JP2009023895A - セラミックス基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 主組成としてMg2SiO4及び低温焼成化成分を含むセラミックス基板である。熱膨張係数αは9.0ppm/℃以上である。Al2O3を7体積%以下(零は含まず。)の割合で含有する。Mg2SiO4及び低温焼成化成分を含む主組成に対して、平均粒径1.0μm以下のAl2O3を7体積%以下(零は含まず。)の割合で添加し、電極の融点以下の温度で焼成する。
【選択図】 図1
Description
原料粉末として、高純度のMg2SiO4、ZnO、B2O3、CuO、CaCO3、SrCO3、BaCO3を用意した。各原料粉末の平均粒径は、0.1μm〜1.0μmである。Mg2SiO4に対して副成分(ZnO、B2O3、CuO、CaO、SrO、BaO)の添加量が表1に示す配合となるように秤量し、ボールミルを用いて湿式混合を16時間行った。得られたスラリーを十分に乾燥させた後、大気中、700℃で2時間保持する仮焼を行い、仮焼体を得た。仮焼体が平均粒径1.0μmになるまでボールミルにより微粉砕した後、微粉砕粉末を乾燥させた。次いで、バインダとしてPVA(ポリビニルアルコール)を適量加えて造粒し、成形を行った後、950℃あるいは975℃(サンプル1,2については1300℃あるいは1350℃)で4時間焼成を行い、焼結体を得た。
表1の結果から、サンプル7を主組成とし、主組成の微粉砕粉末にAl2O3粉末を加えて造粒、成形を行った後、960℃あるいは950℃で4時間焼成を行い、セラミックス基板を作製した。得られたセラミックス基板(実施例1〜実施例3)の抗折強度、比誘電率εr、Q、及び熱膨張係数αを表2に示す。
Al2O3粉末の添加量を0体積%〜15体積%とし、各添加量における焼成温度と抗折強度の関係を調べた。主組成はサンプル7と同様とした。結果を図2に示す。Al2O3粉末の添加量が0体積%あるいは1体積%の場合、抗折強度が最大値となるのは、焼成温度960℃以上の高温の場合である。これに対して、Al2O3粉末の添加量が5体積%、あるいは7体積%の場合には、950℃で抗折強度が最大となった。焼成温度が950℃であれば、導体同時焼成が可能である。一方、Al2O3粉末の添加量が10体積%以上になると、いずれの焼成温度においても抗折強度は低い値であった。
平均粒径1.0μm〜5.0μmのAl2O3粉末を用いてセラミックス基板を作製し、Al2O3粉末の平均粒径と得られたセラミックス基板の抗折強度の関係を調べた。使用したAl2O3粉末の平均粒径は、平均粒径5.0μm、平均粒径3.0μm、平均粒径2.0μm、平均粒径1.0μmの4種類である。主組成はサンプル7と同様とし、Al2O3粉末の添加量は5体積%とした。焼成温度は990℃とした。結果を図3に示す。
Claims (4)
- 主組成としてMg2SiO4及び低温焼成化成分を含み、熱膨張係数αが9.0ppm/℃以上であるセラミックス基板であって、
Al2O3を7体積%以下(零は含まず。)の割合で含有することを特徴とするセラミックス基板。 - Al2O3の含有量が1体積%〜7体積%であることを特徴とする請求項1記載のセラミックス基板。
- 前記主組成において、Mg2SiO4を主成分とするとともに、ZnO、B2O3、CuO及びRO(ただし、Rはアルカリ土類金属を表す。)を低温焼成化成分として含み、
前記Mg2SiO4の質量をa、ZnOの質量をb、B2O3の質量をc、CuOの質量をd、ROの質量をeとしたときに、全体の質量(a+b+c+d+e)に対するZnOの質量bの比率b/(a+b+c+d+e)が8%〜20%、B2O3の質量cの比率c/(a+b+c+d+e)が3%〜10%、CuOの質量dの比率d/(a+b+c+d+e)が2%〜8%、ROの質量eの比率e/(a+b+c+d+e)が1%〜4%であることを特徴とする請求項1または2記載のセラミックス基板。 - Mg2SiO4及び低温焼成化成分を含む主組成に対して、平均粒径1.0μm以下のAl2O3を7体積%以下(零は含まず。)の割合で添加し、電極の融点以下の温度で焼成することを特徴とするセラミックス基板の製造方法。
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