JP2009058665A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 互いに対向する一対の基板と、
   前記一対の基板間に狭持された液晶層と、
   エネルギー線照射硬化型の材料を含有して表示画素領域を囲むように設けられ、前記一対の基板間に前記液晶層を封止するシール層と、
   前記一対の基板のうちの一方の基板に設けられたＴＦＴ素子と、
   前記ＴＦＴ素子が形成された基板に設けられたブラックマトリクス層と、
   前記一対の基板のうちのいずれか一方に設けられたカラー表示用のカラーフィルタ層と
   を備え、
   前記シール層は、前記ブラックマトリクス層の一部に重なるように途切れなく連続的に形成され、
   前記ＴＦＴ素子は前記表示画素領域のみならずその外側の額縁領域にも設けられ、
   前記ブラックマトリクス層の一部が、前記額縁領域のＴＦＴ素子上に重なるように設けられている
   液晶表示装置。
2. 前記カラーフィルタ層は、前記ＴＦＴ素子が設けられた基板とは反対側の基板に、前記シール層を避けるように設けられている
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記カラーフィルタ層は、前記ＴＦＴ素子が設けられた基板に設けられている
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 前記エネルギー線照射硬化型の材料はアクリル系材料である
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 前記シール層は熱重合型の材料をも含有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 前記熱重合型の材料はエポキシ系材料である
   ことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
7. 第１および第２の基板を用意する工程と、
   前記第１の基板にＴＦＴ素子を表示画素領域およびその外側の額縁領域に形成する工程と、
   前記第１の基板にブラックマトリクス層を、その一部が前記額縁領域のＴＦＴ素子上に重なるように形成する工程と、
   前記第１または第２の基板のいずれかに、途切れなく連続した枠状のシール層を形成する工程と、
   前記シール層の枠内に液晶を滴下する工程と、
   前記第１および第２の基板を貼り合わせる工程と、
   貼り合わされた状態の第１および第２の基板に対し、第２の基板の側からエネルギー線を照射して前記シール層を硬化させる工程と
   を含み、
   前記第１および第２の基板を貼り合わせた状態において、前記シール層が前記ブラックマトリクス層の一部に重なるようにする
   ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。