JP2009027044A - 積層コンデンサ及びコンデンサ内蔵配線基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】 広い周波数帯域でデカップリングが可能なコンデンサを得ることと、部品点数を増やすことなく、静電容量の異なる複数のコンデンサを組み合わせた回路を組み立てることができるようにすること。
【解決手段】 第一の貫通電極4aまたは第二の貫通電極4bの一部は、寸断部分6によって寸断されている。寸断部分6が形成された貫通電極は、導電接続される内部電極の枚数が減少するので、取り出される静電容量が小さくなる。また、寸断部分6を何層目に形成するかによって取り出される静電容量を調整することができる。
【選択図】 図1
【解決手段】 第一の貫通電極4aまたは第二の貫通電極4bの一部は、寸断部分6によって寸断されている。寸断部分6が形成された貫通電極は、導電接続される内部電極の枚数が減少するので、取り出される静電容量が小さくなる。また、寸断部分6を何層目に形成するかによって取り出される静電容量を調整することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、複数の静電容量を有する積層コンデンサと複数の静電容量を有するコンデンサを内蔵した配線基板に関するものである。
近年、マイクロプロセッサ等の半導体装置を含むデジタル回路の高速化、高集積化が進んできている。それに伴いデジタル回路中に流れる高周波の電源電流が増加しており、これによって誤作動や放射ノイズといった問題が引き起こされている。これを解決する手段として、半導体装置の電源とグランド間にコンデンサを挿入し、電源ラインのインピーダンスを下げること、すなわちデカップリングによる電源ラインの安定化が行われている。
このようなデカップリングに用いられるコンデンサは、高周波領域での動作が要求されている。より高い周波数で動作するには、コンデンサの自己共振周波数(f0)がより高い周波数にあることが必要である。ここでコンデンサは、静電容量と、等価直列インダクタンス(ESL)と等価直列抵抗(ESR)が直列に接続された等価回路で表すことができる。コンデンサの自己共振周波数f0は、f0=1/〔2π×(L×C)1/2〕であるので、インダクタンスLすなわちESLを小さくすることによって自己共振周波数f0をより高周波領域に移動させることができる。
このようなESLを低減したコンデンサとしては特開2001−185442号公報に開示されている積層コンデンサが挙げられる。このコンデンサは、内部電極を流れる電流の方向が交互に逆方向になるようにして、発生する磁界を相殺することによって低ESLを実現している。特開2001−185442号公報に開示されている積層コンデンサでは、このようにして自己共振周波数f0をより高周波領域に移動させることによって、より高周波領域でのデカップリングを可能としている。
しかしながら、特開2001−185442号公報に開示されている積層コンデンサは、多数の貫通電極を通じて半導体装置と接地との間に介在しているものの、実質的には単一の静電容量を有するコンデンサであるので、デカップリングが可能な周波数帯域の幅はそのコンデンサの周波数特性に依存する。そのため、より広い周波数帯域でデカップリングを行うことが困難であった。
より広い周波数帯域でデカップリングを行うための手段として、図6の等価回路図に示すように、静電容量の異なる複数のコンデンサを並列に接続する方法がある。自己共振周波数は静電容量によって変化するので、自己共振周波数が異なるコンデンサを並列に接続された回路が得られる。この方法によれば、図7のグラフに示すように、各コンデンサの周波数特性が合成された形になり、より広い周波数帯域でのデカップリングが可能になる。しかしながら、このような方法では、複数のコンデンサを用意する必要があり、部品点数が増えてしまうという問題があった。
本発明では、部品点数を増やさなくても、静電容量の異なる複数のコンデンサを並列に接続する方法と同等の効果が得られる積層コンデンサ及びこのコンデンサをコア基板とした配線基板を提案するものである。
本発明では、第一の内部電極と第二の内部電極が前記セラミック誘電体を介して交互に積層されかつ前記第一の内部電極及び前記第二の内部電極が前記セラミック誘電体によって埋設された積層体と、前記第一の内部電極と前記第二の内部電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第二の内部電極と絶縁されるとともに前記第一の内部電極と接続された複数の第一の貫通電極と、前記第一の内部電極と前記第二の内部電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第一の内部電極と絶縁されるとともに前記第ニの内部電極と接続された複数の第ニの貫通電極と、を有する積層コンデンサにおいて、前記第一の貫通電極及び前記第二の貫通電極のいずれかの一部が、寸断されている積層コンデンサを提案する。
上記提案の積層コンデンサでは、第一の内部電極と第二の内部電極によって形成される静電容量が、一対となる第一の貫通電極及び第二の貫通電極によって取り出される。第一の貫通電極及び第二の貫通電極のいずれかの一部が寸断された構造にすることにより、寸断された貫通電極に導通する内部電極の枚数が分割される。寸断された貫通電極とその貫通電極と対になる貫通電極から取り出される静電容量は分割されて、寸断部分が形成されていない他の一対の貫通電極から取り出される静電容量より小さくなる。取り出される静電容量は、貫通電極を寸断する位置によって調整することができる。これによって一つのコンデンサ内に複数の異なる静電容量を形成することが可能になる。従って、帯域幅の広い周波数−インピーダンス特性の静電容量を具備した積層コンデンサを提供することができる。このことから、半導体装置の電源ライン回路に本発明の積層コンデンサを挿入すれば、広い周波数帯域でデカップリングが可能になる。
また、本発明では、コンデンサ電極を埋設したセラミック基板の少なくとも一方の面に、絶縁層と配線導体とを交互に積層した配線層が形成されたコンデンサ内蔵配線基板において、前記セラミック基板が上記提案の積層コンデンサと同様の構造を有するコンデンサ内蔵配線基板を提案する。
このようなコンデンサ内蔵配線基板では、コアとなるセラミック基板が、第一の内部電極と第二の内部電極によって形成される静電容量を、一対となる第一の貫通電極及び第二の貫通電極によって取り出す構造を有する。第一の貫通電極及び第二の貫通電極のいずれかの一部が寸断された構造にすることにより、寸断された貫通電極に導通する内部電極の枚数が分割される。寸断された貫通電極とその貫通電極と対になる貫通電極から取り出される静電容量は分割されて、寸断部分が形成されていない他の一対の貫通電極から取り出される静電容量より小さくなる。取り出される静電容量は、貫通電極を寸断する位置によって調整することができる。これによって特定の一対の貫通電極から取り出される静電容量を、他の一対の貫通電極から取り出される静電容量と異なるようにすることが可能になる。これにより一つのセラミック基板内に静電容量の異なる複数のコンデンサを形成させることができる。このセラミック基板をコア基板とした配線基板を用いることにより、配線基板上に実装する部品点数を少なくすることができる。
本発明によれば、異なる複数の静電容量を一つのコンデンサ内に形成することができるので、静電容量の異なる複数のコンデンサを並列に接続した回路と同等の効果を得ることができ、広い周波数帯域でデカップリングが可能なコンデンサを得ることができる。また、特定の一対の貫通電極から取り出される静電容量を、他の一対の貫通電極から取り出される静電容量と異なるようにすることが可能になるので、部品点数を増やすことなく、静電容量の異なる複数のコンデンサを組み合わせた回路を組み立てることができるコンデンサ内蔵配線基板を得ることができる。
本発明の積層コンデンサに係る実施形態を、図面に基づいて説明する。図1は本発明の積層コンデンサを示す模式断面図、図2は本発明の積層コンデンサの分解斜視図である。なお、図1は図2のA−A線における断面を示す。
積層コンデンサ1は、第一の内部電極3aと第二の内部電極3bがセラミック誘電体2を挟んで対向して、交互に複数枚積み重ねられており、この積み重ねられた第一の内部電極3a及び第二の内部電極3bがセラミック誘電体2からなる積層体の内部に埋設されている構造を有する。そして、静電容量を取り出すため、第一の内部電極3a及び第二の内部電極3bの積層方向に貫通するスルーホールによって形成された複数本の第一の貫通電極4aが第一の内部電極3aと導電接続され、同様に第一の内部電極3a及び第二の内部電極3bの積層方向に貫通するスルーホールによって形成された複数本の第ニの貫通電極4bが第ニの内部電極3bと導電接続されている。第一の貫通電極4aは、積層体表面で第一の端子電極5aと接続され、第二の貫通電極4bは第二の端子電極5bと接続されている。
第一の貫通電極4aまたは第二の貫通電極4bの一部は、寸断部分6によって寸断されている。図1においては、一番右の第一の貫通電極4aと、左から3番目の第二の貫通電極4bと、に寸断部分6が形成されている。寸断部分6が形成された貫通電極は、導電接続される内部電極の枚数が減少するので、取り出される静電容量が小さくなる。また、寸断部分6を何層目に形成するかによって取り出される静電容量を調整することができる。これにより、積層コンデンサ1に複数の静電容量を形成することができる。
このような積層コンデンサ1は、図2に示すように、シート化されたセラミック誘電体2に、第一の内部電極3aまたは第二の内部電極3bとなる導電膜と、第一の貫通電極4aまたは第二の貫通電極4bとなるスルーホールを形成したものを積み重ねて形成される。セラミック誘電体2に用いられる材料としては、チタン酸バリウム(BaTiO3)やチタン酸ジルコン酸バリウム(BaTiZrO3)等の高誘電率のセラミックスや、アルミナやシリカ系のフィラーを分散させた絶縁性のガラスセラミックス等が挙げられる。これらの材料を、有機バインダー等と混合してセラミックスラリーを形成し、このセラミックスラリーをドクターブレード法等でシート状に成形することによってセラミックグリーンシートが得られる。
第一の貫通電極4aまたは第二の貫通電極4bとなるスルーホールは、このセラミックグリーンシートにピンやレーザ加工機による孔あけによって形成される。ここで、寸断部分6に対応する位置については孔あけを行わない。第一の内部電極3a及び第二の内部電極3bは、スクリーン印刷法によって導電ペーストをセラミックグリーンシート上に塗布して形成される。ここで、内部電極となる導電膜の形成と同時にスルーホールに導電ペーストが充填される。第一の内部電極3aとなる導電膜は、第二の貫通電極4bとなるスルーホールの周囲に空白部を有するように形成されており、第ニの内部電極3bとなる導電膜は、第一の貫通電極4aとなるスルーホールの周囲に空白部を有するように形成されている。内部電極が形成されないセラミックグリーンシートについては、スルーホールへの導電ペースト充填のみが行われる。内部電極及び貫通電極を構成する金属としては、Ni、Cu、Ag、Pd等が挙げられ、用いられるセラミック誘電体の材料等によって適宜選択される。
導電ペーストを塗布したセラミックグリーンシートを積み重ねて圧着し、焼成することによって内部電極が埋設されたセラミック積層体が形成される。第一の端子電極5a及び第二の端子電極5bは、このセラミック積層体の、第一の貫通電極4a及び第二の貫通電極4bの露出部分に導電ペーストを塗布して焼付けることによって形成される。なお、第一の端子電極5a及び第二の端子電極5bは、セラミック積層体の焼成前に導電ペーストを塗布して、セラミック基体の焼成と同時に焼付けしても良い。端子電極を構成する金属としては、Ni、Cu、Ag、Pd等が挙げられる。
なお端子電極の並び方については、図2においては、端子電極が格子状に並べられた形状が開示されているが、例えば図3に開示されているように、実装する半導体装置の端子形状に合わせて略ロの字状に並べられた形状でも良く、様々に設計が可能である。
次に、本発明の積層コンデンサの使用例について説明する。図4は、図1の積層コンデンサ1に半導体装置7を実装してデカップリングコンデンサとして使用しているものを示している。半導体装置7の電源端子Vccと積層コンデンサ1の第一の端子電極5aとを接続し、半導体装置7のグランド端子GNDと積層コンデンサ1の第ニの端子電極5bとを接続して、第一の貫通電極4aを電源ライン、第二の貫通電極4bをグランドラインとしている。
積層コンデンサ1は、2ヶ所の寸断部分6によって、3種類の静電容量を有している。すなわち、内部電極が6層のC1、内部電極が4層のC2及び内部電極が2層のC3である。これを等価回路で表すと図5のようになる。C1、C2及びC3は互いに並列になっているので、図5の等価回路を整理すると図6に示すようなものになる。また、積層コンデンサ1の周波数−インピーダンス特性は、図7に示すグラフのようになる。
自己共振周波数は静電容量によって変化するので、C1の周波数−インピーダンス特性、C2の周波数−インピーダンス特性及びC3の周波数−インピーダンス特性はそれぞれ異なる。これらを並列に接続すると、それぞれの周波数−インピーダンス特性が合成されて、点線で示したC0の周波数−インピーダンス特性になる。このC0のような周波数−インピーダンス特性を有している積層コンデンサ1によれば、単一の静電容量のコンデンサに比べてより広い周波数帯域でインピーダンスを低減させることができる。
また、本発明の積層コンデンサの使用例の別例を、図8及び図9に示す。図8の積層コンデンサ1は、半導体装置7の電源端子Vccと接続された第一の貫通電極4a全てが寸断部分6によって下面側の端子電極との導通を寸断されているものである。この場合の等価回路は図9のようになる。
この場合、積層コンデンサ1は電源VccとグランドGNDとの間に直列に接続される構成となり、電源回路の出力コンデンサとして用いることができる。そのため、出力コンデンサの分の部品点数を削減することが可能となる。なお、このような積層コンデンサ1は、内部電極が形成されないセラミックグリーンシートのうちの1枚を、第一の貫通電極4aとなるスルーホールを形成せず、第ニの貫通電極4bとなるスルーホールのみを形成したものにして、これを積層コンデンサ1の下面側に積層することによって得られる。
次に、本発明のコンデンサ内蔵配線基板に係る実施形態をについて説明する。図10に示すコンデンサ内蔵配線基板10は、コンデンサを内蔵したセラミック基板11をコア基板とし、このセラミック基板11の上面に配線層20が形成され、下面に配線層30が形成されている。配線層20は、絶縁層21、配線導体211、絶縁層22、配線導体221、絶縁層23及び配線導体231を順次積層して形成されている。一方配線層30は、絶縁層31、配線導体311、絶縁層32、配線導体321、絶縁層33及び配線導体331を順次積層して形成されている。なお、コンデンサ内蔵配線基板10は、図11に示すように、セラミック基板11の上面のみにビルドアップ層20を形成したものでも良い。
セラミック基板11は、第一のコンデンサ電極13aと第二のコンデンサ電極13bがセラミック誘電体12を挟んで対向して、交互に複数枚積み重ねられており、この積み重ねられた第一のコンデンサ電極13a及び第二のコンデンサ電極13bがセラミック誘電体12からなる積層体の内部に埋設されている構造を有する。そして、静電容量を取り出すため、第一のコンデンサ電極13a及び第二のコンデンサ電極13bの積層方向に貫通するスルーホールによって形成された複数本の第一の貫通導体14aが第一のコンデンサ電極13aと導電接続され、同様に第一のコンデンサ電極13a及び第二のコンデンサ電極13bの積層方向に貫通するスルーホールによって形成された複数本の第ニの貫通導体14bが第ニのコンデンサ電極13bと導電接続されている。第一の貫通導体14aは、基体表面で第一の端子電極15aと接続され、第二の貫通導体14bは第二の端子電極15bと接続される。
第一の貫通導体14aまたは第二の貫通導体14bの一部は、寸断部分16によって寸断されている。寸断部分16が形成された貫通導体は、導電接続されるコンデンサ電極の枚数が減少するので、取り出される静電容量が小さくなる。また、寸断部分16を何層目に形成するかによって取り出される静電容量を調整することができる。これにより、セラミック基板11に複数の静電容量を形成することができる。なお、セラミック基板11を構成する材料、及びセラミック基板11の形成方法に関しては、前出の積層コンデンサ1の場合とほとんど同じである。
配線層20及び配線層30は、予め用意した配線基板をセラミック基板11に貼り合せる方法、セラミック基板11となる焼成前の積層体に配線導体を形成したセラミックグリーンシートを積層して焼成する方法及びセラミック基板11上に絶縁樹脂と配線導体を交互に積層するビルドアップ法等によって形成される。
予め用意した配線基板をセラミック基板11に貼り合せる方法では、配線層20及び配線層30となる配線基板を、接着剤等を用いてセラミック基板11に貼り合せる。よって配線基板の材質については特に制限は無く、ガラス−エポキシ樹脂基板等の樹脂製の配線基板や、アルミナ、ガラスセラミックスまたは低温焼成セラミックス等のセラミック製の配線基板を用いても良い。
セラミック基板11となる焼成前の積層体に配線導体を形成したセラミックグリーンシートを積層して焼成する方法では、セラミック基板11を構成するセラミック誘電体12と同時焼成が可能な材料が選ばれる。絶縁層としては、例えばセラミック誘電体12と略同組成のセラミック誘電体や、セラミック誘電体12と焼結温度や収縮特性が略同じであるセラミックスが用いられる。また、配線導体については例えばセラミック基板11に埋設されているコンデンサ電極と同様の金属材料が用いられる。
ビルドアップ法では、既存のビルドアップ層を形成する方法を用いることができる。セラミック基板11の上面に絶縁層21を形成し、次いで絶縁層21上に配線導体211を形成する。以後絶縁層22、配線導体221、絶縁層23及び配線導体231を順次積層して配線層20を形成する。一方同様にしてセラミック基板11の下面に配線層30を形成する。絶縁層を構成する材料としては、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂等が挙げられる。また、配線導体は所定のパターンでメッキレジストを形成して無電解Cuメッキまたは電解Cuメッキで金属層を形成した後レジストを除去する方法、全面に無電解Cuメッキまたは電解Cuメッキによって金属層を形成した後エッチングによって所定のパターンに形成する方法および銅箔を貼り付けた後エッチングによって所定のパターンに形成する方法等によって形成される。
このようなコンデンサ内蔵配線基板10は、複数種類の静電容量が形成されているので、実装する電子部品のうち、セラミック基板11に埋設されているコンデンサ電極で形成可能な静電容量のコンデンサを削減することができる。このコンデンサ内蔵配線基板10内に形成されるコンデンサは、貫通導体の数によって個数が調整され、寸断部分16の位置によって静電容量が調整される。
以上、本発明の積層コンデンサ及びコンデンサ内蔵配線基板について説明したが、上記の実施例に限定されることはなく、本発明の範囲内で適宜変更可能である。
1 積層コンデンサ
2 セラミック誘電体
3a 第一の内部電極
3b 第ニの内部電極
4a 第一の貫通電極
4b 第ニの貫通電極
5a 第一の端子電極
5b 第ニの端子電極
6 寸断部分
7 半導体装置
10 コンデンサ内蔵配線基板
11 セラミック基板
12 セラミック誘電体
13a 第一のコンデンサ電極
13b 第ニのコンデンサ電極
14a 第一の貫通導体
14b 第ニの貫通導体
15a 第一の端子電極
15b 第ニの端子電極
16 寸断部分
20、30 配線層
21、22、23、31、32、33 絶縁層
211、221、231、311、321、331 配線導体
2 セラミック誘電体
3a 第一の内部電極
3b 第ニの内部電極
4a 第一の貫通電極
4b 第ニの貫通電極
5a 第一の端子電極
5b 第ニの端子電極
6 寸断部分
7 半導体装置
10 コンデンサ内蔵配線基板
11 セラミック基板
12 セラミック誘電体
13a 第一のコンデンサ電極
13b 第ニのコンデンサ電極
14a 第一の貫通導体
14b 第ニの貫通導体
15a 第一の端子電極
15b 第ニの端子電極
16 寸断部分
20、30 配線層
21、22、23、31、32、33 絶縁層
211、221、231、311、321、331 配線導体
Claims (2)
- 第一の内部電極と第二の内部電極とがセラミック誘電体を介して交互に積層されかつ前記第一の内部電極及び前記第二の内部電極が前記セラミック誘電体によって埋設された積層体と、前記第一の内部電極と前記第二の内部電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第二の内部電極と絶縁されるとともに前記第一の内部電極と接続された複数の第一の貫通電極と、前記第一の内部電極と前記第二の内部電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第一の内部電極と絶縁されるとともに前記第ニの内部電極と接続された複数の第ニの貫通電極と、を有する積層コンデンサにおいて、
前記第一の貫通電極及び前記第二の貫通電極のいずれかの一部が、寸断されている
ことを特徴とする積層コンデンサ。 - コンデンサ電極を埋設したセラミック基板の少なくとも一方の面に、絶縁層と配線導体とを交互に積層した配線層が形成されたコンデンサ内蔵配線基板において、
前記セラミック基板は、第一のコンデンサ電極と第二のコンデンサ電極とが前記セラミック誘電体を介して交互に積層されかつ前記第一の内部電極及び前記第二の内部電極が前記セラミック誘電体によって埋設された積層体と、前記第一のコンデンサ電極と前記第二のコンデンサ電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第二の内部電極と絶縁されるとともに前記第一のコンデンサ電極と接続された複数の第一の貫通導体と、前記第一のコンデンサ電極と前記第二のコンデンサ電極の積層方向に向かって前記積層体を貫通しかつ前記第一の内部電極と絶縁されるとともに前記第ニのコンデンサ電極と接続された複数の第ニの貫通導体と、を有しており、
前記第一の貫通導体及び前記第二の貫通導体のいずれかの一部が、寸断されている
ことを特徴とするコンデンサ内蔵配線基板。
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