JP2009031339A - 配向処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向と現実の進行方向との間の偏差角度に起因する配向ずれ角度を解消する。
【解決手段】 この配向処理装置は、偏差角度測定装置２４と、基板回転装置３８と、制御装置３０とを備えている。偏差角度測定装置２４は、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４と現実の進行方向１６との差である偏差角度αを測定する。基板回転装置３８は、配向膜付基板２を、その表面に立てた垂線に沿う軸３６を中心にして回転させる。制御装置３０は、偏差角度測定装置２４で測定した偏差角度αを用いて、偏差角度αを配向膜付基板２の表面に投影した角度である配向ずれ角度βを求め、かつ基板回転装置３８を制御して、配向ずれ角度βを小さくする方向に配向ずれ角度βに相当する角度だけ配向膜付基板２を回転させる機能を有している。
【選択図】 図１

Description

この発明は、例えば液晶ディスプレイの製造等に利用されるものであって、液晶分子を所定方向に配向させるための配向膜を有する配向膜付基板にイオンビームを照射して、当該配向膜に配向処理を施す配向処理装置に関する。

この種の配向処理装置の従来例を図６に示す。なお、これに似た配向処理装置が特許文献１、２に記載されている。

この配向処理装置は、イオン源１０から引き出されたイオンビーム１２を配向膜付基板２に（より具体的にはその表面の配向膜６に。以下同様）照射して、配向膜６に配向処理を施すものである。

なお、この明細書では、一点で互いに直交する三つの軸をｘ軸、ｙ軸およびｚ軸とすると、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４を配向膜付基板２の表面に投影したときの方向と実質的に平行な軸をｘ軸としている。配向膜付基板２の表面は、ｘｙ平面に沿って（より具体的には実質的に平行に）配置されている。図６（および後述する図１、図５）中の線１８は、配向膜付基板２の表面に立てた垂線であり、ｚ軸に実質的に平行である。

配向膜付基板２は、図８に示すように、基板４の表面に配向膜６を形成したものである。より具体例を挙げると、配向膜付基板２は、ガラス等から成る基板４の表面にポリイミド等の有機高分子材料から成る配向膜６を塗布し、かつプリベークおよび焼成を行ったものである。なお、液晶ディスプレイを構成する場合は、通常、基板４と配向膜６との間に、例えばＩＴＯ（スズをドープした酸化インジウム）等から成る透明電極が形成される。

再び図６を参照して、配向膜付基板２にイオンビーム１２を照射することによって、特許文献１、２にも記載されているように、配向膜６に配向処理を施すことができる。これは、（ａ）イオンビーム１２を照射することで、配向膜６の表面が改質され、配向膜６を構成する高分子の主鎖または側鎖が一定方向に並び、それに沿って液晶分子が配向するようになる、（ｂ）あるいはイオンビーム照射によるスパッタリングによって配向膜６の表面に多数の微小な溝状のものが形成され、それに沿って液晶分子が配向するようになるためであると考えられる。しかも、ラビング法とは違って、非接触で配向膜６に配向処理を施すことができるため、パーティクルの発生を防止することができる。

その場合、イオンビーム１２の進行方向１４と配向膜付基板２の表面との間の角度（この例ではｘｚ平面に実質的に平行な平面内における角度）θを照射角度と呼ぶと、イオンビーム１２は、配向膜付基板２の表面に、０°＜θ≦９０°の範囲内の所定の照射角度θで照射される。

上記照射角度θに応じて、例えば、イオンビーム照射によって得られる配向秩序度およびプレチルト角を変化させることができる。配向秩序度とは、どの程度の割合の液晶分子が同一方向に配向しているかを示すものであり、１の場合が１００％である。プレチルト角とは、液晶分子が配向膜表面より起き上がる角度を言う。

配向膜付基板２の配向膜６に対する配向処理方向は、イオンビーム１２の進行方向を配向膜付基板２の表面に投影した方向となる。即ち、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４を配向膜付基板２の表面に投影した方向２０が所望の配向処理方向となる。この所望の配向処理方向２０は配向膜付基板２の向きとの関係で予め定められている。例えば、後述する方位角度φを０度にする場合は、この所望の配向処理方向２０は、図７を参照して、配向膜付基板２の長軸２ａに実質的に平行な方向である。

特開２０００−１２２０６４号公報（段落００１３、００１４、図１） 特開平９−２３０３５０号公報（段落００２１−００２７、図２）

上記イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４は、イオン源１０の引出し面（換言すれば引出し電極系の面）１１に垂直な方向であるが、イオンビーム１２の現実の（実際の）進行方向１６は設計上の進行方向１４からずれている場合がある。

ここで、上記照射角度θが属する平面（この例ではｘｚ平面に実質的に平行な平面。即ち△ＯＡＢを含む平面）と交差（より具体的には実質的に直交）しており、かつイオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４を含む平面（即ち△ＡＢＣを含む平面）内における角度であって、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４と現実の進行方向１６との差の角度αに着目して、この角度αを偏差角度と呼ぶと、イオンビーム１２の現実の進行方向１６が設計上の進行方向１４から偏差角度αだけずれている場合がある。

その結果、図７も参照して、イオンビーム１２の現実の進行方向１６を配向膜付基板２の表面に投影した現実の配向処理方向２２が、上記所望の配向処理方向２０から角度βだけずれることになる。この角度βを、配向ずれ角度と呼ぶことにする。

そうなると、上記配向ずれ角度βの分、配向膜面内での液晶分子の配向方向が所望の配向方向からずれるので、例えば液晶ディスプレイを製造した場合、当該液晶ディスプレイの表示品質を低下させる要因となる。

なお、上記照射角度θが属する平面内において、イオンビーム１２の現実の進行方向が設計上の進行方向１４からずれていることも起こり得るが、当該ずれは、上記偏差角度αと違って、配向膜面内での液晶分子の配向方向には影響を与えないので、この出願では課題にしていない。

即ち、この発明は、イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向と現実の進行方向との間の上記偏差角度に起因する上記配向ずれ角度を解消することを主たる目的としている。

この発明に係る配向処理装置は、前記偏差角度を測定する偏差角度測定装置と、前記配向膜付基板を、当該配向膜付基板の表面に立てた垂線に沿う軸を中心にして回転させる基板回転装置と、前記偏差角度測定装置で測定した前記偏差角度を用いて、当該偏差角度を前記配向膜付基板の表面に投影した角度である配向ずれ角度を求め、かつ前記基板回転装置を制御して、当該配向ずれ角度を小さくする方向に当該配向ずれ角度に相当する角度だけ前記配向膜付基板を回転させる機能を有している制御装置とを備えていることを特徴としている。

この配向処理装置においては、偏差角度測定装置によって偏差角度が測定される。そして制御装置によって、偏差角度を配向膜付基板の表面に投影した角度である配向ずれ角度が求められ、かつ基板回転装置を制御して、配向ずれ角度を小さくする方向に配向ずれ角度に相当する角度だけ配向膜付基板が回転させられる。これによって、偏差角度に起因する配向ずれ角度を解消することができる。

前記偏差角度測定装置は、前記イオン源から引き出されるイオンビームの現実の進行方向を測定するイオンビーム測定器と、当該イオンビーム測定器で測定したイオンビームの現実の進行方向および前記イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向に基づいて前記偏差角度を算出する偏差角度算出手段とを有していても良い。偏差角度算出手段は、前記制御装置内に含まれていても良い。

前記照射角度をθ、前記偏差角度をα、前記配向ずれ角度をβとすると、前記制御装置は、
β＝ｔａｎ^-1（ｔａｎα／ｃｏｓθ）
なる式またはそれと数学的に等価の式に従って配向ずれ角度βを求める機能を有していても良い。

前記照射角度が０度よりも大きく２０度以下の場合に、前記偏差角度をα、前記配向ずれ角度をβとすると、前記制御装置は、β＝αに従って配向ずれ角度βを求める機能を有していても良い。

前記基板回転装置は、前記配向膜付基板をその中心部を中心にして回転させて、前記イオンビームの設計上の進行方向を配向膜付基板の表面に投影した方向と、前記配向膜付基板の表面内の軸との間の角度である方位角度を調整する回転装置を兼ねていても良い。

前記配向膜付基板を、前記イオンビームの設計上の進行方向を配向膜付基板の表面に投影したときの方向に沿う方向に搬送する基板搬送装置を更に備えていて、前記基板回転装置は、この基板搬送装置上に設けられていても良い。

請求項１、２に記載の発明によれば、イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向と現実の進行方向との間に偏差角度があっても、当該偏差角度に起因する、配向膜付基板表面での配向ずれ角度を解消することができる。その結果、配向膜面内での液晶分子の配向方向が所望の配向方向からずれるのを防止することができる。従って例えば、液晶ディスプレイの表示品質の低下を防止することができる。

請求項３に記載の発明によれば、配向ずれ角度を、偏差角度および照射角度を用いて正確に求めることができる、という更なる効果を奏する。

請求項４に記載の発明によれば、配向ずれ角度を、偏差角度を用いて簡単に求めることができる、という更なる効果を奏する。

請求項５に記載の発明によれば、基板回転装置が配向ずれ角度を解消するための回転装置と方位角度を調整するための回転装置とを兼ねているので、その分、構成の簡素化および装置の小型化を図ることができる、という更なる効果を奏する。

請求項６に記載の発明によれば、基板搬送装置によって配向膜付基板を搬送しながらそれに配向処理を施すことができるので、大型の配向膜付基板に対しても配向処理を施すことが容易になる、という更なる効果を奏する。

図１は、この発明に係る配向処理装置の一実施形態を示す概略斜視図である。図６に示した従来例と同一または相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に説明する。

この配向処理装置を構成するイオン源１０は、この実施形態では、一例として、ｘ軸に沿う方向の寸法よりもｙ軸に沿う方向の寸法が大きい、いわゆるリボン状のイオンビーム１２を引き出すものであるが、それに限られるものではない。

イオンビーム１２には、それを構成するイオンが配向膜６と反応して配向膜６の性質を変えないようにするために、例えばヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガスイオンビームを用いるのが好ましい。

イオンビーム１２のエネルギーは、特に限定はなく、例えば１００ｅＶ〜５００ｅＶ程度で良い。

この配向処理装置は、更に、前述した偏差角度αを測定する偏差角度測定装置２４を備えている。

偏差角度測定装置２４は、この実施形態では、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の現実の進行方向１６を測定するイオンビーム測定器２６と、このイオンビーム測定器２６で測定したイオンビーム１２の現実の進行方向１６およびイオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４に基づいて上記偏差角度をαを算出する偏差角度算出手段２８とを有している。偏差角度算出手段２８は、この実施形態では、以下に述べる制御装置３０内に含めているが、換言すれば制御装置３０が有する機能の一部として含めているが、制御装置３０とは別に設けても良い。

イオンビーム測定器２６は、測定時は、矢印Ｅに示すようにｙ軸に沿う方向に移動させて、イオン源１０と配向膜付基板２との間に挿入されて、イオンビーム１２を受ける。配向膜付基板２の処理時は、当該処理の邪魔にならないように、矢印Ｅとは逆方向に移動（退避）させられる。

イオンビーム測定器２６は、例えば、小さな開口を有するマスク板と、その開口と所定の位置関係に配置されていて、当該開口を通過したイオンビーム１２を受けてそのビーム電流を検出する１個または複数個のビーム検出器（例えばファラデーカップ）とを備えている。

偏差角度測定装置２４によって偏差角度αを一箇所で測定する場合は、イオンビーム測定器２６を構成するビーム検出器は少なくとも１個あれば良い。偏差角度測定装置２４によって偏差角度αをｙ軸に沿う方向の複数箇所で測定する場合は、イオンビーム測定器２６を構成するビーム検出器を、ｙ軸に沿う方向に複数個配置しておけば良い。あるいは、１個または複数個のビーム検出器を、ｙ軸に沿う方向に移動可能にしておいても良い。

偏差角度αを一箇所で測定する場合は、イオンビーム測定器２６の構成が簡単になり、偏差角度算出手段２８における演算も簡単になり、測定に要する時間も短くて済む。

偏差角度αを複数箇所で測定する場合は、例えば、複数の偏差角度αの平均値を偏差角度算出手段２８または制御装置３０において求めて、その平均値の偏差角度αに基づいて制御装置３０において後述する配向ずれ角度βを求めれば良い。このようにすれば、偏差角度αがｙ軸に沿う方向において均一でない場合でも、配向ずれ角度βを平均的に解消することができるので、補正をより最適化することができる。

開口を有するマスク板と、一列または格子状に配置された複数のファラデーカップと、当該ファラデーカップからの測定データを処理してビーム電流分布を求める演算処理器とを備えるイオンビーム分布検出装置が特開２００４−２０５２２３号公報に記載されており、それと同様のものを上記偏差角度測定装置２４に用いても良い。

この配向処理装置は、更に、配向膜付基板２を、その表面に立てた垂線に沿う軸を中心にして回転させる基板回転装置３８を備えている。より具体的にはこの実施形態では、配向膜付基板２を、その中心部３２の表面に立てた垂線３４上に位置する軸３６を中心にして回転させる基板回転装置３８を備えている。この基板回転装置３８は、例えば、可逆転式のものである。垂線３４および軸３６は、ｚ軸に実質的に平行である。

この配向処理装置は、更に、偏差角度測定装置２４で測定した偏差角度αを用いて、当該偏差角度αを配向膜付基板２の表面に投影した角度である前記配向ずれ角度βを求め、かつ基板回転装置３８を制御して、配向ずれ角度βを小さくする方向に配向ずれ角度βに相当する角度（即ち配向ずれ角度βに等しい角度）だけ配向膜付基板２を回転させる機能を有している制御装置３０を備えている。例えば、偏差角度αが図１に示すようにイオンビーム１２の設計上の進行方向１４に対して反時計回り方向に生じている場合は、配向膜付基板２も矢印Ｆで示すように反時計回り方向に回転させる。

配向ずれ角度βの求め方の一例を、図１を参照して説明する。前記線１８が配向膜付基板２の表面およびイオン源１０の引出し面１１と交わる点を、それぞれＯ、Ｂとする。点Ｂを通りイオンビーム１２の設計上の進行方向１４および現実の進行方向１６が配向膜付基板２の表面と交わる点を、それぞれＡ、Ｃとする。△（三角形）ＯＡＢにおいて次式が成立する。ＯＡ、ＡＢは辺である（後述するＡＣも同様）。

［数１］
ＯＡ＝ＡＢ・ｃｏｓθ

△ＡＢＣにおいて次式が成立する。
［数２］
ＡＣ＝ＡＢ・ｔａｎα

△ＯＡＣにおいて次式が成立する。
［数３］
β＝ｔａｎ^-1（ＡＣ／ＯＡ）

数３に数１、数２を代入して整理すると次式となる。
［数４］
β＝ｔａｎ^-1（ｔａｎα／ｃｏｓθ）

偏差角度αは、上記偏差角度測定装置２４によって測定されて制御装置３０に与えられる。照射角度θは、イオン源１０をどの向きに固定したかによって分かっているので、その値が制御装置３０に設定される。これらα、θを用いて、制御装置３０は、上記数４またはそれと数学的に等価の式に従って、配向ずれ角度βを求める機能を有している。これによって、配向ずれ角度βを正確に求めることができる。更に制御装置３０は、基板回転装置３８を制御して、上記配向ずれ角度βに等しい角度だけ配向膜付基板２を上記方向に回転させる機能を有している。これによって、偏差角度αに起因する配向ずれ角度βを解消することができる。即ち、配向ずれ角度βを実質的に０にすることができる。

配向ずれ角度βを解消した後の状態の一例の平面図を図２に示す。所望の配向処理方向２０と現実の配向処理方向２２とが一致していることが分かる。

なお、図面では、上記偏差角度α、配向ずれ角度βを、分かりやすくするために大きい角度で描いているが、実際は、両角度α、βは、後述する表１にも示すように、数度程度以下と小さいので、配向膜付基板２を図２に示すように回転させて配向ずれ角度βを解消しても、配向膜付基板２の処理に実質的に支障はない。

また、配向膜付基板２を上記のように回転させる軸３６は、必ずしも配向膜付基板２の中心部３２を通っていなくても上記配向ずれ角度βを解消することはできるけれども、この実施形態のように配向膜付基板２の中心部３２を通っているものにするのが好ましい。そのようにすれば、配向膜付基板２を上記のように回転させても、配向膜付基板２の中心位置が元の中心位置からずれるのを防止することができる。

以上のようにこの配向処理装置によれば、イオン源１０から引き出されるイオンビーム１２の設計上の進行方向１４と現実の進行方向１６との間に偏差角度αがあっても、当該偏差角度αに起因する、配向膜付基板２の表面での配向ずれ角度βを解消することができる。その結果、配向膜面内での液晶分子の配向方向が所望の配向方向からずれるのを防止することができる。従って例えば、液晶ディスプレイの表示品質の低下を防止することができる。

上記数４に従って配向ずれ角度βを計算した結果の一例を表１に示す。

この表１からも分かるように、０°＜θ≦２０°の場合は、配向ずれ角度βは偏差角度αに実質的に等しいので、制御装置３０は、上記数４に従って配向ずれ角度βを求める代わりに、β＝αに従って配向ずれ角度βを求める機能を有していても良い。そのようにすれば、配向ずれ角度βを簡単に求めることができる。

ところで、配向膜付基板２に照射するイオンビーム１２の方向を表すものとして、更に、図３に例示するように、イオンビーム１２の設計上の進行方向１４を配向膜付基板２の表面に投影した方向と、配向膜付基板２の表面内の軸との間の角度である方位角度φというものがある。配向膜付基板２の表面内の軸には、図示例のように配向膜付基板２が矩形の場合は、中心部３２で互いに直交する長軸２ａと短軸２ｂとがある。上記方位角度φは、この例では長軸２ａとの間の角度であるが、短軸２ｂとの間の角度としても良い。配向膜付基板２が正方形の場合は、上記方位角度φは、中心部３２で互いに直交する二つの軸の内のいずれか一方の軸との間の角度である。図１は、方位角度φが０度の場合を示したものである。

上記方位角度φを調整することによって、液晶分子の長軸と配向膜付基板２の例えば長軸２ａとの成す角度を制御して、配向膜付基板２と液晶分子の配向方向との相対角度を制御することができる。そのためには、例えば、配向膜付基板２をその中心部３２を中心にして回転させれば良い。

上記基板回転装置３８が、この配向膜付基板２を回転させて方位角度φを調整する回転装置を兼ねていても良い。そのようにすれば、両者を兼ねている分、構成の簡素化および装置の小型化を図ることができる。

方位角度φを調整するための配向膜付基板２の回転は、上記配向ずれ角度βを解消するための配向膜付基板２の回転の先に行っても良いし、後に行っても良いし、両者を併せて行っても良い。

再び図１を参照して、配向処理装置は、配向膜付基板２を、上記イオンビーム１２の設計上の進行方向１４を配向膜付基板２の表面に投影したときの方向に、換言すれば上記所望の配向処理方向２０に沿う方向に（より具体的には配向処理方向２０に実質的に平行な方向に）搬送する基板搬送装置を更に備えていても良い。図中の矢印Ｄは、その基板搬送方向の一例を示す。この基板搬送方向Ｄは、この実施形態では、ｘ軸に実質的に平行な方向である。基板搬送方向Ｄを、図示例とは逆方向にしても良い（他の図においても同様）。

図４に、上記基板搬送装置の一例を示す。この基板搬送装置４０は、基板搬送方向Ｄに沿うレール４６と、このレール４６上を基板搬送方向Ｄに移動する移動テーブル４４と、この移動テーブル４４上に設けられていて配向膜付基板２を保持するホルダ４２とを備えている。そして、前記基板回転装置３８は、この基板搬送装置４０上に設けられている。より具体的には、基板回転装置３８は移動テーブル４４に固定されており、この基板回転装置３８の軸３６によってホルダ４２を配向膜付基板２と共に上記矢印Ｆ方向またはその逆方向Ｆ′に回転させるよう構成されている。

上記のような基板搬送装置４０を備えていると、基板搬送装置４０によって配向膜付基板２を搬送しながらそれに配向処理を施すことができるので、大型の配向膜付基板２に対しても配向処理を施すことが容易になる。

但し、配向膜付基板２を上記のように搬送することは必須ではなく、配向膜付基板２を搬送しなくても、イオン源１０から引き出すイオンビーム１２の面積に応じて、配向膜付基板２に配向処理を施すことは可能である。必要に応じて、イオン源１０から引き出すイオンビーム１２の面積を大きくしても良い。

なお、上記配向ずれ角度βを解消するためや、方位角度φを０度よりも大きくするために、配向膜付基板２をホルダ４２と共に上記のように回転させた場合は、ホルダ４２およびその上の配向膜付基板２は、基板搬送方向Ｄに対して角度を持った状態で搬送されることになるが、それを許容するスペースを考慮しておけば、特に支障はない。

また、イオン源１０から引き出すイオンビーム１２のｙ軸に沿う方向の寸法を、配向膜付基板２のｙ軸に沿う方向の寸法よりも大きくしておくことと、配向膜付基板２を上記のように搬送することとを併用しても良い。そのようにすれば、イオン源１０あるいは配向膜付基板２をｙ軸に沿う方向に移動させることや、イオンビーム１２をｙ軸に沿う方向に走査することを行わなくても、配向膜付基板２の全面に配向処理を施すことができる。従って、大型の配向膜付基板２の全面に配向処理を施すことが容易になる。

上記配向ずれ角度βを解消するためには、上記基板回転装置３８の代わりに、図５に示す配向処理装置のように、イオン源１０を、その中心部５２を通り、かつ前記△ＡＢＣを含む平面に垂直な軸５６を中心にして回転させるイオン源回転装置５８を設けても良い。この場合は、制御装置３０は、上記配向ずれ角度βを求める機能を有している必要はなく、イオン源回転装置５８を制御して、偏差角度測定装置２４で測定した上記偏差角度αを小さくする方向に（即ち矢印Ｇに示すように偏差角度αと反対方向に）偏差角度αだけイオン源１０を回転させる機能を有していれば良い。

イオン源１０を上記のように回転させることによって、偏差角度αを解消することができる。その結果、配向ずれ角度βを解消することができる。

この発明に係る配向処理装置の一実施形態を示す概略斜視図である。 配向ずれ角度を解消した後の状態の一例を示す平面図である。 方位角度を０度以外にしたときの一例を示す平面図である。 基板搬送装置の一例を示す概略斜視図である。 基板回転装置の代わりにイオン源回転装置を設けた配向処理装置の一例を示す概略斜視図である。 従来の配向処理装置の一例を示す概略斜視図である。 配向ずれ角度が生じている状態の一例を示す平面図である。 配向膜付基板の一例を示す断面図である。

符号の説明

２ 配向膜付基板
１０ イオン源
１２ イオンビーム
１４ 設計上の進行方向
１６ 現実の進行方向
２０ 所望の配向処理方向
２２ 現実の配向処理方向
２４ 偏差角度測定装置
３０ 制御装置
３８ 基板回転装置
４０ 基板搬送装置
α 偏差角度
β 配向ずれ角度
θ 照射角度
φ 方位角度

Claims (6)

1. イオンビームの進行方向と配向膜付基板の表面との間の角度を照射角度と呼ぶと、イオン源から引き出されたイオンビームを配向膜付基板の表面に所定の照射角度で照射して、配向膜付基板の配向膜に配向処理を施す配向処理装置において、
   前記照射角度が属する平面と交差しておりかつ前記イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向を含む平面内における角度であって、前記イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向と現実の進行方向との差である偏差角度を測定する偏差角度測定装置と、
   前記配向膜付基板を、当該配向膜付基板の表面に立てた垂線に沿う軸を中心にして回転させる基板回転装置と、
   前記偏差角度測定装置で測定した前記偏差角度を用いて、当該偏差角度を前記配向膜付基板の表面に投影した角度である配向ずれ角度を求め、かつ前記基板回転装置を制御して、当該配向ずれ角度を小さくする方向に当該配向ずれ角度に相当する角度だけ前記配向膜付基板を回転させる機能を有している制御装置とを備えていることを特徴とする配向処理装置。
2. 前記偏差角度測定装置は、前記イオン源から引き出されるイオンビームの現実の進行方向を測定するイオンビーム測定器と、当該イオンビーム測定器で測定したイオンビームの現実の進行方向および前記イオン源から引き出されるイオンビームの設計上の進行方向に基づいて前記偏差角度を算出する偏差角度算出手段とを有しており、当該偏差角度算出手段は前記制御装置内に含まれている請求項１記載の配向処理装置。
3. 前記照射角度をθ、前記偏差角度をα、前記配向ずれ角度をβとすると、前記制御装置は、
   β＝ｔａｎ^-1（ｔａｎα／ｃｏｓθ）
   なる式またはそれと数学的に等価の式に従って配向ずれ角度βを求める機能を有している請求項１または２記載の配向処理装置。
4. 前記照射角度が０度よりも大きく２０度以下の場合に、前記偏差角度をα、前記配向ずれ角度をβとすると、前記制御装置は、β＝αに従って配向ずれ角度βを求める機能を有している請求項１または２記載の配向処理装置。
5. 前記基板回転装置は、前記配向膜付基板をその中心部を中心にして回転させて、前記イオンビームの設計上の進行方向を配向膜付基板の表面に投影した方向と、前記配向膜付基板の表面内の軸との間の角度である方位角度を調整する回転装置を兼ねている請求項１ないし４のいずれかに記載の配向処理装置。
6. 前記配向膜付基板を、前記イオンビームの設計上の進行方向を配向膜付基板の表面に投影したときの方向に沿う方向に搬送する基板搬送装置を更に備えていて、前記基板回転装置は、この基板搬送装置上に設けられている請求項１ないし５のいずれかに記載の配向処理装置。

Images