JP2008519449A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008519449A5
JP2008519449A5 JP2007539570A JP2007539570A JP2008519449A5 JP 2008519449 A5 JP2008519449 A5 JP 2008519449A5 JP 2007539570 A JP2007539570 A JP 2007539570A JP 2007539570 A JP2007539570 A JP 2007539570A JP 2008519449 A5 JP2008519449 A5 JP 2008519449A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aperture
beam modulator
row
cells
rows
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007539570A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4576432B2 (ja
JP2008519449A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102004052994A external-priority patent/DE102004052994C5/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2008519449A publication Critical patent/JP2008519449A/ja
Publication of JP2008519449A5 publication Critical patent/JP2008519449A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4576432B2 publication Critical patent/JP4576432B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (21)

  1. 集積されたアクティブなエレクトロニクスによって個々に制御される粒子ビームから複数の個々のビームを生成するマルチビームモジュレータであって、
    粒子ビームはマルチビームモジュレータを少なくとも部分的にその表面にわたって照明し、マルチビームモジュレータは複数の開口群を有し、それぞれの開口群は、全ての開口行の全体がm×nセルの行列を画定するように開口行群から形成され、多数の開口が、mセルからなるそれぞれの開口行に形成され、これらの開口は、開口行内でセルのサイズの倍数だけ間隔を置いて配置され、行内の開口の密度が不均質に分布するように分類されていることを特徴とするマルチビームモジュレータ。
  2. 行内の開口が一様に間隔を置いて配置され、セル内で測定される開口間の距離は行のセルの数と行内の開口の数の比より小さいことを特徴とする請求項1に記載のマルチビームモジュレータ。
  3. 行内の開口の数kが64〜512であることを特徴とする請求項2に記載のマルチビームモジュレータ。
  4. 行のセルの数mが4096であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  5. 3〜7のセルが行内の開口の間に設けられることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  6. セルは正方形の形を有し、ターゲット(6)上に書き込まれるべきピクセルに一致することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  7. 複数の開口行が組み合わさり開口行サブグループを形成し、複数の開口行サブグループが開口行群を形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  8. 6の開口行が組み合わさり開口行サブグループを形成することを特徴とする請求項7に記載のマルチビームモジュレータ。
  9. 開口行群が不均質にずれていることを特徴とする請求項8に記載のマルチビームモジュレータ。
  10. 複数の開口行群が組み合わさり開口群を形成し、開口プレートのチップ上に一様に配置されることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  11. 開口群が、開口による構造化が実行されていないウェブで分離されていることを特徴とする請求項10に記載のマルチビームモジュレータ。
  12. ウェブが平行であることを特徴とする請求項11に記載のマルチビームモジュレータ。
  13. 開口群が中心の回りに対称的に配置されることを特徴とする請求項10に記載のマルチビームモジュレータ。
  14. 制御可能な個々のビームを生成するためのアクティブなエレクトロニクスが、開口群を含んだ開口プレート上に構造化されることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載のマルチビームモジュレータ。
  15. 少なくとも1つの電子回路がデータを開口プレート上に形成されたシフトレジスタに供給することを特徴とする請求項14に記載のマルチビームモジュレータ。
  16. シフトレジスタチェーンがそれぞれの開口行と結合し、当該シフトレジスタチェーンは、セルからセルへの入力データの、全ての開口行の第1開口の開口から最終開口の開口への同期したシフトを行うことを特徴とする請求項15に記載のマルチビームモジュレータ。
  17. ビット幅1〜bのグレースケール情報が、シフトレジスタによりマルチビームモジュレータのモジュレータ要素に供給され、bは6ビット〜8ビットであることを特徴とする請求項16に記載のマルチビームモジュレータ。
  18. グレースケール情報からオン・オフ信号を得るために、開口当たりの開口行のシフトレジスタに加えて組み合わせ論理がさらに設けられることを特徴とする請求項17に記載のマルチビームモジュレータ。
  19. グレースケール情報からオン・オフ信号を得るために、開口当たりの開口行のシフトレジスタに加えて順序論理回路がさらに設けられることを特徴とする請求項17に記載のマルチビームモジュレータ。
  20. 順序論理回路をプログラミングするためにグレースケール情報のシフトレジスタが使用され、適切な「Config」信号ネットワークがさらに実施されることを特徴とする請求項19に記載のマルチビームモジュレータ。
  21. 集積されたアクティブなエレクトロニクスによって個々に制御される粒子ビームから複数の個々のビームを生成する、基板のマスクレス構造化のためのマルチビームモジュレータの使用方法であって、
    粒子ビームはマルチビームモジュレータを少なくとも部分的にその表面にわたって照明し、当該マルチビームモジュレータは、複数の開口群を有し、それぞれの開口群は、開口行の全体がm×nセルの行列を画定するように開口行群から形成され、多数の開口が、mセルからなるそれぞれの開口行に形成され、これらの開口は、開口行内でセルのサイズの倍数だけ間隔を置いて配置され、行内の開口の密度が不均質に分布するように分類されていることを特徴とするマルチビームモジュレータの使用方法。
JP2007539570A 2004-11-03 2005-10-25 粒子ビームのためのマルチビームモジュレータ及び基板のマスクレス構造化のためのマルチビームモジュレータの使用 Active JP4576432B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004052994A DE102004052994C5 (de) 2004-11-03 2004-11-03 Multistrahlmodulator für einen Partikelstrahl und Verwendung des Multistrahlmodulators zur maskenlosen Substratsstrukturierung
PCT/EP2005/055521 WO2006048391A1 (de) 2004-11-03 2005-10-25 Multistrahlmodulator für einen partikelstrahl und verwendung des multistrahlmodulators zur maskenlosen substratsstrukturierung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008519449A JP2008519449A (ja) 2008-06-05
JP2008519449A5 true JP2008519449A5 (ja) 2009-03-26
JP4576432B2 JP4576432B2 (ja) 2010-11-10

Family

ID=35747736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007539570A Active JP4576432B2 (ja) 2004-11-03 2005-10-25 粒子ビームのためのマルチビームモジュレータ及び基板のマスクレス構造化のためのマルチビームモジュレータの使用

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7741620B2 (ja)
EP (1) EP1812947B2 (ja)
JP (1) JP4576432B2 (ja)
DE (1) DE102004052994C5 (ja)
TW (1) TWI389161B (ja)
WO (1) WO2006048391A1 (ja)

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3671804A1 (en) * 2002-10-30 2020-06-24 ASML Netherlands B.V. Electron beam exposure system
NL2001369C2 (nl) * 2007-03-29 2010-06-14 Ims Nanofabrication Ag Werkwijze voor maskerloze deeltjesbundelbelichting.
US11792538B2 (en) 2008-05-20 2023-10-17 Adeia Imaging Llc Capturing and processing of images including occlusions focused on an image sensor by a lens stack array
EP4336447A1 (en) 2008-05-20 2024-03-13 FotoNation Limited Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers
US8866920B2 (en) 2008-05-20 2014-10-21 Pelican Imaging Corporation Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers
US9076914B2 (en) * 2009-04-08 2015-07-07 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Techniques for processing a substrate
US9006688B2 (en) * 2009-04-08 2015-04-14 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Techniques for processing a substrate using a mask
US8900982B2 (en) 2009-04-08 2014-12-02 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Techniques for processing a substrate
EP2251893B1 (en) * 2009-05-14 2014-10-29 IMS Nanofabrication AG Multi-beam deflector array means with bonded electrodes
WO2011063347A2 (en) 2009-11-20 2011-05-26 Pelican Imaging Corporation Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers
WO2011143501A1 (en) 2010-05-12 2011-11-17 Pelican Imaging Corporation Architectures for imager arrays and array cameras
US8878950B2 (en) 2010-12-14 2014-11-04 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for synthesizing high resolution images using super-resolution processes
WO2012155119A1 (en) 2011-05-11 2012-11-15 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for transmitting and receiving array camera image data
US20130265459A1 (en) 2011-06-28 2013-10-10 Pelican Imaging Corporation Optical arrangements for use with an array camera
WO2013043761A1 (en) 2011-09-19 2013-03-28 Pelican Imaging Corporation Determining depth from multiple views of a scene that include aliasing using hypothesized fusion
US8542933B2 (en) 2011-09-28 2013-09-24 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for decoding light field image files
WO2013126578A1 (en) 2012-02-21 2013-08-29 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for the manipulation of captured light field image data
US9210392B2 (en) 2012-05-01 2015-12-08 Pelican Imaging Coporation Camera modules patterned with pi filter groups
KR20150023907A (ko) 2012-06-28 2015-03-05 펠리칸 이매징 코포레이션 결함있는 카메라 어레이들, 광학 어레이들 및 센서들을 검출하기 위한 시스템들 및 방법들
US20140002674A1 (en) 2012-06-30 2014-01-02 Pelican Imaging Corporation Systems and Methods for Manufacturing Camera Modules Using Active Alignment of Lens Stack Arrays and Sensors
EP2888720B1 (en) 2012-08-21 2021-03-17 FotoNation Limited System and method for depth estimation from images captured using array cameras
EP2888698A4 (en) 2012-08-23 2016-06-29 Pelican Imaging Corp PROPERTY-BASED HIGH-RESOLUTION MOTION ESTIMATION FROM LOW-RESOLUTION IMAGES RECORDED WITH AN ARRAY SOURCE
EP2901671A4 (en) 2012-09-28 2016-08-24 Pelican Imaging Corp CREATING IMAGES FROM LIGHT FIELDS USING VIRTUAL POINTS OF VIEW
WO2014078443A1 (en) 2012-11-13 2014-05-22 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for array camera focal plane control
EP2757571B1 (en) * 2013-01-17 2017-09-20 IMS Nanofabrication AG High-voltage insulation device for charged-particle optical apparatus
WO2014130849A1 (en) 2013-02-21 2014-08-28 Pelican Imaging Corporation Generating compressed light field representation data
US9253380B2 (en) 2013-02-24 2016-02-02 Pelican Imaging Corporation Thin form factor computational array cameras and modular array cameras
WO2014138697A1 (en) 2013-03-08 2014-09-12 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for high dynamic range imaging using array cameras
US8866912B2 (en) 2013-03-10 2014-10-21 Pelican Imaging Corporation System and methods for calibration of an array camera using a single captured image
WO2014165244A1 (en) 2013-03-13 2014-10-09 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for synthesizing images from image data captured by an array camera using restricted depth of field depth maps in which depth estimation precision varies
US9888194B2 (en) 2013-03-13 2018-02-06 Fotonation Cayman Limited Array camera architecture implementing quantum film image sensors
US9124831B2 (en) 2013-03-13 2015-09-01 Pelican Imaging Corporation System and methods for calibration of an array camera
US9106784B2 (en) 2013-03-13 2015-08-11 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for controlling aliasing in images captured by an array camera for use in super-resolution processing
WO2014153098A1 (en) 2013-03-14 2014-09-25 Pelican Imaging Corporation Photmetric normalization in array cameras
US9578259B2 (en) 2013-03-14 2017-02-21 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for reducing motion blur in images or video in ultra low light with array cameras
WO2014145856A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for stereo imaging with camera arrays
US9445003B1 (en) 2013-03-15 2016-09-13 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for synthesizing high resolution images using image deconvolution based on motion and depth information
US9497429B2 (en) 2013-03-15 2016-11-15 Pelican Imaging Corporation Extended color processing on pelican array cameras
US9497370B2 (en) 2013-03-15 2016-11-15 Pelican Imaging Corporation Array camera architecture implementing quantum dot color filters
US10122993B2 (en) 2013-03-15 2018-11-06 Fotonation Limited Autofocus system for a conventional camera that uses depth information from an array camera
JP2015023286A (ja) 2013-07-17 2015-02-02 アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置
EP2830083B1 (en) 2013-07-25 2016-05-04 IMS Nanofabrication AG Method for charged-particle multi-beam exposure
WO2015048694A2 (en) 2013-09-27 2015-04-02 Pelican Imaging Corporation Systems and methods for depth-assisted perspective distortion correction
US9264592B2 (en) 2013-11-07 2016-02-16 Pelican Imaging Corporation Array camera modules incorporating independently aligned lens stacks
WO2015074078A1 (en) 2013-11-18 2015-05-21 Pelican Imaging Corporation Estimating depth from projected texture using camera arrays
US9426361B2 (en) 2013-11-26 2016-08-23 Pelican Imaging Corporation Array camera configurations incorporating multiple constituent array cameras
JP6190254B2 (ja) * 2013-12-04 2017-08-30 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
EP2913838B1 (en) * 2014-02-28 2018-09-19 IMS Nanofabrication GmbH Compensation of defective beamlets in a charged-particle multi-beam exposure tool
WO2015134996A1 (en) 2014-03-07 2015-09-11 Pelican Imaging Corporation System and methods for depth regularization and semiautomatic interactive matting using rgb-d images
EP2937888B1 (en) * 2014-04-25 2019-02-20 IMS Nanofabrication GmbH Multi-beam tool for cutting patterns
EP2937889B1 (en) 2014-04-25 2017-02-15 IMS Nanofabrication AG Multi-beam tool for cutting patterns
EP2950325B1 (en) 2014-05-30 2018-11-28 IMS Nanofabrication GmbH Compensation of dose inhomogeneity using overlapping exposure spots
JP6890373B2 (ja) 2014-07-10 2021-06-18 アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー 畳み込みカーネルを使用する粒子ビーム描画機における結像偏向の補償
US9568907B2 (en) 2014-09-05 2017-02-14 Ims Nanofabrication Ag Correction of short-range dislocations in a multi-beam writer
CN113256730B (zh) 2014-09-29 2023-09-05 快图有限公司 用于阵列相机的动态校准的系统和方法
JP6484431B2 (ja) * 2014-11-12 2019-03-13 株式会社アドバンテスト 荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法
US9653263B2 (en) 2015-03-17 2017-05-16 Ims Nanofabrication Ag Multi-beam writing of pattern areas of relaxed critical dimension
EP3096342B1 (en) 2015-03-18 2017-09-20 IMS Nanofabrication AG Bi-directional double-pass multi-beam writing
US9942474B2 (en) 2015-04-17 2018-04-10 Fotonation Cayman Limited Systems and methods for performing high speed video capture and depth estimation using array cameras
US10410831B2 (en) 2015-05-12 2019-09-10 Ims Nanofabrication Gmbh Multi-beam writing using inclined exposure stripes
US10325756B2 (en) 2016-06-13 2019-06-18 Ims Nanofabrication Gmbh Method for compensating pattern placement errors caused by variation of pattern exposure density in a multi-beam writer
JP6720861B2 (ja) * 2016-12-28 2020-07-08 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチビーム用アパーチャセット及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
US10325757B2 (en) 2017-01-27 2019-06-18 Ims Nanofabrication Gmbh Advanced dose-level quantization of multibeam-writers
JP6951123B2 (ja) * 2017-05-23 2021-10-20 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP6957998B2 (ja) * 2017-06-07 2021-11-02 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法
US10482618B2 (en) 2017-08-21 2019-11-19 Fotonation Limited Systems and methods for hybrid depth regularization
US10522329B2 (en) 2017-08-25 2019-12-31 Ims Nanofabrication Gmbh Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus
US11569064B2 (en) 2017-09-18 2023-01-31 Ims Nanofabrication Gmbh Method for irradiating a target using restricted placement grids
US10651010B2 (en) 2018-01-09 2020-05-12 Ims Nanofabrication Gmbh Non-linear dose- and blur-dependent edge placement correction
US10840054B2 (en) 2018-01-30 2020-11-17 Ims Nanofabrication Gmbh Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering
US11099482B2 (en) 2019-05-03 2021-08-24 Ims Nanofabrication Gmbh Adapting the duration of exposure slots in multi-beam writers
MX2022003020A (es) 2019-09-17 2022-06-14 Boston Polarimetrics Inc Sistemas y metodos para modelado de superficie usando se?ales de polarizacion.
EP4042101A4 (en) 2019-10-07 2023-11-22 Boston Polarimetrics, Inc. SYSTEMS AND METHODS FOR DETECTING SURFACE NORMALS USING POLARIZATION
JP7329143B2 (ja) 2019-11-30 2023-08-17 ボストン ポーラリメトリックス,インコーポレイティド 偏光キューを用いた透明な物体のセグメンテーションのためのシステム及び方法
US11195303B2 (en) 2020-01-29 2021-12-07 Boston Polarimetrics, Inc. Systems and methods for characterizing object pose detection and measurement systems
CN115428028A (zh) 2020-01-30 2022-12-02 因思创新有限责任公司 用于合成用于在包括偏振图像的不同成像模态下训练统计模型的数据的系统和方法
KR20210132599A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 대전 입자 소스
US11953700B2 (en) 2020-05-27 2024-04-09 Intrinsic Innovation Llc Multi-aperture polarization optical systems using beam splitters
US11954886B2 (en) 2021-04-15 2024-04-09 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for six-degree of freedom pose estimation of deformable objects
US11290658B1 (en) 2021-04-15 2022-03-29 Boston Polarimetrics, Inc. Systems and methods for camera exposure control
US11689813B2 (en) 2021-07-01 2023-06-27 Intrinsic Innovation Llc Systems and methods for high dynamic range imaging using crossed polarizers

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2460716C2 (de) * 1974-12-19 1976-12-30 Siemens Ag Korpuskularstrahloptisches geraet zur korpuskelbestrahlung eines praeparats
CA1100237A (en) * 1977-03-23 1981-04-28 Roger F.W. Pease Multiple electron beam exposure system
US4892408A (en) * 1988-03-03 1990-01-09 Grumman Aerospace Corporation Reference input patterns for evaluation and alignment of an optical matched filter correlator
US5144142A (en) * 1989-05-19 1992-09-01 Fujitsu Limited Blanking aperture array, method for producing blanking aperture array, charged particle beam exposure apparatus and charged particle beam exposure method
JP3121098B2 (ja) * 1992-03-17 2000-12-25 富士通株式会社 荷電粒子ビーム露光の方法と装置
US6714625B1 (en) * 1992-04-08 2004-03-30 Elm Technology Corporation Lithography device for semiconductor circuit pattern generation
JP3194541B2 (ja) 1992-07-24 2001-07-30 富士通株式会社 電子ビーム露光装置
US5369282A (en) * 1992-08-03 1994-11-29 Fujitsu Limited Electron beam exposure method and system for exposing a pattern on a substrate with an improved accuracy and throughput
JP3206143B2 (ja) 1992-10-20 2001-09-04 富士通株式会社 荷電粒子ビーム露光方法
US5849437A (en) * 1994-03-25 1998-12-15 Fujitsu Limited Electron beam exposure mask and method of manufacturing the same and electron beam exposure method
DE4446943A1 (de) * 1994-12-28 1996-07-04 Cassella Ag Verfahren zum Färben von Polyester und polyesterhaltigen Textilmaterialien
US5841145A (en) * 1995-03-03 1998-11-24 Fujitsu Limited Method of and system for exposing pattern on object by charged particle beam
JP3647136B2 (ja) * 1996-04-23 2005-05-11 キヤノン株式会社 電子ビーム露光装置
JP4018197B2 (ja) * 1997-07-02 2007-12-05 キヤノン株式会社 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置
US6274877B1 (en) 1997-05-08 2001-08-14 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam exposure apparatus
US6014200A (en) * 1998-02-24 2000-01-11 Nikon Corporation High throughput electron beam lithography system
US6486480B1 (en) * 1998-04-10 2002-11-26 The Regents Of The University Of California Plasma formed ion beam projection lithography system
US6989546B2 (en) * 1998-08-19 2006-01-24 Ims-Innenmikrofabrikations Systeme Gmbh Particle multibeam lithography
WO2001075950A1 (fr) * 2000-04-04 2001-10-11 Advantest Corporation Appareil d'exposition multifaisceau comprenant une lentille electronique multiaxe, procede de fabrication de ladite lentille, et procede de fabrication d'un dispositif a semi-conducteur
JP2002118060A (ja) * 2000-07-27 2002-04-19 Toshiba Corp 荷電ビーム露光装置、荷電ビーム露光方法、露光データ作成方法、露光データを作成するプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体、及び、露光データを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体
US6768125B2 (en) * 2002-01-17 2004-07-27 Ims Nanofabrication, Gmbh Maskless particle-beam system for exposing a pattern on a substrate
GB2408143B (en) * 2003-10-20 2006-11-15 Ims Nanofabrication Gmbh Charged-particle multi-beam exposure apparatus
GB2414111B (en) * 2004-04-30 2010-01-27 Ims Nanofabrication Gmbh Advanced pattern definition for particle-beam processing
JP4737968B2 (ja) * 2004-10-13 2011-08-03 株式会社東芝 補正装置、補正方法、補正プログラム及び半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008519449A5 (ja)
TW200616001A (en) Multi-beam modulator for a particle beam and application of the multi-beam modulator for the structurization of maskless substrates
CN104781870B (zh) 有源矩阵显示器的数字驱动
US10658591B2 (en) Method for producing deposition mask
TWI318407B (en) Cubic memory array, method of creating a memory circuit, and circuit including a memory device
CN105242436A (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示装置
US10854129B2 (en) Hybrid architecture for zero border display
KR20060031367A (ko) 디지털/아날로그 컨버터와 이를 이용한 표시 장치 및 그표시 패널과 구동 방법
JP2014504401A (ja) ニューロモルフィックアーキテクチャを有する電子回路
JP2006019436A5 (ja)
JP2018508737A5 (ja)
ATE369629T1 (de) Kapselungsstruktur für abbildungsdetektoren
TW200702864A (en) Array substrate and display device having the same
WO2020011285A3 (zh) 图像传感器的半导体结构、芯片及电子装置
GB2606876A (en) System and method using multilayer qubit lattice arrays for quantum computing
JP2002334933A5 (ja)
Abutaleb A novel QCA shuffle-exchange network architecture with multicast and broadcast communication capabilities
CN112470265A (zh) 包括led传送装置的电子装置及其控制方法
CN215341800U (zh) 一种高密度小间距led透声屏
KR101660872B1 (ko) 멀티 하전 입자빔의 블랭킹 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법
GB2308734A (en) semiconductor memory device
WO2007130095A3 (en) Single layer construction for ultra small devices
EP1564746A3 (en) Image memory architecture for achieving high speed access
JP2007523370A5 (ja)
JP2001088345A (ja) 光プリントヘッド