JP2008544011A - 側面の少なくとも1つにプラズマにより形成された薄膜コーティングを有するポリマー製品およびこのような製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)表面を有するプラスチック基板、
b)酸素の実質的な不存在下で基板の表面に堆積された、好ましくはテトラメチルジシロキサンである第1のプラズマ重合有機シリコン化合物である接着促進層、
c)十分な化学量論過剰の酸素の存在下で接着促進層の表面に堆積されて、SiO1.8〜2.4C0.3〜1.0H0.7〜4.0からなるシリコンポリマーを形成した、好ましくはテトラメチルジシロキサンである第2のプラズマ重合有機シリコン化合物である保護コーティング層、
d)保護コーティング層の表面に堆積されたプラズマ重合テトラメチルジシロキサンの層であるSiOx層、
を含む積層体を開示している。
ポリマー基板、
ポリマー基板上のSiOxCyHz、ここで、xは1から2.4であり、yは0.2から2.4であり、zは0から4である、の第1の濃縮されたプラズマゾーン、ここで、プラズマは、酸化雰囲気中でオルガノシラン化合物から生成される、
ポリマー基板上のSiOxからなるさらなる濃縮されたプラズマゾーン、ここで、プラズマは、SiOx層を形成するのに十分な酸化雰囲気中でオルガノシランから生成される、
を含む、バリヤーコーティング
を有するポリマー基板を開示している。
− 前記ポリマー製品への、有利にはアルゴンプラズマ処理であるプラズマ処理、
− テトラメチルシラン、またはテトラメチルシランおよび好ましくは酸素もしくは二酸化炭素である酸化ガスのいずれかからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる第1のコーティングの堆積であって、前記第1のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は0から1.7の間であり、yの値は0.5から0.8の間であり、zの値は0.35から0.6の間である第1のコーティングの堆積、および
− 好ましくは酸素O2または二酸化炭素である酸化ガスの存在下でのテトラメチルシランからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる、次の第2のコーティングの堆積であって、前記第2のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は1.7から1.99の間であり、yの値は0.2から0.7の間であり、zの値は0.2から0.35の間であり、前記第1のコーティングの厚さは、約1ナノメートルから約15ナノメートルであり、前記第2のコーティングの厚さは、約10ナノメートルから約100ナノメートル、好ましくはおよそ30ナノメートルである第2のコーティングの堆積、
を連続的に有することを特徴とする。
Si:27.6%
O:43.6%
C:17.1%
H:11.7%
式SiOxCyHz、xは1.58であり、yは0.62であり、zは0.42である。
Si:28.5%
O:50.55%
C:12.55%
H:8.35%
式SiOxCyHz、xは1.77であり、yは0.44であり、zは0.29である。
Si:28.75%
O:54.95%
C:8.9%
H:7.4%
式SiOxCyHz、xは1.91であり、yは0.31であり、zは0.257である。
− 前記ポリマー製品への、有利にはアルゴンプラズマ処理であるプラズマ処理、
− テトラメチルシラン、またはテトラメチルシランおよび好ましくは酸素もしくは二酸化炭素である酸化ガスのいずれかからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる第1のコーティングの堆積であって、前記第1のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は0から1.7の間であり、yの値は0.5から0.8の間であり、zの値は0.35から0.6の間である第1のコーティングの堆積、および
− 好ましくは酸素O2または二酸化炭素である酸化ガスの存在下でのテトラメチルシランからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる、次の第2のコーティングの堆積であって、前記第2のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は1.7から1.99の間であり、yの値は0.2から0.7の間であり、zの値は0.2から0.35の間であり、前記第1のコーティングの厚さは、約1ナノメートルから約15ナノメートルであり、前記第2のコーティングの厚さは、約10ナノメートルから約100ナノメートル、好ましくはおよそ30ナノメートルである第2のコーティングの堆積、
を連続的に有する。
− ポリマー製品を真空チャンバー中に置くステップ、
− 真空チャンバー中を減圧するステップ、
− ポリマー製品の内部容積を減圧するステップ、
− 容器の周囲にその外面に近接して配置された電極により電気グロー放電を適用するステップ、
を含む。
Claims (8)
- 側面の少なくとも1つに薄膜コーティングを有するポリマー製品において、前記コーティングは、プラズマ重合テトラメチルシランまたはプラズマ重合テトラメチルシランおよび好ましくは酸素もしくは二酸化炭素である酸化ガスのいずれかであるSiOxCyHzからなる第1のコーティングであって、前記ポリマー製品の表面に堆積され、前記第1のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は0から1.7の間であり、yの値は0.5から0.8の間であり、zの値は0.35から0.6の間である第1のコーティングと、プラズマ重合テトラメチルシランおよび好ましくは酸素または二酸化炭素である酸化ガスであるSiOxCyHzからなる第2のコーティングであって、前記第1のコーティングの表面に堆積され、前記第2のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は1.7から1.99の間であり、yの値は0.2から0.7の間であり、zの値は0.2から0.35の間である第2のコーティングとを有し、前記第1のコーティングの厚さは、約1ナノメートルから約15ナノメートルであり、かつ前記第2のコーティングの厚さは、約10ナノメートルから約100ナノメートル、好ましくはおよそ30ナノメートルであることを特徴とするポリマー製品。
- 側面の少なくとも1つにプラズマにより形成された薄膜コーティングを有するポリマー製品の製造方法において、
− 前記ポリマー製品への、有利にはアルゴンプラズマ処理であるプラズマ処理、
− テトラメチルシラン、またはテトラメチルシランおよび好ましくは酸素もしくは二酸化炭素である酸化ガスのいずれかからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる第1のコーティングの堆積であって、前記第1のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は0から1.7の間であり、yの値は0.5から0.8の間であり、zの値は0.35から0.6の間である第1のコーティングの堆積、および
− 好ましくは酸素O2または二酸化炭素である酸化ガスの存在下でのテトラメチルシランからのプラズマの発生によるSiOxCyHzからなる、次の第2のコーティングの堆積であって、前記第2のSiOxCyHzコーティングについて、xの値は1.7から1.99の間であり、yの値は0.2から0.7の間であり、zの値は0.2から0.35の間であり、前記第1のコーティングの厚さは、約1ナノメートルから約15ナノメートルであり、前記第2のコーティングの厚さは、約10ナノメートルから約100ナノメートル、好ましくはおよそ30ナノメートルである第2のコーティングの堆積、
を連続的に有することを特徴とする方法。 - 前記ポリマー製品は、容器の形態に作られ、その内側がプラズマ処理およびコーティングされることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記ポリマー製品はポリプロピレンまたはポリエチレンで作製されることを特徴とする、請求項2または3のいずれか1項に記載の方法。
- コーティングは、磁気ガイドもしくはプラズマ発生電極のいずれか、または磁気ガイドおよびプラズマ発生電極の両方を用いて作製されることを特徴とする、請求項2から4のいずれか1項に記載の方法。
- 13.56MHzの周波数を用いて電力がプラズマに投入されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 酸素とテトラメチルシランとの比は、前記第1のコーティングを得るために、およそ0から4の間であり、前記比は、前記第1のコーティング上に前記第2のコーティングを得るために、およそ4から10の間であることを特徴とする、請求項2から6のいずれか1項に記載の方法。
- 酸素とテトラメチルシランとの比は、およそ1から4秒の第1のステップ中、およそ0から4の第1の値に維持され、前記比は、およそ5から30秒の第2のステップ中、およそ4から10の第2の値に維持されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
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