JP2008522009A - シリコーンポリエーテル−アミドブロック共重合体 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2004年12月1日に出願された米国特許出願第60/632061号の優先権を主張する。
(1)シリコーン流動体(揮発性および/または非揮発性シリコーン流動体)を含有する組成物を増粘するための、シロキサン基と水素結合性基とを両方含有し;
(2)室温で非流動性の固体であり;
(3)シリコーンを含有する流動体中に25〜250℃の温度で溶解してこの範囲の温度で半透明または透明な溶液を形成する
ゲル化剤を含む組成物を開示する。
Xは、直鎖状または分岐状のC1〜C30のアルキレン鎖であり;
Yは、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有する、二価の有機基であり;
R1〜R4は、独立して一価の有機基であり;
DPは、1〜500の値を有する整数であり;
nは、1〜500の値を有する整数である〕
で表されるポリエーテル−アミド繰り返し単位を少なくとも1つ有するシリコーンブロック共重合体に関する。
I)オメガ−オレフィン性カルボン酸を、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有するジアミンと反応させて、ビニル基で末端ブロックされたジアミドを形成させる工程と、
II)前記ビニル基で末端ブロックされたジアミドを、SiHを含有するシロキサンと反応させて、前記シリコーンブロック共重合体を形成させる工程と
を含む調製方法に関する。
Xは、直鎖状または分岐状のC1〜C30のアルキレン鎖であり;
Yは、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有する、二価の有機基であり;
R1〜R4は、独立して一価の有機基であり;
DPは、1〜500の値を有する整数であり;
nは、1〜500の値を有する整数である〕。
I)オメガ−オレフィン性カルボン酸を、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有するジアミンと反応させて、ビニル基で末端ブロックされたジアミドを形成させる工程と、
II)前記ビニル基で末端ブロックされたジアミドを、SiHを含有するシロキサンと反応させて、前記シリコーンブロック共重合体を形成させる工程と
を含む調製方法に関する。
を有する、SiHを含有するシロキサン(例えば水素末端のポリジメチルシロキサン等)と、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させて、上述した式Aにより表される繰り返し単位を少なくとも1つ含むシリコーンブロック共重合体を形成させる。
DPA-PG(プロピレングリコール)
DPA-DPG(ジプロピレングリコール)
DPA-3PG(トリプロピレングリコール)
DPA-425(ポリ(プロピレングリコール))
DPA-725(ポリ(プロピレングリコール))
DPA-1000(ポリ(プロピレングリコール))
DPA-1200(ポリ(プロピレングリコール))
DPA-2000(ポリ(プロピレングリコール))
DPA-4000(ポリ(プロピレングリコール))
NDPA-10(エチレングリコール)
DPA-DEG(ジエチレングリコール)
DPA-200E(ポリ(エチレングリコール))
DPA-400E(ポリ(エチレングリコール))
DPA-1000E(ポリ(エチレングリコール))
NDPA-11(1, 3-プロパンジオール)
DPA-12(2-メチル-1,3-プロパンジオール)
NDPA-12(1, 4-ブタンジオール)
IDPA-12(1,3-ブタンジオール)
NDPA-14(1,6-ヘキサンジオール)
DPA-CHDM(シクロヘキサン-1,4-ジメタノール)。
I)オメガ−オレフィン性カルボン酸を、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有するジアミンと反応させて、ビニル基で末端ブロックされたジアミドを形成させる工程と、
II)前記ビニル基で末端ブロックされたジアミドを、SiHを含有するシロキサンと反応させて、前記シリコーンブロック共重合体を形成させる工程と
を含む調製方法に関する。本発明のこの実施態様においては、工程II)の工程にアルファ−オメガオレフィンを添加し、工程I)およびII)を実施するためのその他の技術および手順は上述のものと同様である。本明細書では、アルファ−オメガオレフィンは一般式 H2C =CH-A-CH=CH2(式中、Aは、二価の有機基またはオルガノポリシロキサンを表す)で表される。Aが二価の有機基である場合、直鎖状または分岐状のC1〜C30のアルキレン鎖から選択することができる。したがって、Aは、1個〜30個の炭素、特に3個〜10個の炭素、さらに特に4個の炭素を有する二価の脂肪族炭化水素基であり、例えば1,5-ヘキサジエンである。Aは、ポリエーテル(ポリオキシアルキレン)基であってもよく、ここで、ポリオキシアルキレンは上述したものと同様である。Aは、オルガノポリシロキサン、特に、式 (Me2SiO)DP(式中、DPは上述したものと同様である)の直鎖状のポリジメチルシロキサンであってもよい。このアルファ−オメガオレフィンを、得られるシリコーンブロック共重合体の最終的な化学的/物理的性質を変える目的で、工程II)において添加することができる。
次のエーテルジアミンを、以下の実施例で使用してエーテルジアミドを調製した。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した1000 mL丸底フラスコに、107.22gのポリエーテルジアミン(Tomah’s DPA-DEG、Wisconsin)および192.79gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れると、混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら、180℃で2時間加熱した。この反応混合物を、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、89℃であった。このエーテルジアミドの酸価は、2.03であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例1からのエーテルジアミド 50g、およびジメチル水素で末端ブロックされた、平均重合度(DP)15を有するポリジメチルシロキサン 116.52gを入れた。次いで、内容物を140℃で15分間加熱し、この混合物に1.03gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。この混合物を1時間反応させた。得られた重合体のMwは、17,200であり、1.87の多分散度を有していた。融点は49℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例1からのエーテルジアミド 37.5g、およびジメチル水素で末端ブロックされた、平均重合度(DP)100を有するポリジメチルシロキサン550.5gを入れ、140℃で15分間加熱した。次いで、混合物に2.0gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。この混合物を1時間反応させた後、注ぎ出した。得られた重合体のMwは、56,900であり、2.11の多分散度を有していた。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した1000 mL丸底フラスコに、114.61gのポリエーテルジアミン(Huntsman’s XTJ-504)および291.4gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れると、混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら、180℃で2時間加熱した。この反応混合物を、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、94℃であった。このエーテルジアミド中に残った不純物の指標である酸価は、2.31であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例2で調製したエーテルジアミド 70g、およびジメチル水素で末端ブロックされた、平均重合度(DP)15を有するポリジメチルシロキサン 182.76gを入れた。次いで、混合物を140℃で15分間加熱し、この混合物に0.9gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。この混合物を1時間反応させ、注ぎ出した。得られた重合体のMwは、21,400であり、2.14の多分散度を有していた。融点は65℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例2で調製したエーテルジアミド 20g、およびジメチル水素で末端ブロックされた、平均重合度(DP)100を有するポリジメチルシロキサン294.5gを入れ、140℃で15分間加熱した。次いで、混合物に0.91gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。この反応混合物を1時間反応させた後、注ぎ出した。重合体のMwは、89,100であり、3.88の多分散度を有していた。融点は74℃であった。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した2000 ml丸底フラスコに、570.0gのポリエーテルジアミン(Huntsman’s XTJ-502)および100.75gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れると、混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら、180℃で2時間加熱した。この反応混合物を、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、31℃であった。このエーテルジアミド中に残った不純物の指標である酸価は、1.88であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した500 mL三つ口丸底フラスコに、実施例3で調製したエーテルジアミド100.0g、およびトルエン112.0gを入れ、112℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均重合度15 DP)52.5gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.83gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに0.58gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、徐々に真空にして溶媒を除去した。得られた重合体のMwは二項分布であって、その32%の領域が13200のMwおよび1.17の多分散度を有し、残った68%の領域が2800のMwおよび2.93の多分散度を有していた。融点は30℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例3で調製したエーテルジアミド40.12g、およびトルエン100.0gを入れ、112℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均100 DP)120.05gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.97gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに1.18gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、ゆっくりと真空にして徐々に溶媒を除去した。得られた重合体のMwは、二項分布であって、その75%の領域29700のMwおよび1.54の多分散度を有し、残った25%の領域が2800のMwおよび2.93の多分散度を有していた。融点は23℃であった。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した1000 mL丸底フラスコに、160.64gのジプロピレンジアミン(Tomah DPA-DPG)および244.1gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れた。2つの反応原料が混合されるとすぐに、混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら、220℃で1時間加熱した。この反応混合物を150℃まで冷却し、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、30℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した500 mL三つ口丸底フラスコに、実施例4で調製したエーテルジアミド60g、およびトルエン100gを入れ、112℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均15 DP)132.5gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.4gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに0.4gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、徐々に真空にして溶媒を除去した。得られた重合体のMwは37800であり、多分散度は3.4であった。融点は25℃であった。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した500 mL丸底フラスコに、72.02gのポリエーテルジアミン(Huntsman’s XTJ-504)および184.79gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れた。混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、120℃に加熱し、この温度に1時間保った後、180℃まで昇温させた。真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら180℃で2時間保った。この反応混合物を150℃まで冷却し、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、93℃であった。このエーテルジアミド中に残った不純物の指標である酸価は、0.28であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを1000 mL三つ口丸底フラスコに装着した。これに、上記実施例5で調製したエーテルジアミド6.12g、エーテルジアミド(実施例5の方法を使ってJEFFAMINE D230とウンデシレン酸から調製したもの)7.22g、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均100 DP)180.0g、およびトルエン100gを入れ、112℃で15分間加熱した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.53gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに0.33gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、徐々に真空にして溶媒を除去した。得られた重合体のMwは78,200であり、多分散度は7.24であった。融点は23℃であった。
〔エーテルジアミドの調製〕
温度計、電気撹拌機、窒素吹き出し口、およびコンデンサーを装着した500 mL丸底フラスコに、72.05gのポリエーテルジアミン(Huntsman’s XTJ-504)および184.8gのウンデシレン酸(Atofina、France)を入れた。撹拌を止めて、フラスコ中のこの混合物を窒素で5分間パージして、ヘッドスペース内の酸素を一掃した。次いで、攪拌機のスイッチを入れた。混合物が即座に淡黄色に変化した。その後反応混合物を、120℃に加熱し、この温度に1時間保った後、180℃まで昇温させた。真空下で窒素をパージして不純物をストリッピングにより除きながら180℃で2時間保った。この反応混合物を150℃まで冷却し、アルミニウムライニングされた受皿に注ぎ、空気下で不都合な変色なしに放冷させた。このエーテルジアミドの融点は、93℃であった。このエーテルジアミド中に残った不純物の指標である酸価は、2.8であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを1000 mL三つ口丸底フラスコに装着した。これに、実施例6で調製したエーテルジアミド24.99g、DC 8337(ジアミド官能性シロキサン、Dow Corning Corporation、Midland MI)23.65g、およびトルエン100gを入れ、112℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均15 DP鎖)154.02gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.38gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに0.32gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、徐々に真空にして溶媒を除去した。得られた重合体のMwは47,500であり、多分散度は3.59であった。融点は86.5℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例6で調製したエーテルジアミド12.5g、ジアミンシロキサン DC 8337 36.55g、およびトルエン50gを入れ、112℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均15 DP鎖)154.02gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に0.38gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに0.32gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、徐々に真空にして溶媒を除去した。得られた重合体のMwは39,600であり、多分散度は3.55であった。融点は94.0℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例1で調製したエーテルジアミド150g、およびジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均15 DP鎖)349.56gを入れ、140℃で15分間加熱した。次いで、混合物に3.01gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。反応混合物を1時間反応させて分子量を増大させ、注ぎ出した。重合体のMwは19,200であり、多分散度は1.55であった。
〔シリコーンブロック共重合体の調製〕
温度計、電気撹拌機、およびコンデンサーを装着した1000 mL三つ口丸底フラスコに、実施例3で調製したエーテルジアミド120g、イソプロピルアルコール300.0gを入れ、80℃で15分間加熱した。次いで、ジメチル水素で末端ブロックされたポリジメチルシロキサン(平均100 DP鎖)120.05gを、滴下漏斗から滴下した。シロキサンの最初の5gを添加した後に、混合物に2gの白金触媒(ジメチルシロキサン中の1,3-ジエテニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン白金錯体)を添加した。シロキサンの添加が終了した後、さらに2gの白金触媒を添加した。フラスコへのチャージの後、反応原料を1時間撹拌して反応させた。次いで、この反応混合物を120℃に加熱し、ゆっくりと真空にして除々に溶媒を除去した。得られた重合体のMwは二項分布であって、その48%の領域が21,500のMwおよび1.48の多分散度を有し、残った52%の領域が3950のMwおよび1.09の多分散度を有していた。融点は23℃であった。
〔シリコーンブロック共重合体を使用したゲルの調製〕
これらの例は、本発明のシリコーンブロック共重合体が様々な化粧用エモリエントと共にゲルを形成する能力を例証する。実施例1〜6に記述したシリコーンブロック共重合体を使ってゲルを調整した。調製は、シリコーンブロック共重合体と化粧用エモリエントとを同量秤量(各5〜7g)して1/2オンスのガラス瓶に入れ、この瓶を約70℃にセットしたホットプレートの上に置いて行った。シリコーンブロック共重合体が70℃で融解しない場合、ホットプレートの温度を100℃まで高めてこのシリコーンブロック共重合体を融解した。シリコーンブロック共重合体と化粧用エモリエントとの混合物は、シリコーンブロック共重合体を溶解するために必要とされるより高い温度には加熱しなかった。シリコーンブロック共重合体が融解した後、シリコーンブロック共重合体と化粧用エモリエントとの混合物が入ったガラス瓶をボルテックス攪拌機で短時間攪拌し、その後放冷した。混合物が室温まで冷却された後、ゲルの品質を評価した。ゲルの品質は、Aが最良のゲルを表す、以下のスキームに従った評価に割り当てた。
〔スティック配合物の調製〕
シリコーンブロック共重合体が、様々なタイプのスティック配合物を調製するために有用であることを例証するために、以下の配合物を調製した。
〔エマルション中のシリコーンブロック共重合体〕
非極性(シリコーン)ブロックと極性(ポリエーテル)ブロックとを有するシリコーンブロック共重合体は、乳化などの界面活性剤のような挙動を示し得る。乳化能力を実証する単純なスクリーニング試験として、シリコーンブロック共重合体10部を化粧用エモリエント10部と混合し、80℃に加熱することによる試験を考案した。この熱い混合物に、化粧品用増粘剤(Sepigel 305、SEPPIC社により製造されている)1部を添加し、十分に混合した。この混合物を、水79部を速やかに添加し、激しく攪拌しながら80℃に加熱した。混合物を連続的に攪拌しながら室温にまで放冷した。混合物が冷えた後、数時間そのままにし、エマルションの品質を、以下の基準に従って評価した:
評価 説明
1 安定なエマルション
2 クリーミング性を有するエマルション
3 エマルションではない
比較のために、市販のシリコーンブロック共重合体〔Dow Corning(登録商標)2-8179 Gellant (INCI名:Nylon-611/Dimethicone Copolymer)として販売されているもの〕を、本発明のシリコーンブロック共重合体の評価に含めた。
〔配合物における、エマルション化されたシリコーンブロック共重合体の使用〕
Claims (20)
- Xが、3〜10個の炭素を有する二価の脂肪族炭化水素基である、請求項1に記載のシリコーンブロック共重合体。
- Xが、- (CH2)10 -である、請求項1に記載のシリコーンブロック共重合体。
- 前記ポリオキシアルキレン基が、オキシエチレン単位-(C2H4O)-、オキシプロピレン単位-(C3H6O)-、オキシブチレン単位-(C4H8O)-、またはこれらの混合単位を含む、請求項1または3に記載のシリコーンブロック共重合体。
- R1〜R4がメチルである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のシリコーンブロック共重合体。
- シリコーンブロック共重合体の調製方法であって、
I)オメガ−オレフィン性カルボン酸を、式 -(CmH2mO)z - (式中、mは2〜4であり(2と4を含む)、zは1〜700である)を有するポリオキシアルキレン基を少なくとも1つ含有するジアミンと反応させて、ジアミドを形成させる工程と、
II)前記ジアミドを、SiHを含有するシロキサンと反応させて、前記シリコーンブロック共重合体を形成させる工程と
を含む調製方法。 - 前記オメガ−オレフィン性酸が、ウンデシレン酸、アクリル酸、3−ブテン酸または4−ペンテン酸である、請求項6に記載の調製方法。
- 前記ジアミンが、ポリ(オキシエチレン)ジアミンまたはポリ(オキシプロピレン)ジアミンである、請求項6に記載の調製方法。
- 前記ジアミンと前記SiHを含有するシロキサンとが、白金で触媒されたヒドロシリル化反応によって反応する、請求項6に記載の調製方法。
- 工程IIが、ビニル末端化されたジアミドおよびアルファ−オメガオレフィンを、SiHを含有するシロキサンと反応させて、シリコーンブロック共重合体形成させる工程を含む、請求項6に記載の調製方法。
- 前記アルファ−オメガオレフィンが、式H2C =CH-A-CH=CH2(式中、Aは二価の有機基またはオルガノポリシロキサンである)を有する、請求項11に記載の調製方法。
- Aが、直鎖状または分岐状のC1〜C30のアルキレン鎖から選択される二価の有機基である、請求項12に記載の調製方法。
- 前記アルファ−オメガオレフィンが1,5-ヘキサジエンである、請求項13に記載の調製方法。
- 請求項6〜14のいずれか一項により調製されたシリコーンブロック共重合体。
- 請求項1または15に記載のシリコーンブロック共重合体を含む、パーソナルケア用、家庭ケア用、またはヘルスケア用の組成物。
- スティック、ゲル、またはローションの形態の、請求項16に記載のパーソナルケア用組成物。
- 請求項1または15に記載の組成物と、油とを含むゲル。
- 前記油が有機油またはシリコーン油である、請求項18に記載のゲル。
- 請求項1または15に記載の組成物を含むエマルション。
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