JP2009052899A - 慣性力センサおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】慣性力センサ101は、基板15から離間して配置された質量体5と、質量体5を基板15の主表面上に支持し、かつ剛性を有する第1の支持部4と、基板15の主表面上に設けられ、質量体5を囲む枠体2と、質量体5を覆うように枠体2と陽極接合されたキャップ19と、キャップ19の質量体5と対向する主表面に設けられた導電膜21と、導電膜21と接するコンタクト電極22と、コンタクト電極22を基板15の主表面上に支持し、かつ剛性を有する第2の支持部23,26とを備え、第2の支持部23,26の基板15から導電膜21への方向の剛性は、第1の支持部4の基板15から導電膜21への方向の剛性より低い。
【選択図】図2
Description
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサの構成を示す平面図である。図2は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサの図1におけるII−II断面を示す断面図である。図3は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサの図1におけるIII−III断面を示す断面図である。
慣性力センサ101は、慣性力検知部7と、電極パッド9〜13と、可動コンタクト電極22と、接合枠(枠体)2と、ガラスキャップ19と、下層配線8と、シリコン基板15と、絶縁膜16,17,18と、金属薄膜21と、支持梁(第2の弾性部)23,26と、アンカー24,27と、信号処理部51とを備える。慣性力検知部7は、アンカー3と、梁(第1の弾性部)4と、可動質量体5と、検出電極6a,6bとを含む。
図4は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサの製造方法を説明するための平面図である。図4は、ガラスキャップが接合される前の慣性力センサ101の構成を示している。図5は、図4に示すV−V断面を示す断面図である。
図6は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサの製造方法における陽極接合時の時間と印加電圧との関係を示す図である。
本実施の形態は、第1の実施の形態に係る慣性力センサと比べて可動コンタクト電極を複数個備える構成とした慣性力センサに関する。以下で説明する内容以外は第1の実施の形態に係る慣性力センサと同様である。
図7を参照して、慣性力センサ102は、本発明の第1の実施の形態に係る慣性力センサと比べて、さらに、可動コンタクト電極35と、支持梁31,33と、アンカー32,34を備える。また、慣性力センサ102は、信号処理部51の代わりに信号処理部52を備える。信号処理部52は、測定部61を含む。
シリコン基板15上の慣性力検知部7およびガラスキャップ19等の加工は、シリコン基板15上への薄膜堆積、パターニングおよびエッチングならびにガラス基板の加工および金属薄膜形成により実施される。
Claims (9)
- 主表面を有する基板と、
前記基板から離間して配置された質量体と、
前記質量体を前記基板の主表面上に支持し、かつ剛性を有する第1の支持部と、
前記基板の主表面上に設けられ、前記質量体を囲む枠体と、
前記質量体を覆うように前記枠体と陽極接合されたキャップと、
前記キャップの前記質量体と対向する主表面に設けられた導電膜と、
前記導電膜と接するコンタクト電極と、
前記コンタクト電極を前記基板の主表面上に支持し、かつ剛性を有する第2の支持部とを備え、
前記第2の支持部の前記基板から前記導電膜への方向の剛性は、前記第1の支持部の前記基板から前記導電膜への方向の剛性より低い慣性力センサ。 - 前記コンタクト電極は、ポリシリコンまたは単結晶シリコンで形成されており、
前記導電膜は、前記陽極接合時の温度において前記コンタクト電極と共に合金層を形成する金属で形成されている請求項1記載の慣性力センサ。 - 前記慣性力センサは、さらに、
前記基板の主表面上に設けられた検出電極と、
前記質量体と電気的に接続された第1の電極パッドと、
前記検出電極と電気的に接続された第2の電極パッドと、
前記コンタクト電極と電気的に接続された第3の電極パッドと、
前記枠体と電気的に接続された第4の電極パッドとを備える請求項1記載の慣性力センサ。 - 前記慣性力センサは、前記コンタクト電極および対応の前記第2の支持部をそれぞれ複数個備え、前記複数個のコンタクト電極は、前記導電膜と複数箇所で接する請求項1記載の慣性力センサ。
- 前記慣性力センサは、さらに、
前記複数個のコンタクト電極間が導通しているかどうかを測定する測定部を備える請求項4記載の慣性力センサ。 - 主表面を有する基板と、前記基板から離間して配置された質量体と、前記質量体を前記基板の主表面上に支持し、かつ剛性を有する第1の支持部と、前記基板の主表面上に設けられ、前記質量体を囲む枠体と、主表面に導電膜が設けられたキャップと、コンタクト電極と、前記コンタクト電極を前記基板の主表面上に支持し、かつ前記基板から前記導電膜への方向の剛性が前記第1の支持部より低い第2の支持部とを備えた慣性力センサの製造方法であって、
前記枠体と、前記質量体と、前記コンタクト電極とを電気的に接続することにより同電位にするステップと、
前記キャップが前記質量体と、前記コンタクト電極とを覆うように、かつ前記キャップと前記枠体とが接するように配置するステップと、
前記枠体と前記キャップとの間に、前記コンタクト電極が移動して前記導電膜に接するための第1電圧より小さい電圧を印加し、その後、前記枠体と前記キャップとの間に印加する電圧を徐々に上昇させて前記第1電圧以上とすることにより、前記枠体と前記キャップとを陽極接合するステップとを含む慣性力センサの製造方法。 - 前記慣性力センサは、さらに、
前記基板の主表面上に設けられた検出電極と、前記質量体と電気的に接続された第1の電極パッドと、前記検出電極と電気的に接続された第2の電極パッドと、前記コンタクト電極と電気的に接続された第3の電極パッドと、前記枠体と電気的に接続された第4の電極パッドとを備え、
前記枠体と、前記質量体と、前記コンタクト電極とを同電位にするステップにおいては、
前記第1の電極パッドと、前記第2の電極パッドと、前記第3の電極パッドと、前記第4の電極パッドとをショートする請求項6記載の慣性力センサの製造方法。 - 前記慣性力センサの製造方法は、さらに、
ポリシリコンまたは単結晶シリコンで前記コンタクト電極を形成するステップと、
前記陽極接合によって前記コンタクト電極と共に合金層を形成する金属で前記導電膜を形成するステップとを含む請求項6記載の慣性力センサの製造方法。 - 前記慣性力センサは、複数個の前記コンタクト電極と、対応の複数個の前記第2の支持部とを備え、
前記慣性力センサの製造方法は、さらに、
前記枠体と前記キャップとを陽極接合した後、前記複数個のコンタクト電極間が導通しているかどうかを測定するステップを含む請求項6記載の慣性力センサの製造方法。
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