JP2009059870A - 発光モジュールおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】放熱性が向上されると共に、発光素子を封止する封止樹脂と他の部材との密着性が向上された発光モジュールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】発光モジュール10は、金属基板12と、金属基板12の上面を部分的に凹状にすることで設けられた凹部18と、凹部18に収納された発光素子20と、発光素子20を被覆する封止樹脂32とを具備する。更に、凹部18を囲む領域の金属基板40の上面には凸状部11が設けられており、この凸状部11に封止樹脂32が密着することにより、封止樹脂32と金属基板12との密着強度が向上されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、発光モジュールおよびその製造法に関し、特に、高輝度の発光素子が実装される発光モジュールおよびその製造方法に関する。
LED(Light Emitting Diode)に代表される半導体発光素子は、寿命が長く且つ視認性が高いので、交通信号機等や自動車のランプ等に使用されてきている。また、LEDは、照明機器としても採用されつつある。
LEDを照明機器に使用するときは、一つのLEDのみでは明るさが不十分であるため、1つの照明機器に多数個のLEDが実装される。しかしながら、LEDは発光時に多量の熱を放出するので、放熱性に劣る樹脂材料から成る実装基板にLEDを実装したり、個々のLEDを個別に樹脂パッケージすると、LEDから放出された熱が外部に良好に放出されずに、LEDの性能が早期に低下してしまう問題があった。
下記特許文献1では、LEDから発生する熱を良好に外部に放出させるために、アルミニウムから成る金属基板の上面にLEDを実装する技術が開示されている。特に、特許文献1の図2を参照すると、金属基板11の上面を絶縁性樹脂13により被覆し、この絶縁性樹脂13の上面に形成された導電パターン14の上面に発光素子15(LED)を実装している。この構成により、発光素子16から発生した熱は、導電パターン14、絶縁性樹脂13および金属基板11を経由して外部に放出される。
特開2006−100753号公報
しかしながら、特許文献1に記載された技術では、LEDである発光素子15が固着される導電パターン14と金属基板11との間に絶縁性樹脂13が介在している。ここで、絶縁性樹脂13は放熱性向上の為にフィラーが高充填されているものであるが、金属と比較すると熱抵抗が高い。従って、例えば200mA以上の大電流が流れる高輝度のLEDを発光素子16として発光すると、特許文献1に記載された構成は、放熱が不十分である虞があった。
更には、発光素子15を封止する封止樹脂と他の部材(例えば基板)との密着性が不十分であったので、使用状況下の温度変化に起因する熱ストレスにより、封止樹脂が基板から剥離してしまう危険性があった。
本発明は、上述した問題を鑑みてなされ、本発明の主な目的は、放熱性が向上されると共に、発光素子を封止する封止樹脂と他の部材との密着性が向上された発光モジュールおよびその製造方法を提供することにある。
本発明の発光モジュールは、第1主面と第2主面とを有する基板と、前記基板の前記第1主面に形成された導電パターンと、前記基板を前記第1主面から凹状にすることにより設けられた凹部と、前記凹部に収納されて前記導電パターンと電気的に接続された発光素子と、前記凹部を囲む領域の前記基板の前記第1主面を凸状に形成した凸状部と、前記発光素子を被覆するように前記凹部に充填されると共に前記凸状部に密着する封止樹脂と、を具備することを特徴とする。
本発明の発光モジュールの製造方法は、基板の一主面に導電パターンを形成する工程と、前記基板に対してプレス加工を施して、前記基板を前記第1主面から凹状にすることにより凹部を設けると共に、前記凹部を囲む領域の前記基板の前記一主面を凸状に形成して凸状部を設ける工程と、前記凹部に発光素子を収納して、前記発光素子と前記導電パターンとを電気的に接続する工程と、前記発光素子が被覆されるように前記凹部に充填されると共に、前記凸状部に密着するように封止樹脂を形成する工程と、を具備することを特徴とする。
本発明によれば、発光素子が収納させる凹部を囲むように、基板の表面を凸状にした凸状部を設け、発光素子を封止するために凹部に充填される封止樹脂を凸状部に接触させている。この構成により、基板の表面に設けた凸部に封止樹脂が密着して、封止樹脂の基板からの剥離が防止される。
更に、本発明では、基板を凹状に形成した凹部に発光素子を収納させている。従って、発光素子から発生した熱を、例えば金属から成る基板を経由して良好に外部に放出させることができる。
また、製法上に於いては、金型で基板の上面をプレス加工することにより、上記した凹部と共にその周囲の凸状部を同時に形成することができるので、工数の増加を抑制して凸状部を形成することができる。
図1を参照して、本発明の発光モジュール10の構成を説明する。図1(A)は発光モジュール10の斜視図であり、図1(B)は図1(A)のB−B’線に於ける断面図であり、図1(C)は図1(A)のC−C’線に於ける断面図である。
これらの図を参照して、発光モジュール10は、金属基板12と、金属基板12の上面に形成された導電パターン14と、金属基板12の上面を部分的に凹状にすることで設けられた凹部18と、凹部18の周辺部の金属基板12の上面を凸状にした凸状部11と、凹部18に収納された発光素子20と、発光素子20を被覆する封止樹脂32とから主に構成されている。
図1(A)を参照して、発光モジュール10は、一枚の板状の金属基板12の上面に複数の発光素子20が実装されている。そして、導電パターン14および金属細線16を経由して、これらの発光素子20が直列に接続されている。この様な構成の発光モジュール10に直流の電流を供給することにより、発光素子20から所定の色の光が発光され、発光モジュール10は、例えば蛍光灯の如き照明器具として機能する。
金属基板12は、銅(Cu)やアルミニウム(Al)等の金属から成る基板であり、例えば、厚さは0.5mm〜2.0mm程度であり、幅は2mm〜20mm程度であり、長さは5cm〜50cm程度である。金属基板12がアルミニウムから成る場合、金属基板12の上面および下面は、アルミニウムを陽極酸化させた酸化膜22(アルマイト膜:Al)により被覆される。図1(B)を参照して、金属基板12の上面および下面を被覆する酸化膜22の厚みは、例えば1μm〜10μm程度である。更に、金属基板12は、所定の光量を確保するために、多数の発光素子20が列状に配置されるので、非常に細長い形状を呈している。そして、金属基板12の長手方向の両端には、外部の電源と接続される外部接続端子が形成されている。この端子は、差込型のコネクタでも良いし、配線を導電パターン14に半田付けするものでも良い。
図1(C)を参照して、金属基板12の側面は、外側に突出する形状となっている。具体的には、金属基板12の上面から連続して外側に向かって傾斜する第1傾斜部36と、金属基板12の下面から連続して外側に向かって傾斜する第2傾斜部38とから、金属基板12の側面は構成されている。この構成により、金属基板12の側面の面積を、平坦な状態と比較すると、大きくすることが可能となり、金属基板12の側面から外部に放出される熱量が増大される。特に、金属基板12の側面は、熱抵抗が大きい酸化膜22により被覆されずに、放熱性に優れる金属材料が露出する面であるので、この構成によりモジュール全体の放熱性が向上される。
図1(B)を参照して、金属基板12の上面は、Al等のフィラーが混入された樹脂から成る絶縁層24により被覆されている。絶縁層24の厚みは、例えば50μm程度である。絶縁層24は、金属基板12と導電パターン14とを絶縁させる機能を有する。また、絶縁層24には多量のフィラーが混入されており、このことにより、絶縁層24の熱膨張係数を金属基板12に近似させることができると共に、絶縁層24の熱抵抗が低減される。例えば、絶縁層24には、フィラーが70体積%〜80体積%程度含まれる。更に、含まれるフィラーの平均粒径は例えば、4μm程度である。
図1(A)および図1(B)を参照して、導電パターン14は、絶縁層24の上面に形成されており、各発光素子20を導通させる経路の一部として機能している。この導電パターン14は、絶縁層24の上面に設けられた銅等から成る導電箔をエッチングすることにより形成される。更に、金属基板12の両端に設けられた導電パターン14は、外部との接続に寄与する外部接続端子として機能する場合もある。
発光素子20は、上面に2つの電極(アノード電極、カソード電極)を有し、所定の色の光を発光させる素子である。発光素子20の構成は、GaAs、GaN等なら成る半導体基板の上面にN型の半導体層と、P型の半導体層が積層された構成と成っている。また、発光素子20の具体的な大きさは、例えば、縦×横×厚み=0.3〜1.0mm×0.3〜1.0mm×0.1mm程度である。更に、発光素子20の厚みは、発光する光の色により異なり、例えば、赤色の光を発光する発光素子20の厚みは100〜300μm程度であり、緑色の光を発光する発光素子20の厚みは100μm程度であり、青色の光を発光する発光素子20の厚みは100μm程度である。発光素子20に電圧を印加すると、上面および側面の上部から光が発光される。ここで、本発明の発光モジュール10の構成は、放熱性に優れているので、例えば100mA以上の電流が通過する発光素子20(パワーLED)に対して特に有効である。
図1(B)では、発光素子20から発光される光を白抜きの矢印で示している。発光素子20の上面から発光された光は、そのまま上方に照射される。一方、発光素子20の側面から側方に発光した光は、凹部18の側面30にて上方に反射される。更に、発光素子20は、蛍光体が混入された封止樹脂32により被覆されているので、発光素子20から発生した光は、封止樹脂32を透過して外部に発光される。
更に、発光素子20の上面には、2つの電極(アノード電極、カソード電極)が設けられ、これらの電極は金属細線16を経由して、導電パターン14と接続される。ここで、発光素子20の電極と金属細線16との接続部は、封止樹脂32により被覆されている。
図1(B)を参照して、LEDから成る発光素子20が実装される箇所の形状を説明する。先ず、絶縁層24を部分的に円形の除去することにより開口部48が設けられている。そして、開口部48の内側から露出する金属基板12の上面を凹状に窪ませることで、凹部18が形成され、この凹部18の底面28に発光素子20が固着されている。更に、凹部18および開口部48に充填された封止樹脂32により、発光素子20が被覆されている。また、凹部18の周辺部の金属基板12の上面を凸状に形成した凸状部11が設けられており、この凸状部11にも封止樹脂32は密着している。
凹部18は、金属基板12を上面から凹状に形成することにより設けられ、底面28は円形を呈している。また、凹部18の側面は、発光素子20の側面から側方に発光された光を上方に反射するためのリフレクタとして機能しており、側面30の外側と底面28とが成す角度θの角度は、例えば40度〜60度程度である。また、凹部18の深さは、発光素子20の厚みよりも長くても良いし短くても良い。例えば、凹部18の厚みを、発光素子20と接合材26の厚みを加算した長さよりも長くすると、発光素子20が凹部18に収納され、発光素子20の上面を金属基板12の上面よりも下方に位置させることができる。
凹部18の底面28、側面30およびその周辺部の金属基板12の上面は、被覆層34により被覆されている。被覆層34の材料としては、メッキ処理により形成された金(Au)や銀(Ag)が採用される。また、被覆層34の材料として金属基板12の材料よりも反射率が大きい材料(例えば金や銀)を採用すると、発光素子20から側方に発光された光をより効率的に、上方に反射させることができる。また、被覆層34は、発光モジュール10の製造工程に於いて、金属が露出する凹部18の内壁が酸化することを防止する機能も有する。
更に凹部の底面28では、金属基板12の表面を被覆する酸化膜22が除去されている。酸化膜22は、金属基板12を構成する金属よりも熱抵抗が大きい。従って、発光素子20が実装される凹部18の底面から酸化膜22を除去することで、金属基板12全体の熱抵抗が低減される。
図1(A)および図1(B)を参照して、凹部18を取り囲むようにして、金属基板12の上面を上方に突出させた凸状部11が設けられている。凸状部11は、凹部18の側面30と連続しており、その表面は緩やかな曲面を描くように上方に突出している。凸状部11が金属基板12の上面から上方に突出する高さは、例えば10μm〜50μm程度である。ここで、凸状部11は、凹部18を取り囲むように連続して円環状に設けられても良いし、離散的(不連続)に設けられても良い。
封止樹脂32は、凹部18および開口部48に充填されて、発光素子20を封止している。封止樹脂32は、耐熱性に優れたシリコン樹脂に蛍光体が混入された構成となっている。例えば、発光素子20から青色の光が発光されて、封止樹脂32に黄色の蛍光体が混入されると、封止樹脂32を透過した光は白色となる。従って、発光モジュール10を、白色の光を発光させる照明器具として利用することが可能となる。また、本発明では、封止樹脂32は、凹部18の周囲に設けられた凸状部11にも接触している。従って、凸状部11に封止樹脂32が強固に密着して、封止樹脂32の金属基板12からの剥離が防止される。
更に、上記のように凹部18を取り囲むように凸状部11を設けることで、発光素子20から発生した光が、金属基板12の上面に照射されることが抑制される。従って、金属基板12の上面を被覆する絶縁層24の変色が防止される。更に、凸状部11によりこの様な効果が得られるので、絶縁層24の変色や劣化を防止するための特殊な基材が不要となり、その分コストダウンが図れる。
また、開口部48に面する絶縁層24の側面は、フィラーが露出する粗面となっている。このことから、粗面である絶縁層24の側面と封止樹脂32との間にアンカー効果が発生して、封止樹脂32の剥離を防止できる利点がある。
接合材26は、発光素子20の下面と凹部18とを接着させる機能を有する。発光素子20は下面に電極を有さないので、接合材26としては、絶縁性の樹脂から成るものでも良いし、放熱性向上のために半田等の金属から成るものでも良い。また、凹部18の底面は、半田の濡れ性に優れる銀等から成るメッキ膜(被覆層34)により被覆されているので、接合材26として、容易に半田を採用できる。
本発明では、凹部18の周囲の金属基板12の上面を部分的に凸状にして凸状部11を形成し、この凸状部11に封止樹脂32を密着させている。具体的には、本発明では、凹部18の側面30は傾斜面であるので、凹部18に充填されるように形成される封止樹脂32と金属基板12との密着強度はそれほど強くない。そこで本発明では、凹部18を囲む領域の金属基板12を部分的に上方に突出させて凸状部11を形成し、この凸状部11に封止樹脂32を密着させている。このことにより、先ず、金属基板12の表面と封止樹脂32とが接触する面積が大きくなる分、両者の密着強度が大きくなる。更に、凸状部11と封止樹脂32との間にアンカー効果が発生することによっても、封止樹脂32と金属基板12との密着強度が大きくなる。従って、使用状況下の温度変化により、封止樹脂32が金属基板12から剥離してしまうことを防止できる。
更に、本発明では、金属基板12の上面にベアの発光素子20を実装することにより、発光素子20から発生する熱を極めて効率的に外部に放出できる利点がある。具体的には、上記した従来例では、絶縁層の上面に形成された導電パターンに発光素子を実装していたので、絶縁層により熱の伝導が阻害されて、発光素子20から放出された熱を効率的に外部に放出させることが困難であった。一方、本発明では、発光素子20が実装される領域では、絶縁層24および酸化膜22を除去して開口部48を形成し、この開口部48から露出する金属基板12の表面に発光素子20を固着している。このことにより、発光素子20から発生した熱は、直ちに金属基板12に伝わり外部に放出されるので、発光素子20の温度上昇が抑制される。また、温度上昇が抑制されることにより、封止樹脂32の劣化も抑制される。
更にまた、本発明によれば、金属基板12の上面に設けた凹部18の側面をリフレクタとして利用できる。具体的には、図1(B)を参照して、凹部18の側面は、金属基板12の上面に近づくに従って幅が広くなる傾斜面となっている。従って、この側面30により、発光素子20の側面から側方に向かって発光された光が反射して、上方に向かって照射される。即ち、発光素子20を収納させる凹部18の側面30が、リフレクタとしての機能を兼用している。従って、一般的な発光モジュールのようにリフレクタを別途用意する必要がないので、部品点数が削減されてコストを安くすることができる。更に、上記したように、凹部の側面30を反射率が大きい材料により被覆することで、側面30のリフレクタとしての機能を高めることもできる。
次に、図2から図10を参照して、上記した構成の発光モジュール10の製造方法を説明する。
第1工程:
図2を参照して、先ず、発光モジュール10の材料となる基板40を用意して、導電パターンを形成する。
図2(A)を参照して、先ず、基板40としては、例えば銅またはアルミニウムを主材料とする金属から成り、厚みは0.5mm〜2.0mm程度である。基板40の平面的な大きさは、例えば、1m×1m程度であり、多数個の発光モジュールが一枚の基板40から製造される。基板40がアルミニウムから成る基板である場合、基板40の上面および下面は、上述した陽極酸化膜により被覆されている。
基板40の上面は、厚みが50μm程度の絶縁層42により全面的に被覆されている。この絶縁層42の組成は、上述した絶縁層24と同様であり、フィラーが高充填された樹脂材料から成る。また、絶縁層42の上面には、厚みが50μm程度の銅から成る導電箔44が全面的に形成されている。
図2(B)を参照して、次に、選択的なウェットエッチングを行うことにより、導電箔44をパターニングして、導電パターン14を形成する。この導電パターン14は、基板40に設けられるユニット46毎に同一の形状を有する。ここで、ユニット46とは、1つの発光モジュールを構成する部位のことである。
図2(C)に、本工程が終了した基板40の平面図を示す。ここでは、ユニット46同士の境界が点線により示されている。ユニット46の形状は、例えば縦×横が=30cm×0.5cm程度であり、極めて細長い形状を有する。
第2工程:
図3を参照して、次に、基板40の各ユニット46に関して、絶縁層を部分的に除去して開口部48を設ける。
図3(A)を参照して、上方から絶縁層42にレーザを照射する。ここでは、照射されるレーザは矢印により示されており、発光素子が載置される部分(ここでは、円形の部分)に対応した絶縁層42に対して、レーザが照射される。ここで、使用されるレーザは、炭酸ガスレーザまたはYAGレーザである。
図3(B)及び図3(C)を参照して、上記したレーザ照射により、絶縁層42が部分的に円形に除去されて開口部48が形成されている。特に、図3(C)を参照すると、レーザ照射により、絶縁層42だけでなく、基板40の上面を被覆する酸化膜22も除去されている。従って、開口部48の底面からは、基板40を構成する金属材料(例えばアルミニウム)が露出する。
図3(D)を参照して、上述した開口部48は円形であり、各ユニット46の発光素子が固着される領域に対応して設けられている。ここで、開口部48の平面的な大きさは、後の工程にて開口部48の内部に形成される凹部18や凸状部11(図5参照)よりも大きく形成されている。即ち、開口部48の外周端部は、凹部18や凸状部11の外周端部から離間されている。このことにより、凹部18や凸状部11を形成するために行われるプレスによる衝撃により、脆い絶縁層が破壊されることを抑止することができる。
第3工程:
図4および図5を参照して、次に、開口部48から露出する基板40の上面から凹部18および凸状部11を形成する。本工程では、プレス加工により、同時に凹部18と凸状部11を形成することができる。
図4(A)を参照して、先ず、プレス用の金型を用意する。金型50には、基板40の各開口部48に対応した領域に、下方に突出した当接部51が複数個設けられている。本工程では、金型50を下方にプレスすることにより、金型50の各当接部で、開口部48から露出する基板40の上面が押圧されて凹部18および凸状部11が形成される。
図4(B)を参照して、当接部51は概略的には円筒状の形状を有し、その下面には凸部52と、窪み部53が形成されている。ここで、凸部52は、形成予定の凹部18に対応した形状を有し、先端部を切断した円錐の如き形状である。窪み部53は、形成予定の凸状部11に対応した形状を有し、当接部51の下面に於ける凸部52の周囲を窪ませた領域である。当接部51の下面に窪み部53を設けることにより、本工程にて形成される凸状部11の形状及び位置を正確に規制することができる。
図4(C)を参照して、次に、当接部51の下端に設けた凸部52で、開口部48から露出している基板40の上面を押圧する。このことにより、凸部52に対応した形状の凹部が基板40の上面に形成される。そして、図4(D)を参照して、更に金型の当接部51を下方に移動させると、凸部52により押圧された分の基板40の金属材料が上方に押し出されて、当接部の窪み部53に回り込む。そして、押し出された部分の金属材料が、当接部51の窪み部53の下面により押さえ込まれて、所定の形状の凸状部が形成される。
図5(A)に形成された凹部18の形状を示す。上記したプレス加工により、底面28が円形であり側面30が傾斜面である凹部18が形成される。更に、凹部18の周囲の基板40の上面には、所定の形状の凸状部11が形成されている。また、形成される凹部18の深さは、後の工程にて実装される発光素子が完全に収納される程度でも良いし、発光素子が部分的に収納される程度でも良い。具体的には、凹部18の深さは、例えば100μm〜300μm程度である。更に、凸状部11は、ここでは滑らかな断面形状を有するが、上記した当接部51の窪み部53の形状を変化させることにより、他の形状とすることもできる。例えば、樹脂材料との密着性を向上させるために、凸状部11の表面に微細な凹凸を形成することもできる。
図5(B)を参照して、各ユニット46の発光素子が載置される予定の領域に、上述した方法で、凹部18及び凸状部11が形成される。
第4工程:
図6(A)および図6(B)を参照して、次に、各ユニット46同士の間に、分離用の溝を設ける。図6(A)を参照すると、基板40の各ユニット46同士の間には、上面から第1溝54が形成され、下面からは第2溝56が形成されている。両溝の断面は、V型の形状を呈する。
ここで、第1溝54および第2溝56は、両方とも同じ大きさ(深さ)でも良いし、一方が他方よりも大きく形成されても良い。更には、後の工程にて問題が発生しなければ、第1溝54および第2溝56のどちらか一方のみが設けられても良い。
第1溝54および第2溝56は、ユニット46同士の境界に沿って、V型の断面形状のカットソーを高速に回転させて、部分的な切断をすることにより形成される。更に、本工程では、この切断により基板40が個々に分離されるのではなく、溝を形成した後も、基板40は一枚の板の状態を呈している。
第5工程:
図7の各図を参照して、本工程では、開口部48から露出する基板40の表面を被覆層34により被覆する。
本工程では、金属から成る基板40を電極として用いて通電させることにより、開口部48から露出する基板40の表面に、メッキ膜である被覆層34を被着させる。被覆層34の材料としては、金または銀等が採用される。また、第1溝54および第2溝56の表面にメッキ膜が付着することを防止するためには、これらの部位の表面をレジストにより被覆すればよい。また、基板40の裏面に関しては、絶縁物である酸化膜22により被覆されているので、メッキ膜は付着されない。
本工程にて、凹部18が被覆層34により被覆されることにより、例えばアルミニウムから成る金属面が酸化することを防止することができる。更に、凹部18の底面28が被覆層34により被覆されることで、被覆層34が銀等の半田の濡れ性に優れる材料であれば、後の工程にて、発光素子を半田を用いて容易に実装できる。更にまた、凹部18の側面30が、反射率が高い材料から成る被覆層34により被覆されることで、側面30のリフレクタとしての機能を向上させることができる。
第6工程:
図8の各図を参照して、次に、各ユニット46の凹部18に発光素子20(LEDチップ)を実装して、電気的に接続する。図8(B)を参照して、発光素子20の下面は、接合材26を介して凹部18の底面28に実装される。発光素子20は下面に電極を有さないので、接合材26としては、樹脂から成る絶縁性接着剤または導電性接着材の両方が採用可能である。また、導電性接着材としては、半田または導電性ペーストの両方が採用可能である。更に、凹部18の底面28は、半田の濡れ性に優れる銀等のメッキ膜である被覆層34により被覆されるので、絶縁性材料よりも熱伝導性に優れた半田を接合材26として採用できる。
発光素子20の固着が終了した後に、発光素子20の上面に設けた各電極と導電パターン14とを金属細線16を経由して接続する。
第7工程:
図9の各図を参照して、次に、基板40に設けた各ユニット46の凹部18に封止樹脂32を充填させて、発光素子20を封止する。封止樹脂32は、蛍光体が混入されたシリコン樹脂からなり、液状または半固形状の状態で、封止樹脂32を凹部18および開口部48に充填される。このことにより、発光素子20の側面および上面と、発光素子20と金属細線16との接続部が、封止樹脂32により被覆される。
本工程では、凹部18の周囲の基板40の上面を部分的に上方に突出させた凸状部11に、封止樹脂32が密着するので、基板40と封止樹脂32との密着強度が向上されている。
更に、開口部48に面する絶縁層24の側面は、絶縁層24に高充填されたフィラーが露出する粗面である。従って、粗絶縁層24の側面から露出するフィラーに封止樹脂32が接触することによっても、封止樹脂32と他の部材との密着強度が向上される。
各凹部18に対して、個別に封止樹脂32を供給して封止することにより、基板40の上面に全体的に封止樹脂32を形成した場合と比較して、封止樹脂32に含まれる蛍光体の隔たりが抑止される。従って、発光モジュールから発光される色が均一化される。
第8工程:
図10の各図を参照して、次に、第1溝54および第2溝56が形成された箇所で、基板40を各ユニットに分離する。
各ユニット46同士の間には、両溝が形成されているので、基板40の分離は容易に行うことができる。この分離方法としては、プレスによる打ち抜き、ダイシング、両溝が形成された箇所に於ける基板40の折り曲げ等が採用できる。
以上の工程により、図1に示した構成の発光モジュールが製造される。
ここで、上記した工程は、順序を入れ替えることも可能である。例えば、図6に示した第1溝54等を形成する工程を、図9に示した封止樹脂32を形成する工程の後に行っても良い。更には、図2に示した導電パターン14のパターニングを行った直後に、第1溝54等を形成して、基板40を個々のユニット46に分割しても良い。
本発明は、上記実施例に限られるものではなく、以下の構成とすることもできる。
・凹部18の内部に収納される発光素子20が1つまたは2つ以上である発光モジュールとすることができる。
・発光素子20が青色または紫外発光素子であり、封止樹脂32に蛍光体が含有されることにより、白色発光が得られる発光モジュールとすることができる。
・発光素子20が、赤色、緑色および青色の発光素子であり、封止樹脂32が透明または拡散剤を含有する発光モジュールとすることができる。
・凹部18の内周面が、鏡面加工またはメッキ加工されている発光モジュールとすることができる。
本発明の発光モジュールの構成を示す図であり、(A)は斜視図であり、(B)および(C)は断面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)および(B)は断面図であり、(C)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)〜(C)は断面図であり、(D)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)〜(D)は断面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)及び(B)は断面図であり、(C)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)及び(B)は断面図であり、(C)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)及び(B)は断面図であり、(C)は平面図である。 本発明の発光モジュールの製造方法を示す図であり、(A)は断面図であり、(B)は平面図である。
符号の説明
10 発光モジュール
11 凸状部
12 金属基板
14 導電パターン
16 金属細線
18 凹部
20 発光素子
22 酸化膜
24 絶縁層
26 接合材
28 底面
30 側面
32 封止樹脂
34 被覆層
36 第1傾斜部
38 第2傾斜部
40 基板
42 絶縁層
44 導電箔
46 ユニット
48 開口部
50 金型
51 当接部
52 凸部
53 窪み部
54 第1溝
56 第2溝

Claims (7)

  1. 第1主面と第2主面とを有する基板と、
    前記基板の前記第1主面に形成された導電パターンと、
    前記基板を前記第1主面から凹状にすることにより設けられた凹部と、
    前記凹部に収納されて前記導電パターンと電気的に接続された発光素子と、
    前記凹部を囲む領域の前記基板の前記第1主面を凸状に形成した凸状部と、
    前記発光素子を被覆するように前記凹部に充填されると共に前記凸状部に密着する封止樹脂と、
    を具備することを特徴とする発光モジュール。
  2. 前記基板は、上面が絶縁層により被覆された金属基板であり、
    前記凹部は、前記絶縁層を部分的に除去して設けた開口部の内部から露出する金属基板を凹状にすることにより形成され、
    前記凸状部は、前記開口部の内側から露出すると共に前記凹部を囲む領域の前記金属基板の前記第1主面を凸状にすることにより設けられることを特徴とする請求項1記載の発光モジュール。
  3. 前記絶縁層は、フィラーが混入された樹脂から成り、
    前記凹部および前記開口部に充填される前記封止樹脂は、前記開口部に面する前記絶縁層の側面から露出する前記フィラーに密着することを特徴とする請求項1記載の発光モジュール。
  4. 基板の一主面に導電パターンを形成する工程と、
    前記基板に対してプレス加工を施して、前記基板を前記第1主面から凹状にすることにより凹部を設けると共に、前記凹部を囲む領域の前記基板の前記一主面を凸状に形成して凸状部を設ける工程と、
    前記凹部に発光素子を収納して、前記発光素子と前記導電パターンとを電気的に接続する工程と、
    前記発光素子が被覆されるように前記凹部に充填されると共に、前記凸状部に密着するように封止樹脂を形成する工程と、
    を具備することを特徴とする発光モジュールの製造方法。
  5. 前記導電パターンを形成する工程では、金属から成る前記基板を被覆する絶縁層の上面に前記導電パターンを形成し、
    前記凹部および前記凸状部を設ける工程では、前記絶縁層を部分的に除去することにより設けられた開口部から露出する前記基板の前記一主面に、前記凹部および前記凸状部を設けることを特徴とする請求項4記載の発光モジュールの製造方法。
  6. 前記封止樹脂を形成する工程では、
    前記開口部に面する前記絶縁層の側面に露出するフィラーに前記封止樹脂を接触させることを特徴とする請求項4記載の発光モジュールの製造方法。
  7. 前記凹部および前記凸状部を設ける工程では、
    前記凹部および前記凸状部に対応した形状を有する金型で、前記基板の前記一主面をプレス加工することを特徴とする請求項4記載の発光モジュールの製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011018871A (ja) * 2009-07-08 2011-01-27 Paragon Semiconductor Lighting Technology Co Ltd 熱伝導接着剤を位置決めするための窪み領域を有するledの実装構造とその製造方法
JP2012074478A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Asahi Glass Co Ltd 発光素子用基板および発光装置
WO2012108356A1 (ja) * 2011-02-10 2012-08-16 日亜化学工業株式会社 発光装置、発光装置の製造方法、及びパッケージアレイ
JPWO2011037185A1 (ja) * 2009-09-24 2013-02-21 京セラ株式会社 実装用基板、発光体、および実装用基板の製造方法
JP2013153035A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Nippon Carbide Ind Co Inc 発光素子搭載用基板、及び、それを用いた発光装置、及び、発光素子搭載用基板の製造方法
JP2018181947A (ja) * 2017-04-06 2018-11-15 日亜化学工業株式会社 発光装置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011171436A (ja) * 2010-02-17 2011-09-01 Tdk Corp 電子部品内蔵モジュール及び電子部品内蔵モジュールの製造方法
TWI462340B (zh) * 2010-09-08 2014-11-21 Epistar Corp 一種發光結構及其製造方法
KR101791175B1 (ko) * 2011-06-30 2017-10-27 엘지이노텍 주식회사 발광소자 및 이를 포함하는 발광소자 패키지
CN202217702U (zh) * 2011-07-01 2012-05-09 方与圆电子(深圳)有限公司 一种光源模组及照明装置
KR101233754B1 (ko) * 2011-09-06 2013-02-27 장종진 메탈 pcb 및 그의 제조 방법
CN102494259A (zh) * 2011-12-01 2012-06-13 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示装置的led灯条及背光模组
KR101250372B1 (ko) * 2011-12-09 2013-04-05 엘지이노텍 주식회사 광소자 패키지 및 그 제조 방법
KR101415928B1 (ko) * 2012-11-28 2014-07-04 주식회사 루멘스 발광장치 및 이를 구비하는 백라이트 유닛
JP6002858B2 (ja) * 2013-12-03 2016-10-05 日本カーバイド工業株式会社 発光素子搭載用基板、及び、それを用いた発光装置
CN109565939B (zh) * 2016-08-22 2022-04-05 株式会社村田制作所 陶瓷基板和电子部件内置模块
DE102016119002B4 (de) * 2016-10-06 2022-01-13 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronisches bauelement und verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements
US11121076B2 (en) * 2019-06-27 2021-09-14 Texas Instruments Incorporated Semiconductor die with conversion coating
CN112467008A (zh) * 2020-11-13 2021-03-09 中山市聚明星电子有限公司 发光装置制作方法及发光装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000022217A (ja) * 1998-06-30 2000-01-21 Toshiba Corp 光半導体モジュール
JP2003008073A (ja) * 2001-06-26 2003-01-10 Matsushita Electric Works Ltd 発光素子
WO2003030274A1 (fr) * 2001-09-27 2003-04-10 Nichia Corporation Dispositif emetteur de lumiere et procede de fabrication associe
JP2003152225A (ja) * 2001-08-28 2003-05-23 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
JP2004087796A (ja) * 2002-08-27 2004-03-18 Matsushita Electric Works Ltd Ledチップ取付部材の製造方法及びそのledチップ取付部材を用いたled実装基板
JP2006086138A (ja) * 2003-06-05 2006-03-30 Toyoda Gosei Co Ltd 光デバイス
JP2006278829A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiwan Oasis Technology Co Ltd Ledチップキャリアの構造及び製造方法
JP2007189216A (ja) * 2005-12-16 2007-07-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd 多層配線板の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH031540U (ja) * 1989-05-26 1991-01-09
JP4026659B2 (ja) * 2002-09-05 2007-12-26 日亜化学工業株式会社 側面発光型発光装置
TWI292961B (en) * 2002-09-05 2008-01-21 Nichia Corp Semiconductor device and an optical device using the semiconductor device
KR101429098B1 (ko) * 2004-06-04 2014-09-22 더 보오드 오브 트러스티스 오브 더 유니버시티 오브 일리노이즈 인쇄가능한 반도체소자들의 제조 및 조립방법과 장치
JP2006100753A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Sanyo Electric Co Ltd 半導体モジュールおよびその製造方法
JP2007165601A (ja) * 2005-12-14 2007-06-28 Toshiba Lighting & Technology Corp 発光ダイオード装置及び発光ダイオード装置の製造方法
JP2007279480A (ja) * 2006-04-10 2007-10-25 Hitachi Displays Ltd 液晶表示装置
US20080029775A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Lustrous Technology Ltd. Light emitting diode package with positioning groove

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000022217A (ja) * 1998-06-30 2000-01-21 Toshiba Corp 光半導体モジュール
JP2003008073A (ja) * 2001-06-26 2003-01-10 Matsushita Electric Works Ltd 発光素子
JP2003152225A (ja) * 2001-08-28 2003-05-23 Matsushita Electric Works Ltd 発光装置
WO2003030274A1 (fr) * 2001-09-27 2003-04-10 Nichia Corporation Dispositif emetteur de lumiere et procede de fabrication associe
JP2004087796A (ja) * 2002-08-27 2004-03-18 Matsushita Electric Works Ltd Ledチップ取付部材の製造方法及びそのledチップ取付部材を用いたled実装基板
JP2006086138A (ja) * 2003-06-05 2006-03-30 Toyoda Gosei Co Ltd 光デバイス
JP2006278829A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiwan Oasis Technology Co Ltd Ledチップキャリアの構造及び製造方法
JP2007189216A (ja) * 2005-12-16 2007-07-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd 多層配線板の製造方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011018871A (ja) * 2009-07-08 2011-01-27 Paragon Semiconductor Lighting Technology Co Ltd 熱伝導接着剤を位置決めするための窪み領域を有するledの実装構造とその製造方法
JPWO2011037185A1 (ja) * 2009-09-24 2013-02-21 京セラ株式会社 実装用基板、発光体、および実装用基板の製造方法
JP2012074478A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Asahi Glass Co Ltd 発光素子用基板および発光装置
WO2012108356A1 (ja) * 2011-02-10 2012-08-16 日亜化学工業株式会社 発光装置、発光装置の製造方法、及びパッケージアレイ
JPWO2012108356A1 (ja) * 2011-02-10 2014-07-03 日亜化学工業株式会社 発光装置、発光装置の製造方法、及びパッケージアレイ
JP5867417B2 (ja) * 2011-02-10 2016-02-24 日亜化学工業株式会社 発光装置、発光装置の製造方法、及びパッケージアレイ
US9312460B2 (en) 2011-02-10 2016-04-12 Nichia Corporation Light emitting device, method for manufacturing light emitting device, and package array
JP2013153035A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Nippon Carbide Ind Co Inc 発光素子搭載用基板、及び、それを用いた発光装置、及び、発光素子搭載用基板の製造方法
JP2018181947A (ja) * 2017-04-06 2018-11-15 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP7177327B2 (ja) 2017-04-06 2022-11-24 日亜化学工業株式会社 発光装置

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