クリップテンタ１４は、フイルム２２の両側縁部を把持する多数のクリップを有し、このクリップが延伸軌道上を走行する。クリップにより走行するフイルム２２に対し乾燥風が送られ、フイルム２２には、フイルム幅方向への延伸処理とともに乾燥処理が施される。

ピンテンタ１３及びクリップテンタ１４の下流にはそれぞれ耳切装置７０ａ、７０ｂが設けられている。耳切装置７０ａ、７０ｂはフイルム２２の両側縁部を裁断する。この裁断した両側縁部は、送風によりクラッシャ７１ａ、７１ｂに送られて、粉砕され、ドープ等の原料として再利用される。

乾燥室１５には、多数のローラ７５が設けられており、これらにフイルム２２が巻き掛けられて搬送される。乾燥室１５内の雰囲気の温度や湿度などは、図示しない空調機により調節されており、乾燥室１５の通過によりフイルム２２の乾燥処理が行われる。乾燥室１５には吸着回収装置７６が接続されており、フイルム２２から蒸発した溶媒が吸着回収される。

乾燥室１５の出口側には冷却室１６が設けられており、この冷却室１６でフイルム２２が室温となるまで冷却される。冷却室１６の下流には強制除電装置（除電バー）８０が設けられており、フイルム２２が除電される。さらに、強制除電装置８０の下流側には、ナーリング付与ローラ８１が設けられており、フイルム２２の両側縁部にナーリングが付与される。巻取室１７には、プレスローラ８３を有する巻取機８４が設置されており、フイルム２２が巻き芯にロール状に巻き取られる。

（フィードブロック）
図２のように、フィードブロック５１は、流路３０ａ〜３０ｃと接続する第１〜第３流入口９１ａ〜９１ｃと、流延ダイ５２と接続する流出口９２と、第１流入口９１ａ及び流出口９２を接続する主流路９３とを備える。副流路９４ｂは、第２流入口９１ｂと主流路９３とを連通し、副流路９４ｃは、第３流入口９１ｃと主流路９３とを連通する。副流路９４ｂ、９４ｃとの連通部よりも下流側の主流路９３に合流部９５が設けられる。合流部９５では、各ドープ３９ａ〜３９ｃが方向ＳＤに層をなす積層ドープ６１がつくられる。主流路９３との連通部の直前の副流路９４ｂ、９４ｃには、ディストリビューションピン９６ｂ、９６ｃが設けられる。

図３のように、ディストリビューションピン９６ｂは、円柱状に形成される。ディストリビューションピン９６ｂの周面上には、副流路９４ｂ、９４ｃの上流側と下流側とを連通する切欠溝９７が設けられる。軸方向Ａ１における切欠溝９７の幅は、周方向ＳＡ１に沿って、幅ＷＡ１から幅ＷＡ２まで次第に狭くなるように形成される。切欠溝９７の幅とは、ディストリビューションピン９６ｂの軸Ａ１方向における切欠溝９７の長さである。切欠溝９７の溝深さＤ１は、０ｍｍより大きく５ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０ｍｍより大きく４ｍｍ以下であることが好ましい。溝深さＤ１が５ｍｍを超えると、最外層の膜厚分布が確保することが困難となるため好ましくない。なお、ディストリビューションピン９６ｃも、ディストリビューションピン９６ｂと同様の形状に形成される。

図２のように、駆動部９８ｂ、９８ｃは、ディストリビューションピン９６ｂ、９６ｃと接続し、ディストリビューションピン９６ｂ、９６ｃを、軸Ａ１を中心に、方向ＳＡ１またはＳＡ２へ回動させる。駆動部９８ｂ、９８ｃにより、副流路９４ｂ、９４ｃの断面積を所望の範囲に調節することができる。

（流延ダイ）
図４及び図５のように、流延ダイ５２は、リップ板１００、１０１と側板１０２、１０３とから構成され、フィードブロック５１の流出口９２と連通する流入口１０４と、積層ドープ６１を流出する流出口１０５と、流入口１０４と流出口１０５とを連通するスロット１０６と、を備える。流出口１０５は、流延ダイ５２の先端に設けられる。積層ドープ６１がスロット１０６中を流れる方向Ｂ１に垂直な面で切断したときのスロット１０６の断面形状を構成する辺のうち、長手側の辺の向きを方向ＬＤとし、短手側の辺の向きを方向ＳＤとする。なお、スロット1０６の断面形状は、略矩形であることが好ましいが、本発明はこれに限られない。

インナーディッケル板１０８、１０９が、方向ＬＤに対し、スロット１０６の両側端部に設けられる。インナーディッケル板１０８、１０９は、図示しないパッキンを介して、リップ板１００、１０１と側板１０２、１０３と密着するように設けられる。

スロット１０６には、流入口１０４から流出口１０５に向かって、第１スロット部１１１と、第２スロット部１１２と、第３スロット部１１３とが設けられる。また、第１スロット部１１１と第２スロット部１１２との間には、第１接続スロット部１１６が設けられ、第２スロット部１１２と第３スロット部１１３との間には、第２接続スロット部１１７が設けられる。

第１スロット部１１１は、方向ＬＤの流路幅が、下流に向かうに従い次第に広くなるように形成される。第２スロット部１１２は、方向ＳＤの流路幅が、第１スロット部１１１の方向ＳＤの流路幅よりも狭くなるように形成され、第２スロット部１１２の方向ＬＤの流路幅が、第１スロット部１１１の方向ＬＤ流路幅と略同一になるように形成される。第３スロット部１１３は、方向ＳＤの流路幅が、第２スロット部１１２の方向ＳＤの流路幅よりも狭くなるように形成され、第３スロット部１１３の方向ＬＤの流路幅が、下流に向かうに従い次第に広くなるように形成される。

第１接続スロット部１１６は、方向ＳＤの流路幅が、第１スロット部１１１側から第２スロット部１１２側に向かうに従い次第に狭くなるように形成され、方向ＬＤの流路幅が、第１スロット部１１１の方向ＬＤの流路幅と略同一になるように形成される。第２接続スロット部１１７は、方向ＳＤの流路幅が、第２スロット部１１２側から第３スロット部１１３側に向かうに従い次第に狭くなるように形成され、方向ＬＤの流路幅が、第２スロット部１１２の流路幅と略同一になるように形成される。

ここで、方向ＬＤの流路幅とは、一対のディッケル板１０８の内壁面１０８ａとディッケル板１０９の内壁面１０９ａとの距離であり、方向ＳＤの流路幅とは、一対のリップ板１００の内壁面１００ａとリップ板１０１の内壁面１０１ａとの距離である。

第１スロット部１１１を流れる積層ドープ６１の送液方向Ｂ１と、第１接続スロット部１１６の内壁面のうち、方向ＬＤに伸びるように形成される内壁面１１６ａとがなす角度θ１は、３０°以上４０°以下であることが好ましい。また、第２スロット部１１２を流れる積層ドープ６１の送液方向Ｂ２と、第２接続スロット部１１７の内壁面のうち、方向ＬＤに伸びるように形成される内壁面１１７ａとがなす角度θ２は、３０°以上４０°以下であることが好ましい。

フィードブロック５１及び流延ダイ５２を構成するリップ板１００、１０１とインナーディッケル板１０８、１０９の材質は析出硬化型のステンレス鋼を用いることが好ましい。その熱膨張率が２×１０^-5 （℃^-1 ）以下の素材を用いることが好ましい。また、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有するものを用いることもできる。さらに、その素材はジクロロメタン、メタノール、水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有するものを用いる。さらに、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延ダイ５２を作製することが好ましい。これにより流延ダイ５２のスロット１０６内を流れる積層ドープ６１の面状が一定に保たれる。

スロット１０６並びに、主流路９３及び副流路９４ｂ、９４ｃ（図２参照）の内壁面の仕上げ精度は表面粗さで３μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下のものを用いることが好ましい。方向ＳＤにおけるスロット１０６の流路幅の平均値が、自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍの範囲で調整可能なものを用いる。流延ダイ５２のリップ先端の接液部の角部分について、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下のものを用いる。また、スロット１０６内でのドープ３９ａ〜３９ｃの剪断速度は１（１／秒）〜５０００（１／秒）となるように調整されているものを用いることが好ましい。

第１接続スロット部１１６や第２接続スロット部１１７の内壁面１１６ａ、１１７ｂには、厚みが略一様の低摩擦層が形成される。低摩擦層の厚さは、５μｍ以上５００μｍ以下である。

低摩擦層の動摩擦係数は、第１スロット部１１１〜第３スロット部１１３の内壁面のうち、方向ＬＤに伸びるように形成される内壁面の動摩擦係数よりも低い。低摩擦層の動摩擦係数は、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましい。本明細書における動摩擦係数は、(株)東洋精機製作所製、スラスト磨耗試験機を使用し、ASTM D-1894に規定される方法に従って測定した。

厚みムラ防止効果をより顕著に発揮させるため、低摩擦層の表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上３μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上２μｍ以下であることがより好ましい。表面粗さＲａの測定方法は、ＪＩＳ Ｂ ０００１による。

低摩擦層の硬さＨｖは、３５０以上であることが好ましく、６００以上であることがより好ましい。硬さＨｖの測定方法は、ＪＩＳ Ｚ ２２４４による。

低摩擦層の形成方法は、特に限定されるものではないが、セラミックスコーティング、ハードクロムメッキ、窒化処理方法などが挙げられる。低摩擦層としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイ５２と密着性が良く、ドープと密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド（ＷＣ），Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＴｉＮ，Ｃｒ₂Ｏ₃ などが挙げられるが、特に好ましくはＷＣを用いることである。ＷＣコーティングは、溶射法や蒸着法等で行うことができる。また、低摩擦層として、フッ素コーティングを用いることも可能である。

製膜中は、所定の温度に保持されるように温調機（例えば、ヒータ，ジャケットなど）を取り付けることが好ましい。また、流延ダイ５２にはコートハンガー型のものを用いることが好ましい。さらに、厚み調整ボルト（ヒートボルト）を所定の間隔で設けてヒートボルトによる自動厚み調整機構を取り付けることがより好ましい。ヒートボルトは予め設定されるプログラムによりポンプ（高精度ギアポンプが好ましい）３１ａ〜３１ｃ（図１参照）の送液量に応じてプロファイルを設定し製膜を行うことが好ましい。また、フイルム製膜ライン１０中に図示しない厚み計（例えば、赤外線厚み計）のプロファイルに基づく調整プログラムによってフィードバック制御を行っても良い。流延エッジ部を除いて任意の２点の厚み差は１μｍ以内に調整し、幅方向厚みの最小値で最も大きな差が３μｍ以下となるように調整することが好ましい。また、厚み精度は±１．５μｍ以下に調整されているものを用いることが好ましい。

なお、リップ板１００、１０１の先端、すなわち、流出口１０５の周縁に低摩擦層が形成されていることがより好ましい。

次に、図１を用いて、フイルム製造ライン１０によりフイルム２２を製造する方法の一例を説明する。ストックタンク２０では、ジャケット２０ｃの内部に伝熱媒体を流すことによりドープ２４の温度を２５℃以上３５℃以下の範囲で略一定となるように調整するとともに、攪拌翼２０ｂの回転により常に均一化している。

ストックタンク２０に貯留するドープ２４と所定の中間層用添加液３４ａとから中間層用ドープ３９ａが調製される。調製された中間層用ドープ３９ａは、流路３０ａを介して、フィードブロック５１へ送られる。同様にして、ドープ２４と所定の添加液３４ｂとから裏面層用ドープ３９ｂが、ドープ２４と所定の添加液３４ｃとから表面層用ドープ３９ｃが、それぞれ調製される。調製された裏面層用ドープ３９ｂは、流路３０ｂを介して、調製された表面層用ドープ３９ｃは、流路３０ｃを介して、フィードブロック５１へ送られる。フィードブロック５１は、各ドープ３９ａ〜３９ｃが方向ＳＤに層を成す積層ドープ６１（図２参照）をつくり、流延ダイ５２へ積層ドープ６１を送る。

流延ドラム５４は、軸５４ａを中心に回転する。これにより、周面５４ｂは、速度ＺＶで方向Ｚ１へ走行する。速度ＺＶは、４０ｍ／分以上２００ｍ／分以下であることが好ましく、４０ｍ／分以上１５０ｍ／分以下であることが好ましい。流延ダイ５２は、積層ドープ６１を流延ドラム５４へ流延し、流延膜５３を形成する。その後、剥取ローラ５５は、自己支持性が発現した流延膜５３を、流延ドラム５４から湿潤フイルム６８として剥ぎ取り、渡り部６５を介して、ピンテンタ１３へ案内する。

ピンテンタ１３では、多数のピンを湿潤フイルム６８の両側端部に差し込んで固定した後、この湿潤フイルム６８を搬送する間に乾燥を促進させてフイルム２２とする。そして、まだ溶媒を含んでいる状態のフイルム２２をクリップテンタ１４に送り込む。このとき、クリップテンタ１４に送られる直前でのフイルム２２の残留溶媒量は、５０〜１５０重量％であることが好ましい。なお、本発明では、フイルム中に残留する溶媒量を乾量基準で示したものを残留溶媒量とする。また、その測定方法は、対象のフイルムからサンプルを採取し、このサンプルの重量をｘ、サンプルを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で算出する。

クリップテンタ１４では、チェーンの動きによりエンドレスで走行する多数のクリップによりフイルム２２の両側端部を挟持した後、このフイルム２２を搬送する間に、乾燥を促進させる。このとき、対面するクリップ間距離（フイルム幅）を拡げてフイルム２２の幅方向に張力を付与することでフイルム２２を延伸する。このように、フイルム２２の幅方向への延伸処理により、フイルム２２中の分子が配向し、所望のレターデーション値をフイルム２２に付与することができる。

ピンテンタ１３及びクリップテンタ１４を出たフイルム２２は、耳切装置７０ａ、７０ｂによって両側端部が裁断される。両側端部が切断されたフイルム２２は、乾燥室１５と冷却室１６とを経由し、巻取室１７内の巻取機８４によって巻き取られる。また、耳切装置７０ａ、７０ｂによって切断された両側端部はクラッシャ７１ａ、７１ｂにより粉砕されて、ドープ調製用チップとなり再利用される。

巻取機８４で巻き取られるフイルム２２は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、フイルム２２の幅が６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、本発明は、２５００ｍｍより幅広の場合にも効果がある。さらに、フイルム２２の厚みが２０μｍ以上または８０μｍ以下の薄いフイルムを製造する際にも本発明は適用される。

図４及び図５のように、流延ダイ５２の流入口１０４には、フィードブロック５１の流出口９２より、積層ドープ６１（図２参照）が供給される。流入口１０４に供給された積層ドープ６１は、スロット１０６を介して、流出口１０５から流出する。

スロット１０６に送られた積層ドープ６１は、第１スロット部１１１及び第１接続スロット部１１６を介して、第２スロット部１１２に流入する。第２スロット部１１２を通過した積層ドープ６１は、第３スロット部１１３及び第２接続スロット部１１７を介して、流出口１０５から流出する。

方向ＳＤにおける第１接続スロット部１１６の流路幅は、第１スロット部１１１側から第２スロット部１１２側に向かうに従い狭くなるため、第１接続スロット部１１６に流入した積層ドープ６１は内壁面１１６ａと接触し、内壁面１１６ａとの接触により、積層ドープ６１は方向ＬＤに広がりながら第１接続スロット部１１６を通過する。積層ドープ６１が第１接続スロット部１１６を通過する際、積層ドープ６１は内壁面１１６ａにおいてせん断応力を受け、このせん断応力により、積層ドープ６１に含まれるポリマー分子にゆがみが生じる。同様にして、方向ＳＤにおける第２接続スロット部１１７の流路幅は、第２スロット部１１２側から第３スロット部１１３側に向かうに従い狭くなるため、内壁面１１７ａとの接触により、積層ドープ６１は方向ＬＤに広がりながら第２接続スロット部１１７を通過する。積層ドープ６１が第２接続スロット部１１７を通過する際、積層ドープ６１は内壁面１１７ａにおいてせん断応力を受け、このせん断応力により、積層ドープ６１に含まれるポリマー分子にゆがみが生じる。

一定量のポリマー分子のゆがみが残留する積層ドープ６１が、流出口１０５から流出すると、流出口１０５から周面５４ｂまでにおける積層ドープ６１の流れが非定常な流れとなる。この非定常な流れは、いわゆるメルトフラクチャーを誘発し、結果として、流延膜５３に、長さ方向における厚さムラ故障の原因となる。

この厚みムラ故障を誘発するポリマー分子のゆがみの発生を抑えるために、内壁面１１６ａや１１７ａを持たず、方向ＳＤ、ＬＤにおける流路幅が、上流側から下流側にかけて略均一のスロットを用いて積層ドープ６１を流延すると、スロットを通過の際、粘度の高い積層ドープ６１は、ＬＤ方向に十分に広がらないまま流出口１０５から流出してしまい、結果として、厚さムラ故障のほか、フイルム幅が均一でない幅ムラ等が生じてしまう。

本発明では、内壁面１１６ａ、１１７ａに低摩擦層を設けたため、積層ドープ６１がスロット１０６を通過するときに内壁面１１６ａ、１１７ａから受けるせん断応力を抑えつつ、ＬＤ方向に積層ドープ６１を十分に広げることができる。したがって、本発明によれば、スロット１０６の通過の際に発生するポリマー分子のゆがみを抑えることができるため、流出口１０５から周面５４ｂまでにおける積層ドープ６１の流れを定常化させて、メルトフラクチャーを抑え、厚さムラが抑えられた所望の幅のフイルムを製造することができる。

上記実施形態では、第１接続スロット部１１６の内壁面１１６ａと第２接続スロット部１１７の内壁面１１７ａとの両方に低摩擦層を設けたが、本発明はこれに限られず、内壁面１１６ａと内壁面１１７ａとのうち少なくとも一方に設ければよい。なお、内壁面１１６ａと内壁面１１７ａとのうち少なくとも一方に設ける場合には、流出口１０５から近い内壁面１１７ａに低摩擦層を設けることが好ましい。

また、積層ドープ６１が流出口１０５から流出する前に、積層ドープ６１に含まれるポリマー分子のゆがみを回復させるため、低摩擦層は、第１接続スロット部１１６と流出口１０５との間、または、第２接続スロット部１１７と流出口１０５との間におけるスロット１０６の内壁面に設けることが好ましい。また、低摩擦層の形成位置が、流出口１０５から近くなるほど、厚みムラ故障の抑制効果は、より顕著に発現する。

また、積層ドープ６１が流出口１０５から流出する前に、スリット１０６中で積層ドープ６１に含まれるポリマー分子のゆがみを効率よく回復させるため、スロット１０６全体に、低摩擦層を設けてもよい。スロット１０６全体とは、第１スロット部１１１〜第３スロット部１１３が有する、方向ＳＤまたは方向ＬＤに伸びる内壁面や、第１接続スロット部１１６及び第２接続スロット部１１７が有する方向ＳＤに伸びる内壁面を指す。なお、低摩擦層が設けられる第１スロット部１１１〜第３スロット部１１３、第１接続スロット部１１６及び第２接続スロット部１１７は、方向ＳＤまたは方向ＬＤの流路幅が、上流側から下流側になるに従って狭くなるものに限られず、上流側から下流側になるに従って広くなる、または、略一定であるものでもよい。

上記実施形態では、第１スロット部１１１、第２スロット部１１２、第１接続スロット部１１６、第２接続スロット部１１７の方向ＬＤの流路幅が、上流側から下流側まで、略一定としたが、本発明はこれに限られず、方向ＬＤの流路幅が、上流側から下流側になるに従い、広くなってもよい。

複数層のフイルムを製造するために複数のドープを流延する方法としては、前述の同時積層共流延でも良いし、逐次流延でも良いし、双方を組み合わせても良い。同時積層共流延を行う際には、本実施形態のように流延ダイ５２にフィードブロック５１を取り付けても良いし、マルチマニホールド型流延ダイ（図示しない）を用いても良い。複層構造のフイルムは、共流延により多層からなるフイルムは、空気面側の層（エアー面層）の厚さ及び／又は支持体側の層の厚さがそれぞれ全体のフイルム厚さ中で０．５％〜３０％であることが好ましい。さらに、同時積層共流延を行う場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に、高粘度ドープを低粘度ドープで包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行う場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に内部のドープは、そのドープよりもアルコールの組成比が大きなドープで包み込まれることが好ましい。なお、本発明は、１つの種類のドープを流延する流延工程や溶液製膜方法に用いることができる。

上記実施形態では、流延ダイ５２にフィードブロック５１を取りつけて、同時積層共流延を行ったが、本発明はこれに限られず、フィードブロック５１を用いずに、１種類の流延ドープから流延膜を形成する形態にも適用することができる。

なお、本実施形態では、ポリマーフイルムとしてフイルム２２を用いて説明を行ったが、本発明は各種ポリマーフイルムに適用可能である。

上記実施形態では、支持体として、流延ドラム５４を用いたが、本発明はこれに限られず、ローラに掛け渡され、ローラの回転により、エンドレスに走行する流延バンドを用いてもよい。

上記実施形態では、冷却により流延膜５３に自己支持性を発現させたが、本発明はこれに限られず、流延膜５３に含まれる溶媒の乾燥により流延膜５３に自己支持性を発現させてもよい。

（ポリマー）
以下、本発明においてドープ２４を調製する際に使用する原料について説明する。

本実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いており、セルロースアシレートとしては、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度が下記式(Ｉ)〜(ＩＩＩ)の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式(Ｉ)〜(ＩＩＩ)において、ＡおよびＢは、セルロースの水酸基中の水素原子に対するアシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。ただし、本発明に用いることができるポリマーは、セルロースアシレートに限定されるものではない。
（Ｉ） ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦Ｂ≦２．９

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位および６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化の場合を置換度１とする）を意味する。

全アシル化置換度、すなわち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６の値は、２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）の値は、０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上であり、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２は、グルコース単位における２位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、２位のアシル置換度と称する）であり、ＤＳ３は、グルコース単位における３位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、３位のアシル置換度と称する）であり、ＤＳ６は、グルコース単位において、６位の水酸基の水素がアシル基によって置換されている割合（以下、６位のアシル置換度と称する）である。

本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときには、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位および６位の水酸基がアセチル基により置換されている度合いの総和をＤＳＡとし、２位，３位および６位の水酸基がアセチル基以外のアシル基によって置換されている度合いの総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、２．２２〜２．９０であることが好ましく、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。

また、ＤＳＢは０．３０以上であることが好ましく、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢは、その２０％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましく、より好ましくは２５％以上であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上であることが好ましい。さらに、セルロースアシレートの６位におけるＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であり、さらに好ましくは、０．８０以上であり、特には０．８５以上であるセルロースアシレートも好ましく、これらのセルロースアシレートを用いることで、より溶解性に優れた溶液（ドープ）を作製することができる。特に、非塩素系有機溶媒を使用すると、優れた溶解性を示し、低粘度で濾過性に優れるドープを作製することができる。

セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでもよい。

本発明におけるセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定はされない。例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどが挙げられ、それぞれ、さらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが挙げられる。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくは、プロピオニル基、ブタノイル基である。

（溶媒）
ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）およびエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明においてドープとは、ポリマーを溶媒に溶解または分散させることで得られるポリマー溶液または分散液を意味している。

上記のハロゲン化炭化水素の中でも、炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フイルムの機械的強度および光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対して２〜２５重量％が好ましく、より好ましくは、５〜２０重量％である。アルコールとしては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない溶媒組成も検討されている。この場合には、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素数１〜１２のアルコールが好ましく、これらを適宜混合して用いる場合もある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶媒が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステルおよびアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステルおよびアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−および−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も溶媒として用いることができる。

セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。また、溶媒および可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されており、これらの記載も本発明に適用することができる。

次に、本発明の実施例を説明する。なお、以下の各実施例において、実施例１、２は本発明の実施様態の例であり、比較例１は、実施例１、２に対する比較実験である。また、各実施例の説明は実施例１で詳細に行い、実施例２及び比較例１については、実施例１と同じ条件の箇所の説明は省略する。

次に、本発明の実施例１について説明する。フイルム製造に使用したポリマー溶液（ドープ）の調製に際しての配合を下記に示す。

［ドープの調製］
ドープ２４の調製に用いた化合物の処方を下記に示す。
セルローストリアセテート（置換度２．８） ８９．３重量％
可塑剤Ａ（トリフェニルフォスフェート） ７．１重量％
可塑剤Ｂ（ビフェニルジフェニルフォスフェート） ３．６重量％
の組成比からなる固形分（溶質）を
ジクロロメタン ８０重量％
メタノール １３．５重量％
ｎ−ブタノール ６．５重量％
からなる混合溶媒に適宜添加し、攪拌溶解してドープ２４を調製した。なお、ドープ２４のＴＡＣ濃度は略２３重量％になるように調整した。ドープ２４を濾紙（東洋濾紙（株）製，＃６３ＬＢ）にて濾過後さらに焼結金属フィルタ（日本精線（株）製０６Ｎ，公称孔径１０μｍ）で濾過し、さらにメッシュフイルタで濾過した後にストックタンク２０に入れた。

［セルローストリアセテート］
なお、ここで使用したセルローストリアセテートは、残存酢酸量が０．１重量％以下であり、Ｃａ含有率が５８ｐｐｍ、Ｍｇ含有率が４２ｐｐｍ、Ｆｅ含有率が０．５ｐｐｍであり、遊離酢酸４０ｐｐｍ、さらに硫酸イオンを１５ｐｐｍ含むものであった。また６位水酸基の水素に対するアセチル基の置換度は０．９１であった。また、全アセチル基中の３２．５％が６位の水酸基の水素が置換されたアセチル基であった。また、このＴＡＣをアセトンで抽出したアセトン抽出分は８重量％であり、その重量平均分子量／数平均分子量比は２．５であった。また、得られたＴＡＣのイエローインデックスは１．７であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であった。このＴＡＣは、綿から採取したセルロースを原料として合成されたものである。以下の説明において、これを綿原料ＴＡＣと称する。

フイルム製造ライン１０を用いてフイルム２２を製造した。ポンプ３１ａ〜３１ｃは、ストックタンク２０内のドープ２４を、流路３０ａ〜３０ｂを介して、各ドープ３９ａ〜３９ｃとして、フィードブロック５１へ送った。フィードブロック５１は、各ドープ３９ａ〜３９ｃから積層ドープ６１をつくり、積層ドープ６１を流延ダイ５２へ送った。積層ドープ６１の温度を略３４℃に調整するために、流延ダイ５２にジャケット（図示しない）を設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の温度を調節した。

流延ダイ５２の内壁面１１６ａ、１１７ａに、ＷＣコーティング処理を施し、低摩擦層を設けた。内壁面１１６ａ、１１７ａの動摩擦係数は、０．２であり、硬さＨｖは４２０であり、表面粗さＲａは０．１μｍであった。

流延ドラム５４としては、ステンレス製の円柱であり、その周面５４ｂにクロムメッキ及び鏡面加工処理が施されたものを用いた。制御部６０の制御の下、軸５４ａの駆動により、流延ドラム５４を回転させた。周面５４ｂの走行方向Ｚ１における速度ＺＶを、略１００ｍ／分とした。制御部６０の制御の下、温調装置３６は、流延ドラム５４の周面５４ｂの温度ＴＳを、略−１０℃に調節した。流延ドラム５４上での乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、この酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するために空気を窒素ガスで置換した。

流延ダイ５２は、フイルム２２の厚みが１００μｍとなるように、積層ドープ６１を周面５４ｂ上に流延し、周面５４ｂに流延膜５３を形成した。減圧チャンバ６３は、流延ビードの背面側を減圧し、流延ビードの長さが２０ｍｍ〜５０ｍｍとなるように流延ビードの前面側と背面側との圧力差を調節した。

冷却により、流延膜５３が自己支持性を有するものとなった後、剥取ローラ５５を用いて、流延ドラム５４から流延膜５３を湿潤フイルム６８として剥ぎ取った。剥取不良を抑制するために流延ドラム５４の速度に対して剥取速度（剥取ローラドロー）は１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。

剥取ローラ５５は、湿潤フイルム６８に渡り部６５に案内した。渡り部６５では、温度が略６０℃の乾燥空気を湿潤フイルム６８にあてて、湿潤フイルム６８を乾燥させた。渡り部６５に設けられるローラ６６は、湿潤フイルム６８をピンテンタ１３に案内した。

ピンテンタ１３では、湿潤フイルム６８に乾燥空気をあてて、湿潤フイルム６８を乾燥した。この乾燥により湿潤フイルム６８からフイルム２２を得た。その後、ピンテンタ１３は、フイルム２２をクリップテンタ１４に送った。ピンテンタ１４では、フイルム２２に乾燥空気をあてて、フイルム２２を乾燥しながら、幅方向に延伸処理を施した。

ピンテンタ１３、クリップテンタ１４から送られたフイルム２２の両側縁部を、耳切装置７０ａ、７０ｂにて、切断した。ＮＴ型カッターを用いて、幅が略５０ｍｍの両側縁部をカットし、カットされた側縁部はカッターブロワ（図示しない）によりクラッシャ７１ａ、７１ｂに風送して平均８０ｍｍ² 程度のチップに粉砕した。このチップは、再度ドープ調製用原料としてＴＡＣフレークと共にドープ製造の際の原料として利用した。

耳切装置７１ｂを経たフイルム２２を、乾燥室１５に送った。耳切装置７１ｂから送り出されたフイルム２２の残留溶媒量が乾量基準で略１０重量％であった。乾燥室１５では、フイルム２２に温度が略１４０℃の乾燥空気をあてて、フイルム２２を乾燥した。

そして、フイルム２２を巻取室１７に搬送した。巻取室１７は、室内温度２８℃，湿度７０％に保持した。巻取室１７の内部には、フイルム２２の帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶとなるようにイオン風除電装置（図示しない）も設置した。最後に、プレスローラ８３で所望のテンションを付与しつつ、フイルム２２を巻取室１７内の巻取機８４で巻き取った。

スロット１０６の内壁面全体に、実施例１と同様のＷＣコーティングを施したこと以外は、実施例１と同様にして、フイルム２２を製造した。

（比較例）
内壁面１１６ａ、１１７ａにＷＣコーティングを施されていない流延ダイを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、フイルムを製造した。内壁面１１６ａ、１１７ａの動摩擦係数は０．４であり、硬さＨｖは３８０、表面粗さＲａは０．１μｍであった。

〔評価〕
各実施例及び比較例における製造条件、測定結果及び評価結果を、表１に纏めて示す。なお、表１中において、動摩擦係数は、流延ダイの内壁面１１６ａ、１１７ａの動摩擦係数であり、硬さＨｖは、流延ダイの内壁面１１６ａ、１１７ａの硬さＨｖであり、表面粗さＲａは、流延ダイの内壁面１１６ａ、１１７ａの表面粗さである。また、表１中の評価結果は、厚みムラ評価の評価結果であり、評価基準は次のとおりである。

各実施例にて得られたフイルムについて、厚みムラ測定を行った。この厚みムラ測定の手順は、次のとおりである。第１に、各実施例で製造されたフイルムから、略６ｃｍ四方のサンプルフイルムを切り出した。第２に、サンプルフイルムの屈折率差を厚み差に換算できる装置を用いてサンプルフイルムの屈折率差を測定した。この装置として、ＦＸ−０３ ＦＲＩＮＧＥＡＮＡＬＹＺＥＲ（ＦＵＪＩＮＯＮ（株）社製）を用いた。第３に、サンプルフイルムの全域にわたりこの屈折率差を測定し、この平均値を各実施例における厚みムラとした。このようにして得られた厚みムラが、フイルムの厚みに対して１．５％未満である場合には、この判定結果を◎とし、フイルムの厚みに対して１．５％以上１．８％以下である場合には、この判定結果を○とし、１．８％以上である場合には×とした。
なお、フイルムの厚みは、マイクロメータを用いて、フイルムの６箇所の厚みを計測し、この平均値をフイルムの厚みとした。

上記実施例より、内壁面１１６ａ、１１７ａに低摩擦層が形成された流延ダイ５２を用いることにより、厚みムラ故障の発生を抑制できることがわかった。さらに、スロット１０６全体の内壁面に低摩擦層が形成された流延ダイ５２を用いることにより、厚みムラ故障の発生をより確実に抑制できることがわかった。

フイルム製造ラインの概要を示す説明図である。 フィードブロックの断面図である。 ディストリビューションピンの概要を示す斜視図である。 流延ダイのＩＶ−ＩＶ線断面図である。 流延ダイのＶ−Ｖ線断面図である。

符号の説明

１０ フイルム製造ライン
１２ 流延室
１３ ピンテンタ
１４ クリップテンタ
１５ 乾燥室
１６ 冷却室
１７ 巻取室
２０ ストックタンク
２２ フイルム
２４ ドープ
５１ フィードブロック
５２ 流延ダイ
５３ 流延膜
５４ 流延ドラム
５４ａ 軸
５４ｂ 周面
５５ 剥取ローラ
６１ 積層ドープ
９３ 主流路
９４ｂ、９４ｃ 副流路
１０６ スリット
１１１〜１１３ 第１〜第３スロット部
１１６〜１１７ 第１〜第２接続スロット部
１１６ａ、１１７ａ 内壁面

Claims (13)

1. ポリマーと溶媒とを含むドープを供給口から供給し、スロットを介して流出口から、走行する支持体上に吐出し、前記支持体上に流延膜を形成し、
   前記スロットは、前記ドープの流出方向に直交する方向における断面形状が、第１方向に伸びるように形成される１対の第１内壁面と、前記第１方向に直交する第２方向に、前記第１内壁面よりも短く伸びるように形成される１対の第２内壁面とにより、スリット状に形成される流延ダイにおいて、
   前記スロットが、
   前記供給口の下流側に設けられる第１スロット部と、
   前記第１スロット部の下流側に設けられ、前記第１内壁面間の流路幅が前記第１スロット部の前記第１内壁面間の流路幅よりも狭い第２スロット部と、
   前記第１スロット部と前記第２スロット部との間に設けられ、前記第１内壁面間の流路幅が前記第１スロット部側から前記第２スロット部側に向かうに従い次第に狭くなる接続スロット部と、
   前記接続スロット部の前記第１内壁面に形成され、前記第１スロット部及び前記第２スロット部の前記第１内壁面よりも動摩擦係数が小さい低摩擦層と、
   を備えることを特徴とする流延ダイ。
2. 前記低摩擦層の動摩擦係数が０．４以下であることを特徴とする請求項１記載の流延ダイ。
3. 前記低摩擦層の表面粗さＲａが０．０１μｍ以上３μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２記載の流延ダイ。
4. 前記低摩擦層の硬度Ｈｖが、３５０以上であることを特徴とする請求項１ないし３のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
5. 前記低摩擦層がタングステンカーバイドを含むことを特徴とする請求項１ないし４のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
6. 前記第１スロット部または前記第２スロット部の前記第１内壁面と、
   前記接続スロット部、前記第１スロット部または前記第２スロット部の前記第２内壁面と、
   のうち少なくとも１つに、前記低摩擦層を設けたことを特徴とする請求項１ないし５のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
7. 主ドープと前記主ドープよりも粘度の低い副ドープとが前記第２方向に層をなす積層ドープを、前記供給口に供給することを特徴とする請求項１ないし６のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
8. 前記主ドープが供給される主ドープ供給口と前記供給口とを連通する主流路と、
   前記副ドープを供給する副ドープ供給口と前記主流路とを連通する副流路と、
   前記副流路との連通部よりも下流側の前記主流路に設けられ、前記主流路を通過した前記主ドープと前記副流路を通過した前記副ドープとから前記積層ドープを形成する合流部と、を備えることを特徴とする請求項７記載の流延ダイ。
9. 前記支持体の走行速度が４０ｍ／分以上であることを特徴とする請求項１ないし８のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
10. 前記支持体が、軸を中心に回転するドラムであることを特徴とする請求項１ないし９のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
11. 前記ポリマーがセルロースアシレートを含むことを特徴とする請求項１ないし１０のうちいずれか１項記載の流延ダイ。
12. 請求項１ないし１１のうちいずれか１項記載の流延ダイと、
    前記支持体と、
    前記支持体から剥ぎ取った前記流延膜を乾燥して、フイルムとする乾燥装置と、
    を備えることを特徴とする溶液製膜設備。
13. 請求項１ないし１１のうちいずれか１項記載の流延ダイを用いて、前記ドープを記支持体上に流出し、
    前記支持体上の前記ドープから前記流延膜を形成し、
    前記支持体から剥ぎ取った前記流延膜を乾燥することを特徴とする溶液製膜方法。

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