JP2009055042A - 水素を含まないスパッタリングされた窒化物を有するワイドバンドギャップベースの半導体デバイスの不動態化 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】III族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する2部分構造を備え、該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
【選択図】図1
Description
III族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する2部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。
高電子移動度トランジスタ(HEMT)あって、該高電子移動度トランジスタは、
III族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該III族窒化物ヘテロ構造の上の第1の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第1の不動態化構造の上の第2の不動態化構造とを備え、
該第1の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも1つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該III族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも1つの化学気相堆積層とを備え、
該第2の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。
上記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、項目2に記載のHEMT。
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間にIII族窒化物の第1のスペーサ層をさらに備えている、項目3に記載のHEMT。
上記第1のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、項目4に記載のHEMT。
上記III族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、項目2に記載のHEMT。
上記ゲート接触と上記へテロ構造との間に第2のIII族窒化物スペーサ層をさらに備えている、項目6に記載のHEMT。
上記第2のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目7に記載のHEMT。
上記III族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、項目6に記載のHEMT。
上記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート接触および上記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、項目6に記載のHEMT。
上記不動態化構造の一部分によって上記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、項目2に記載のHEMT。
上記第2の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、項目2に記載のHEMT。
上記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって上記ゲート接触から分離され、上記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、項目12に記載のHEMT。
上記第2の不動態化構造における上記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、項目12に記載のHEMT。
上記第1の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、項目2に記載のHEMT。
上記第1の不動態化構造は、約1.85と2.00との間の屈折率を有している、項目2に記載のHEMT。
上記第1の不動態化構造における上記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約100オングストロームと2000オングストロームとの間であり、
上記第1の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約100オングストロームと3000オングストロームとの間であり、
上記第2の不動態化構造は、厚さが約3000オングストロームと8000オングストロームとの間である、項目2に記載のHEMT。
絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
III族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第1および第2それぞれの不動態化構造とを備え、
該第1の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも1つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該III族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも1つの化学気相堆積層を備え、
該第2の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。
上記第2の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の2つの層を備えている、項目18に記載のトランジスタ。
上記ゲート接触の下の上記絶縁層は、上記第1の不動態化構造の下である、項目18に記載のトランジスタ。
上記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の上記第1のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、項目20に記載のトランジスタ。
上記絶縁層は、上記第1の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の上記スパッタリングされた層の一部分を覆う、項目18に記載のトランジスタ。
上記III族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、上記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、項目18に記載のトランジスタ。
上記ゲート絶縁層と上記窒化アルミニウムガリウム層との間に第1のスペーサ層をさらに備えている、項目23に記載のトランジスタ。
上記第1のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、項目24に記載のトランジスタ。
上記窒化アルミニウムガリウム層と上記窒化ガリウム層との間に第2のスペーサ層をさらに備えている、項目23に記載のトランジスタ。
上記第2のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、項目26に記載のトランジスタ。
上記第2の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目18に記載のトランジスタ。
上記第1の不動態化構造は実質的に水素を含まない、項目18に記載のトランジスタ。
上記第1の不動態化構造は、約1.85と1.95との間の屈折率を有する、項目18に記載のトランジスタ。
上記第1の不動態化構造における上記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約1000オングストロームと2000オングストロームとの間であり、
上記第1の不動態化構造における上記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約1000オングストロームと3000オングストロームとの間であり、
上記第2の不動態化構造は、厚さが約3000オングストロームと8000オングストロームとの間である、項目18に記載のトランジスタ。
III族窒化物材料系において形成された、向上した電界効果トランジスタは、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する2部分構造を含む。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
本発明は、不動態化された半導体構造および結果として生じる不動態化された半導体デバイスである。一局面において、本発明は、窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する2部分構造として広く考えられ得る。スパッタリングされた層は、不動態化の利益の一部を提供し、化学気相堆積層は、優れた環境バリアを提供する。
onductor Devices、第2版(John Wiley&Sons、Inc.1981)を含む。
別の局面において、本発明は、III族窒化物ベースの構造およびデバイスを不動態化する方法である。この局面において、本発明は、化学気相堆積によって、例示的な場合においては、プラズマ強化化学気相堆積によって、非化学量論的窒化ケイ素の層をスパッタ堆積させること、および化学量論的窒化ケイ素(Si3N4)の環境バリアを堆積させることを包含する。例示的なアニーリング技術が、Lipkin、N2O Processing Improves the 4H−SiC:SiO2 Interface;MATERIALS SCIENCE FORUM,Volumes 389−393(2002)ページ 985−88;および、Dmitrijev、Improving SiO2 Grown on P−type 4H−SiC by NO Annealing、MATERIALS SCIENCE FORUM、Volumes 264−268(1998)ページ 869−72における、米国特許第6,610,366号に述べられている。
GaNデバイスの上で、第1の不動態化は、Tゲートが形成された後に堆積される。GaNデバイスに対する第1の不動態化は、2つの層から成る。スパッタリングされたSiNまたはAlNは、GaN(通常はAlGaN)の上面に堆積される。この後には、PECVD SiN膜が続く。
40 金属半導体電界効果トランジスタ
41 III族窒化物層
42 バッファ
43 供給源領域
44 ドレイン領域
46 オーム接触
47 オーム接触
50 スパッタリングされた層
51 スパッタリングされた層
52 スパッタリングされた堆積層
53 化学気相堆積環境バリアの層
Claims (31)
- III族窒化物材料系で形成された電界効果トランジスタにおける不動態化の改良であって、
窒化ケイ素の化学気相堆積不動態化層が、窒化ケイ素の既にスパッタリングされた堆積層をカプセル化する2部分構造を備え、
該スパッタリングされた層が不動態化の利益の一部を提供し、該化学気相堆積層が優れた環境バリアを提供する、不動態化の改良。 - 高電子移動度トランジスタ(HEMT)あって、該高電子移動度トランジスタは、
III族ヘテロ構造と、
寄生キャパシタンスを低減し、デバイストラッピングを最小にする、該III族窒化物ヘテロ構造の上の第1の不動態化構造と、
該ヘテロ構造をカプセル化し、環境バリアを提供する、該第1の不動態化構造の上の第2の不動態化構造とを備え、
該第1の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも1つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せずに、該不動態化層を該III族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも1つの化学気相堆積層とを備え、
該第2の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、高電子移動度トランジスタ。 - 前記へテロ構造は、窒化アルミニウムガリウムの層および窒化ガリウムの層を備えている、請求項2に記載のHEMT。
- 前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間にIII族窒化物の第1のスペーサ層をさらに備えている、請求項3に記載のHEMT。
- 前記第1のスペーサ層は窒化アルミニウムを備えている、請求項4に記載のHEMT。
- 前記III族窒化物ヘテロ構造に対するゲート接触をさらに備えている、請求項2に記載のHEMT。
- 前記ゲート接触と前記へテロ構造との間に第2のIII族窒化物スペーサ層をさらに備えている、請求項6に記載のHEMT。
- 前記第2のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項7に記載のHEMT。
- 前記III族窒化物ヘテロ構造に対する供給源およびドレインそれぞれのオーム接触をさらに備え、それらの間にチャンネルを画定する、請求項6に記載のHEMT。
- 前記へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート接触および前記オーム接触は、該窒化アルミニウムガリウム層の上にある、請求項6に記載のHEMT。
- 前記不動態化構造の一部分によって前記ゲート接触から分離された電界プレートをさらに備えている、請求項2に記載のHEMT。
- 前記第2の不動態化構造は、窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層および窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層を備えている、請求項2に記載のHEMT。
- 前記窒化ケイ素のスパッタリングされた化学量論的層によって前記ゲート接触から分離され、前記窒化ケイ素の化学気相堆積化学量論的層によって覆われた電界プレートをさらに備えている、請求項12に記載のHEMT。
- 前記第2の不動態化構造における前記化学量論的層は、実質的に水素を含まない、請求項12に記載のHEMT。
- 前記第1の不動態化構造は、実質的に水素を含まない、請求項2に記載のHEMT。
- 前記第1の不動態化構造は、約1.85と2.00との間の屈折率を有している、請求項2に記載のHEMT。
- 前記第1の不動態化構造における前記非化学量論的な窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約100オングストロームと2000オングストロームとの間であり、
前記第1の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約100オングストロームと3000オングストロームとの間であり、
前記第2の不動態化構造は、厚さが約3000オングストロームと8000オングストロームとの間である、請求項2に記載のHEMT。 - 絶縁されたゲート電界効果トランジスタあって、該絶縁されたゲート電界効果トランジスタは、
III族窒化物ヘテロ構造と、
該へテロ構造の上の供給源およびドレインそれぞれのオーム接触と、
該供給源およびドレインオーム接触間の該へテロ構造の上の絶縁層と、
該へテロ構造の上の該絶縁層に対するゲート接触と、
該へテロ構造および該ゲート接触の少なくとも一部分の上の第1および第2それぞれの不動態化構造とを備え、
該第1の不動態化構造は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ケイ素の酸窒化物およびアルミニウムの酸窒化物から成る群から選択された非化学量論的窒化物の少なくとも1つのスパッタリングされた層と、該へテロ構造を完全にはカプセル化せず、該不動態化層を該III族窒化物層からさらに遠くに位置決めする、窒化ケイ素の少なくとも1つの化学気相堆積層を備え、
該第2の不動態化層は、化学量論的窒化物の環境バリアを備えている、絶縁されたゲート電界効果トランジスタ。 - 前記第2の不動態化構造は、化学量論的窒化ケイ素の2つの層を備えている、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記ゲート接触の下の前記絶縁層は、前記第1の不動態化構造の下である、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記ゲート接触は、非化学量論的窒化ケイ素の前記第1のスパッタリングされた層の一部分を互いから分離する、請求項20に記載のトランジスタ。
- 前記絶縁層は、前記第1の不動態化構造における、非化学量論的窒化物の前記スパッタリングされた層の一部分を覆う、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記III族窒化物へテロ構造は、窒化ガリウムの層の上に、窒化アルミニウムガリウムの層を備え、前記ゲート絶縁層は、該窒化アルミニウムガリウムの層の上にある、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記ゲート絶縁層と前記窒化アルミニウムガリウム層との間に第1のスペーサ層をさらに備えている、請求項23に記載のトランジスタ。
- 前記第1のスペーサ層は、窒化ガリウムを備えている、請求項24に記載のトランジスタ。
- 前記窒化アルミニウムガリウム層と前記窒化ガリウム層との間に第2のスペーサ層をさらに備えている、請求項23に記載のトランジスタ。
- 前記第2のスペーサ層は、窒化アルミニウムを備えている、請求項26に記載のトランジスタ。
- 前記第2の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記第1の不動態化構造は実質的に水素を含まない、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記第1の不動態化構造は、約1.85と1.95との間の屈折率を有する、請求項18に記載のトランジスタ。
- 前記第1の不動態化構造における前記非化学量論的窒化ケイ素のスパッタリングされた層は、厚さが約1000オングストロームと2000オングストロームとの間であり、
前記第1の不動態化構造における前記窒化ケイ素の化学気相堆積層は、厚さが約1000オングストロームと3000オングストロームとの間であり、
前記第2の不動態化構造は、厚さが約3000オングストロームと8000オングストロームとの間である、請求項18に記載のトランジスタ。
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