JP2009507362A - ネイティブ基板を含む高電子移動度電子デバイス構造およびそれらを製造するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2005年7月20日に出願された米国特許出願第11/186,001号明細書の利益および優先権を主張する。
本明細書の対象に関連する研究が、DARPA契約番号N00014−02−C−0321の履行において行われた。合衆国政府は、本発明における特定の権利を有することができる。
本発明は、ネイティブ(native)絶縁性基板上に成長したIII−窒化物デバイス層を含む電子デバイス(例えば、高電子移動度トランジスタ)構造、およびそれらを製造するための方法に関する。
窒化ガリウムおよび関連するIII−V合金が、高パワーおよび/又は高周波電子用途の大きな可能性を示している。特に望ましい用途としては、ゲート、ドレイン、およびソースを含む3つの端子を有する電子デバイスである高電子移動度トランジスタ(HEMT)が挙げられる。ゲート上の電位が、ソースとドレインとの間の電流を制御する。AlGaN/GaNヘテロ構造ベースのHEMTは、電子輸送能力を向上させる二次元電子ガス(2DEG、チャネル電荷とも呼ばれる)がヘテロ界面に沿って自発的に形成されるため、興味があるものである。
本発明は、ネイティブ絶縁性III−V基板上に成長した高品質III−窒化物層と、導電性材料を含む少なくとも1つの端子とを含む電子デバイス構造、およびこれらの構造を製造するための方法に関する。結果として得られる構造は、高電子移動度トランジスタ、電子/マイクロエレクトロニクスデバイス、および対応するデバイス前駆体(device precursor)構造での使用に適している。
以下の特許および特許出願の開示は、これによって、それらそれぞれの全体を引用によりここに援用される:
図2A〜2Bに概略的に示されたタイプの第1のIII−窒化物多層デバイス構造を、c面SI GaN基板で構成した。窒素源としてアンモニアを使用し、ガリウム源およびアルミニウム源として、それぞれ、TMG(トリメチルガリウム)およびTMA(トリメチルアルミニウム)を使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされたc面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。以下のプロセス条件で、厚さ100nmの第1のGaN層を基板上に成長させた:1220Cのサセプタ(susceptor)温度(基板温度が、典型的には、サセプタ温度よりも約50〜200C低いことに留意されたい)、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度。次に、アルミニウム源をオンにし、厚さ10nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物合金中の金属の約24%であった。次に、アルミニウム源およびガリウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。図10は、第2のAlGaN層の表面の原子間力顕微鏡(AFM)画像を示す。この表面の二乗平均平方根(RMS)粗さは、SiC基板およびサファイア基板上に成長したHEMT構造の5オングストロームを超える典型的な値と比較して、3オングストローム未満である。
図2A〜2Bに概略的に示されたタイプの第2のIII−窒化物多層デバイス構造を、微斜面SI GaN基板で構成した。窒素源としてのアンモニア、ガリウム源としてのTMG、およびアルミニウム源としてのTMAを使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされた微斜面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。微斜面基板を<10−10>方向の方に1度だけオフカットした(offcut)。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。以下のプロセス条件で、厚さ50nmの第1のGaN層を基板上に成長させた:1170Cのサセプタ温度、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度。次に、アルミニウム源をオンにし、厚さ10nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物可能にする(allow)中の金属の約24%であった。次に、アルミニウム源およびガリウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。ホール測定をこのウェーハ上で行い、それは、シート濃度が1平方センチメートルあたり約6.5×1012であり、移動度が1400Cm2V−1s−1を超えた。図11は、多層デバイス構造の水銀プローブキャパシタンス−電圧測定を示し、鋭いピンチオフを示す。
図5に概略的に示されたタイプのIII−窒化物多層構造(すなわち、GaNキャップ層を含む)を構成した。窒素源としてのアンモニア、ガリウム源としてのTMG、およびアルミニウム源としてのTMAを使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされたc面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。すべての層の成長条件は、1170Cのサセプタ温度、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度であった。初期成長は、基板上の厚さ100nmの第1のGaN層のものであった。次に、アルミニウム源をオンにし、厚さ22nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物合金中の金属の約27%であった。次に、アルミニウム源をオフにし、厚さ2nmの第3のGaNキャップ層を第2の層上に成長させた。次に、ガリウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。このウェーハの表面を原子間力顕微鏡法(AFM)で画像形成した。結果として生じる表面の二乗平均平方根(RMS)粗さは、SiC基板およびサファイア基板上に成長したHEMT構造の5オングストロームを超える典型的な値と比較して、3オングストローム未満である。ホール測定をこのウェーハ上で行い、それは、シート濃度が約2.3×1013cm−2であり、移動度が800cm2V−1s−1を超えた。
図6に概略的に示されたタイプのIII−窒化物多層構造(しかし、任意の第3のGaNキャップ層がない)を構成し、構造は、第1のGaN層と第2のAlGaN層との間に配置されたAlNの第4の中間障壁層を有した。窒素源としてのアンモニア、ガリウム源としてのTMG、およびアルミニウム源としてのTMAを使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされたc面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。第1のGaN層および第2のAlGaN層の成長条件は、1170Cのサセプタ温度、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度であった。第4のAlN層の成長条件は、約0.3μm/hrである成長速度以外は、第1および第2の層と同じであった。初期成長は、基板上の厚さ100nmの第1のGaN層のものであった。次に、ガリウム源をオフにし、5秒遅れて、アルミニウム源をオンにした。次に、厚さ1nmの第4のAlN層を第1の層上に成長させた。次に、ガリウム源をオンにし、厚さ25nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物合金中の金属の約25%であった。次に、ガリウム源およびアルミニウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。ホール測定をこのウェーハ上で行い、それは、シート濃度が約2×1013cm−2であり、移動度が1000cm2V−1s−1を超えた。
図2A〜2Bに概略的に示されたタイプの第1のIII−窒化物多層デバイス構造を、c面SI GaN基板で構成した。窒素源としてアンモニアを使用し、ガリウム源およびアルミニウム源として、それぞれ、TMG(トリメチルガリウム)およびTMA(トリメチルアルミニウム)を使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされたc面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。以下のプロセス条件で、厚さ100nmの第1のGaN層を基板上に成長させた:1220℃のサセプタ(susceptor)温度(基板温度が、典型的には、サセプタ温度よりも約50〜200℃低いことに留意されたい)、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度。次に、アルミニウム源をオンにし、厚さ10nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物合金中の金属の約24%であった。次に、アルミニウム源およびガリウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。図10は、第2のAlGaN層の表面の原子間力顕微鏡(AFM)画像を示す。この表面の二乗平均平方根(RMS)粗さは、SiC基板およびサファイア基板上に成長したHEMT構造の5オングストロームを超える典型的な値と比較して、3オングストローム未満である。
図2A〜2Bに概略的に示されたタイプの第2のIII−窒化物多層デバイス構造を、微斜面SI GaN基板で構成した。窒素源としてのアンモニア、ガリウム源としてのTMG、およびアルミニウム源としてのTMAを使用して、MOCVDによって、構造を成長させた。クリーニングされた微斜面SI GaN基板を反応器内に装填し、成長温度に加熱した。微斜面基板を<10−10>方向の方に1度だけオフカットした(offcut)。いったん、反応器が成長温度に達すると、アニール工程又は核形成工程なしで、成長が始まった。以下のプロセス条件で、厚さ50nmの第1のGaN層を基板上に成長させた:1170℃のサセプタ温度、100mbarの成長圧力、および約2μm/hrの成長速度。次に、アルミニウム源をオンにし、厚さ10nmの第2のAlGaN層を第1の層上に成長させ、第2の層内のAlのパーセンテージは、窒化物合金中の金属の約24%であった。次に、アルミニウム源およびガリウム源をオフにし、ウェーハを冷却した。ホール測定をこのウェーハ上で行い、それは、シート濃度が1平方センチメートルあたり約6.5×1012であり、移動度が1400Cm2V−1s−1を超えた。図11は、多層デバイス構造の水銀プローブキャパシタンス−電圧測定を示し、鋭いピンチオフを示す。
Claims (69)
- 半絶縁性AlxGayInzN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、およびx+y+z=1)を含む基板層と、
AlxGayInzNを含む第1の層と、
Alx’Gay’Inz’N(x’+y’+z’=1)を含む第2の層と、
を含む電子デバイス構造であって、
前記第1の層が、前記第2の層と前記基板層との間に配置され、組み合わされた前記第1の層および前記第2の層が、二次元電子ガスを形成するように構成される、電子デバイス構造。 - 前記第1の層が、前記基板層上にホモエピタキシャルに成長する、請求項1に記載の電子デバイス構造。
- 前記第1の層が、中間核形成層を用いずに前記基板層に格子整合される、請求項1に記載の電子デバイス構造。
- 導電性材料を含む少なくとも1つの端子を更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記少なくとも1つの端子が、前記二次元電子ガスと電気的に導通する、請求項4に記載の電子デバイス構造。
- 前記少なくとも1つの端子が、複数の端子を含む、請求項4又は5に記載の電子デバイス構造。
- 前記第1の層が、約1000ナノメートル未満の厚さを有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第1の層が、約500ナノメートル未満の厚さを有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第1の層が、約200ナノメートル未満の厚さを有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記基板が、1平方センチメートルあたり約1×107未満の転位の表面転位密度を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記少なくとも1つの端子が、3つの端子を含み、
下記のもの、すなわち、前記3つの端子のうちの1つの端子、前記第1の層および前記第2の層のいずれかの厚さ、前記基板層および前記第1の層のいずれかの欠陥密度、並びに、前記第1の層および前記第2の層の化学量論、のいずれかが、前記二次元電子ガスとは異なる二次電流経路の調整を可能にするように選択される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。 - 前記二次元電子ガスの外側の前記第1の層および前記基板のいずれかが、約1×1013cm−2未満の電荷を有する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記二次元電子ガスの外側の前記第1の層および前記基板のいずれかが、約1×1012cm−2未満の電荷を有する、請求項1〜12のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記二次元電子ガスの外側の前記第1の層および前記基板のいずれかが、約1×1011cm−2未満の電荷を有する、請求項1〜13のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第1の層が、補償ドーパントを含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記基板が、約1×105オーム−cmを超える室温抵抗率を有する、請求項1〜15のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第2の層が、1平方センチメートルあたり約1×107未満の転位の表面転位密度を有する、請求項1〜16のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記基板が補償ドーパントを含む、請求項1〜17のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記補償ドーパントの濃度が、1立方センチメートルあたり約3×1016〜約7×1017個の原子の範囲内である、請求項18に記載の電子デバイス構造。
- 前記補償ドーパントが、Mn、Fe、Co、Ni、およびCuのいずれかを含む、請求項19に記載の電子デバイス構造。
- y=1、z’=0、およびx’≧0.1である、請求項1〜20のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 0.1≦x’≦0.5である、請求項1〜21のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 0.2≦x’≦0.4である、請求項1〜22のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第2の層が、約10ナノメートル〜約40ナノメートルの範囲内の厚さを有する、請求項1〜23のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第2の層が、約20ナノメートル〜約30ナノメートルの範囲内の厚さを有する、請求項1〜24のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- AlxGayInzNを含む第3の層を更に含み、前記第2の層が、前記第1の層と前記第3の層との間に配置される、請求項1〜25のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- 前記第3の層が、約10ナノメートル未満の厚さを有する、請求項26に記載の電子デバイス構造。
- y=1である、請求項25又は26に記載の電子デバイス構造。
- 前記第3の層が、表面障壁高さを増大させるように構成される、請求項26〜28のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。
- Alx’’Gay’’Inz’’Nを含む第4の層を更に含み、
x’’+y’’+z’’=1であり、
前記第4の層が、前記第1の層と前記第2の層との間に配置される、請求項1〜29のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。 - 前記第4の層が、約0.5ナノメートル〜約2ナノメートルの範囲内の厚さを有する、請求項30に記載の電子デバイス構造。
- x’’=1である、請求項30又は31に記載の電子デバイス構造。
- 前記第4の層が、前記二次元電子ガスの密度および閉じ込めのいずれかを増加させるように構成される、請求項30〜32のいずれかに記載の電子デバイス構造。
- Alx’’’Gay’’’Inz’’’Nを含む第5の層を更に含み、
x’’’+y’’’+z’’’=1であり、
前記第5の層が、前記第1の層と前記基板との間に配置される、請求項1〜33のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。 - 前記第5の層が、約50ナノメートル未満の厚さを有する、請求項34に記載の電子デバイス構造。
- x’’’=0である、請求項34又は35に記載の電子デバイス構造。
- 前記第5の層と前記基板との間に配置されたAlxGayInzNを含む第6の層を更に含み、前記第6の層が前記基板に格子整合される、請求項34〜36のいずれかに記載の電子デバイス構造。
- 前記第5の層および前記第6の層のいずれかが、補償ドーパントを更に含む、請求項37に記載の電子デバイス構造。
- 前記基板層が、少なくとも約99.99999パーセントのAlxGayInzNを含み、
前記第1の層が、少なくとも約99.99999パーセントのAlx’Gay’Inz’Nを含み、
前記第2の層が、少なくとも約99.99999パーセントのAlxGayInzNを含む、請求項1〜38のいずれか一項に記載の電子デバイス構造。 - 請求項1〜39のいずれか一項に記載の電子デバイス構造を含む高電子移動度トランジスタデバイス。
- 請求項1〜39のいずれか一項に記載の電子デバイス構造を含む電子デバイス。
- 請求項41に記載の電子デバイスを含むフェーズドアレイレーダシステム。
- 請求項41に記載の電子デバイスを含む無線通信基地局。
- マイクロエレクトロニクスデバイス構造を製造する方法であって、
AlxGayInzN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、およびx+y+z=1)を含む半絶縁性基板を準備する工程と、
AlxGayInzNを含む第1の層を、前記基板上に又は前記基板に隣接してエピタキシャル成長させる工程であって、前記第1の層が前記基板に格子整合される工程と、
Alx’Gay’Inz’N(0≦x’≦1、0≦y’≦1、0≦z’≦1、およびx’+y’+z’=1)を含む第2の層を、前記第1の層上に又は前記第1の層に隣接してエピタキシャル成長させる工程であって、前記第1の層および前記第2の層が、二次元電子ガスを形成するように構成される工程と、を含む方法。 - 前記第1の層が、前記基板上にホモエピタキシャルに成長する、請求項44に記載の方法。
- 前記第1の層が、中間核形成層を用いずに前記基板上に直接成長する、請求項44に記載の方法。
- 前記二次元電子ガスと電気的に導通し導電性材料を含む少なくとも1つの端子を堆積させる工程を更に含む、請求項44〜46のいずれか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの端子が複数の端子を含む、請求項44〜47のいずれか一項に記載の方法。
- y=1、z’=0、およびx’≧0.1である、請求項44〜48のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板が、1立方センチメートルあたり約3×1016〜約7×1017個の原子の濃度範囲内で補償ドーパントを含む、請求項44〜49のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層が、約500ナノメートル未満の厚さを有する、請求項44〜50のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層が、約200ナノメートル未満の厚さを有する、請求項44〜50のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層が、1平方センチメートルあたり約1×107未満の転位の表面転位密度を有する、請求項44〜52のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層の成長工程よりも前に、前記基板の少なくとも1つの表面を化学機械研磨する工程を更に含む、請求項44〜53のいずれか一項に記載の方法。
- AlxGayInzNを含む第3の層を前記第2の材料層上に成長させる工程を更に含む、請求項44〜54のいずれか一項に記載の方法。
- y=1である、請求項55に記載の方法。
- Alx’’Gay’’Inz’’N(x’’+y’’+z’’=1)を含む第4の層を前記第1の層上に成長させる工程を更に含む、請求項44〜56のいずれか一項に記載の方法。
- x’’=1である、請求項57に記載の方法。
- Alx’’’Gay’’’Inz’’’Nを含む第5の層を成長させる工程であって、
x’’’+y’’’+z’’’=1であり、
前記第5の層が、前記第1の層と前記基板との間に配置される工程を更に含む、請求項44に記載の方法。 - x’’’=0である、請求項59に記載の方法。
- AlxGayInzNを含む第6の層を成長させる工程であって、前記第6の層が、前記第5の層と前記基板との間に配置され、前記第6の層が、前記基板に格子整合される工程を更に含む、請求項59又は60に記載の方法。
- 前記第1の層および前記第2の層のいずれかを成長させる工程が、有機金属気相エピタキシーを用いて行われる、請求項44〜61のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層および前記第2の層のいずれかを成長させる工程が、原子層エピタキシーを用いて行われる、請求項44〜61のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層および前記第2の層のいずれかを成長させる工程が、分子線エピタキシーを用いて行われる、請求項44〜61のいずれか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの端子が3つの端子を含み、
下記のもの、すなわち、前記3つの端子のうちの1つの端子、前記第1の層および前記第2の層のいずれかの厚さ、前記基板層および前記第1の層のいずれかの欠陥密度、並びに、前記第1の層および前記第2の層の化学量論、のいずれかが、二次元電子ガスとは異なる二次電流経路の調整を可能にするように選択される、請求項44〜64のいずれか一項に記載の方法。 - 請求項44〜65のいずれか一項に記載の方法によって製造された電子デバイス構造。
- 請求項66に記載の電子デバイス構造を含む電子デバイス。
- 請求項66に記載の電子デバイスを含むフェーズドアレイレーダシステム。
- 請求項66に記載の電子デバイスを含む無線通信基地局。
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