JP2008515901A - アルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を含むヘアコンディショニング組成物 - Google Patents
アルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を含むヘアコンディショニング組成物 Download PDFInfo
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Abstract
Description
(a)約0.1重量%〜約10重量%のカチオン性界面活性剤;
(b)該組成物の約2.5重量%〜約15重量%の高融点脂肪化合物、及び
(c)水性キャリア
を含み、
この際、該カチオン性界面活性剤、該高融点脂肪化合物及び該水性キャリアが、層状ゲルマトリックスを形成し、該ラメラ層のd−空隙部が、33nm以下の範囲内にあり、且つ該組成物が26.7℃にて、約30Pa以上の降伏応力を有する。
本発明は、次のものを含むヘアコンディショニング組成物であって:
(a)約0.1重量%〜約10重量%のカチオン性界面活性剤;
(b)該組成物の約2.5重量%〜約15重量%の高融点脂肪化合物組成物;及び
(c)水性キャリア
を含み、
この際、該カチオン性界面活性剤、該高融点脂肪化合物及び該水性キャリアが、層状ゲルマトリックスを形成し、該ラメラ層のd−空隙部が、33nm以下の範囲内にあり、且つ該組成物が26.7℃にて、約30Pa以上の降伏応力を有する。
本発明の組成物は、層状ゲルマトリックス、特に、より稠密な層状ゲルマトリックスを含むゲルマトリックスを含む。前記ゲルマトリックスは、カチオン性界面活性剤、高融点脂肪化合物、及び水性キャリアを含む。前記ゲルマトリックスは、各種コンディショニング効果、例えば、濡れた毛髪へ適用する際のつるつる感及び乾燥した毛髪へのソフト感及びしっとり感を提供するのに適している。前記ゲルマトリックスのうち、層状ゲルマトリックスは、改良された濡れた毛髪へ適用する際のつるつる感を提供することができる。前記層状ゲルマトリックスのうち、より稠密な層状ゲルマトリックスは、改良された濡れた毛髪へ適用する際のつるつる感を提供することができる。
D−空隙部=d水+d二重層
に従って定義される。
nλ2dsin(θ)(式中、nはラメラ二重膜の数)
に従って計算される。
本発明の組成物は、カチオン性界面活性剤を含む。各種カチオン性界面活性剤のうち、好ましいものは次の:(i)モノ長アルキル四級化アンモニウム及びアニオン(該アニオンは、C1〜C4アルキルサルフェート、例えば、メトサルフェート及びエトサルフェート、及びこれらの混合物から成る群から選択される)の塩;並びに(ii)アルキルジ四級化アンモニウム塩である。前記カチオン性界面活性剤は、前記組成物中に約0.1重量%〜約10重量%の濃度で含まれる。モノ長アルキル四級化アンモニウム塩をカチオン性界面活性剤として含む場合、前記モノ長アルキル四級化アンモニウム塩は、改良されたウェットコンディショニング効果の観点から、好ましくは約1重量%〜約8重量%、より好ましくは約2重量%〜約5重量%の濃度で含まれる。アルキルジ四級化アンモニウム塩をカチオン性界面活性剤として含む場合、前記アルキルジ四級化アンモニウム塩は、改良されたウェットコンディショニング効果、特に洗い流す用途の観点から、好ましくは約0.5重量%〜約5重量%、より好ましくは約0.8重量%〜約3重量%の濃度で含まれる。
本発明の好ましいカチオン性界面活性剤の1つは、モノ長アルキル四級化アンモニウム及びアニオン(該アニオンは、C1〜C4アルキルサルフェート、例えば、メトサルフェート及びエトサルフェート、及びこれらの混合物から成る群から選択される)の塩である。意外にも、他のアニオン類、例えば、クロライドと比較して、より大きなイオン結合力を有する選択されたアニオン類を使用することにより、カチオン性界面活性剤の水和半径は減少し、このような水和半径の減少によって、より稠密な層状ゲルマトリックスになる、即ち、あるラメラ二重層ともう1つのラメラ二重層の間の距離が減少するということが判明されている。
本発明において好ましい他のカチオン性界面活性剤は、アルキルジ四級化アンモニウム塩である。本明細書で有用なアルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤は、2個の四級窒素原子を有するものである。意外にも、2個の四級窒素原子を有することにより、他のカチオン性界面活性剤例えば、ベヘントリメチルアンモニウムクロライド及びステアリルアミドプロピルジメチルアミンと比較して、前記アルキルジ四級化アンモニウム塩がより稠密な層状ゲルマトリックスになる、即ち、あるラメラ相と別のラメラ相の間の距離が減少するということが判明されている。
(A1)
(A2)
本明細書に有用な高融点脂肪化合物は25℃以上の融点を有し、脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族アルコール誘導体、脂肪酸誘導体及びこれらの混合物から成る群から選択される。当業者は、本明細書のこの項に開示されている化合物が、場合によっては2つ以上の分類に属することができる(例えば、いくつかの脂肪族アルコール誘導体類が脂肪酸誘導体類として分類されることもあり得る)ことを理解している。しかしながら、示されている分類は、その特定の化合物に対する限定であるように意図するのではなく、分類及び命名法の便宜上そのようにしている。更に、当業者は、二重結合の数と位置、及び分枝の長さと位置によっては、特定の必要とされる炭素原子を有する特定の化合物が25℃未満の融点を有することがあることを理解している。そのような低融点の化合物はこの項に含まれないものとする。高融点化合物の非限定的な例は、国際化粧品成分辞典(International Cosmetic Ingredient Dictionary)、第5版、1993年、及びCTFA化粧品成分ハンドブック(Cosmetic Ingredient Handbook)、第2版、1992年に記載されている。
本発明のコンディショニング組成物は水性キャリアを含む。このキャリアの濃度と種は、他の成分との適合性及び当該製品の他の所望の特性により選択される。
好ましくは、本発明の組成物は好ましくはシリコーン化合物を含有する。シリコーン化合物は、乾燥した毛髪に滑らかさ及び柔らかさを提供することができると考えられる。本明細書のシリコーン化合物は、好ましくは組成物の約0.1重量%〜約20重量%、より好ましくは約0.5重量%〜約10重量%、更により好ましくは約1重量%〜約8重量%の濃度で使用され得る。
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−O−SiG3-a(R1)a
(式中、Gは、水素、フェニル、ヒドロキシ、又はC1〜C8アルキル、好ましくは、メチル;aは、0又は1〜3の値を有する整数、好ましくは、1;bは、0、1又は2、好ましくは、1;nは、0〜1,999の数;mは、0〜1,999の整数;n及びmの合計は、1〜2,000の数;aとmとが、両方共に0ではない;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、2〜8の値を有する整数であり、Lは以下の基から選択される:−N(R2)CH2−CH2−N(R2)2;−N(R2)2;−N(R2)3A-;−N(R2)CH2−CH2−NR2H2 A-;式中、R2は、水素、フェニル、ベンジル、又は飽和炭化水素ラジカル、好ましくは約C1〜約C20のアルキルラジカル;A~は、ハロゲン化物イオン)を有するアミノシリコーンである。
本発明の前記組成物は、他の追加的な成分を包含してもよく、それは最終的な製品の所望の特性に照らして当業者により選択されてもよく、またそれは前記組成物をより美容的又は審美的に許容可能なものにするかあるいは付加的な使用効果を前記組成物に提供するのに好適なものである。このような他の追加的な成分は、一般に、前記組成物の約0.001重量%〜約10重量%、好ましくは約5重量%までの濃度で個々に使用される。
本明細書で有用な低融点オイル類は、25℃未満の融点を有するものである。本明細書で有用な低融点オイルは、炭素原子数10〜約40の炭化水素;オレイルアルコールのような炭素原子数約10〜約30の不飽和脂肪族アルコール類;炭素原子数約10〜約30の不飽和脂肪酸類;脂肪酸誘導体類;脂肪族アルコール誘導体類;ペンタエリスリトールエステル油類、トリメチロールエステル油類、クエン酸エステル油類及びグリセリルエステル油類のようなエステル油類;ポリα−オレフィン油類;並びにこれらの混合物から成る群より選択される。本明細書における好ましい低融点オイル類は、ペンタエリスリトールエステル油類、トリメチロールエステル油類、クエン酸エステル油類及びグリセリルエステル油類のようなエステル油類;ポリα−オレフィン油類;ならびにこれらの混合物から成る群より選択される。
本発明のコンディショニング組成物は、リンスオフ製品又はリーブオン製品の形態であることができ、これらに制限されないが、クリーム、ジェル、エマルション、ムース及びスプレーを包含する多種多様な製品形態で配合されることができる。本発明のコンディショニング組成物は、リンスオフヘアーコンディショナーに特に好適である。
*1 ジメチコンブレンド:GE東芝(GE Toshiba)から入手可能な18,000,000mPa.sの粘度を有するジメチコンと200mPa.sの粘度を有するジメチコンとのブレンド
*2 ジメチコン/シクロメチコン:GE東芝(GE Toshiba)から入手可能な18,000,000mPa.sの粘度を有するジメチコンとシクロペンタシロキサンとのブレンド
*3 アミノシリコーン−1:GEから入手可能、10,000mPa.sの粘度を有し、次の式(I):
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−0−SiG3-a(R1)a(I)
(式中、Gはメチル;aは、1の整数;bは、0、1又は2、好ましくは、1;nは、400〜約600の数;mは、0の整数;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、3の整数であり、Lは、−NH2である)を有する。
*4 アミノシリコーン−2:GE社より、商品名BX3083−1にて入手可能であり、220,000〜245,000mPa.sの範囲の粘度を有し、次の式(I):
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−0−SiG3-a(R1)a(I)
(式中、Gはメチル;aは、1の整数;bは、0、1又は2、好ましくは、1;nは、1500〜約1700の数;mは、0の整数;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、3の整数であり、Lは、−NH2である)を有する。
*5 新日本石油化学株式会社(NISSEKI)から入手可能なイソソル(Isosol)400
*6 カトンCG:ローム&ハース社(Rohm & Haas)から入手可能
*1 アルキルジ四級化アンモニウム塩−1:東邦化学工業株式会社(Toho Kagaku K.K.)から入手可能なヒドロキシプロピル−ビス−ステアリル−N,N−ジメチルアンモニウムクロライド
*2 アルキルジ四級化アンモニウム塩−2:東邦化学工業株式会社(Toho Kagaku K.K.)から入手可能なヒドロキシプロピル−ビス−ラウリル−N,N−ジメチルアンモニウムクロライド
*3 アルキルジ四級化アンモニウム塩−3:東邦化学工業株式会社(Toho Kagaku K.K.)から入手可能なヒドロキシプロピル−ビス−ステアラミドプロピル−N,N−ジメチルアンモニウムクロライド
*4 アルキルジ四級化アンモニウム塩−4:東邦化学工業株式会社(Toho Kagaku K.K.)から入手可能なヒドロキシプロピル−ビス−ベヘニル−N,N−ジメチルアンモニウムクロライド
*5 シリコーン化合物−1:ジメチコン/シクロメチコン:GE東芝(GE Toshiba)から入手可能な18,000,000mPa.sの粘度を有するジメチコンとシクロペンタシロキサンとのブレンド
*6 シリコーン化合物−2:ジメチコンブレンド:GE東芝(GE Toshiba)から入手可能な18,000,000mPa.sの粘度を有するジメチコンと200mPa.sの粘度を有するジメチコンとのブレンド
*7 シリコーン化合物−3:GE社より、商品名BX3083−1にて入手可能であり、220,000〜245,000mPa.sの範囲の粘度を有し、次の式(I):
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−0−SiG3-a(R1)a(I)
(式中、Gはメチル;aは、1の整数;bは、0、1又は2、好ましくは、1;nは、1500〜約1700の数;mは、0の整数;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、3の整数であり、Lは、−N(CH3)2である)を有する末端アミノシリコーン
*8 シリコーン化合物−4:GEから入手可能、10,000mPa.sの粘度を有し、次の式(I)する:
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−0−SiG3-a(R1)a(I)
(式中、Gはメチル;aは、1の整数;bは、0、1又は2、好ましくは、1;nは、400〜約600の数;mは、0の整数;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、3の整数であり、Lは、−N(CH3)2である)を有する。
*9 新日本石油化学株式会社(NISSEKI)から入手可能なイソソル(Isosol)400
*10 メチルクロロイソチアゾリノン/メチルイソチアゾリノン:ローム&ハース社(Rohm & Haas)から入手可能なカトン(Kathon)CG
上記で示した「実施例1」〜「実施例18」のコンディショニング組成物は、当該技術分野において周知の従来のいかなる方法によっても調製できる。これらは、次のようにして好適に調製される。
Claims (22)
- ヘアコンディショニング組成物であって:
(a)約0.1重量%〜約10重量%のカチオン性界面活性剤、
(b)該組成物の約2.5重量%〜約15重量%の高融点脂肪化合物、及び
(c)水性キャリア
を含み、この際、該カチオン性界面活性剤、該高融点脂肪化合物及び該水性キャリアが、層状ゲルマトリックスを形成し、該ラメラ層のd−空隙部が、33nm以下の範囲内にあり、且つ該組成物が26.7℃にて、約30Pa以上の降伏応力を有する、ヘアコンディショニング組成物。 - 前記d−空隙部が、31nm以下である、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記d−空隙部が、28nm以下である、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、約30Pa〜約90Paの降伏応力を有する、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、約35Pa〜約85Paの降伏応力を有する、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、約40Pa〜約80Paの降伏応力を有する、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、約40Pa〜約70Paの降伏応力を有する、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記カチオン性界面活性剤が、モノ長アルキル四級化アンモニウム及びアニオン(該アニオンは、C1〜C4アルキルサルフェートから成る群から選択される)の塩及びこれらの混合物である、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- モノ長アルキル四級化アンモニウム及びアニオンの前記塩が、式(I):
- 前記カチオン性界面活性剤が、次の:
(A1)
(A2)
これらの混合物
からなる群から選択されるアルキルジ四級化アンモニウム塩である、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。 - 前記アルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤が、前記式(A1)を有するものから選択される、請求項10に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記アルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤が、前記式(A1)(式中、R4は、−OHで官能化されたC2〜8アルキレンを表す)を有するものから選択される、請求項10に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記アルキルジ四級化アンモニウム塩カチオン性界面活性剤が、前記式(A2)を有するものから選択される、請求項10に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、請求項6及び8に記載のもの以外のカチオン性界面活性剤を実質的に含まない、請求項8及び10に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記組成物が、アニオン性界面活性剤及びアニオン性ポリマーを実質的に含まない、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記カチオン性界面活性剤及び前記高融点脂肪化合物の重量比が、約1:1〜約1:4の範囲内である、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記カチオン性界面活性剤及び前記高融点脂肪化合物の総計が、7.5%以上の濃度で前記組成物中に存在する、請求項8に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 約0.1%〜約20%のシリコーン化合物を更に含む、請求項1に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記シリコーン化合物が、次の一般式:
(R1)aG3-a−Si−(−OSiG2)n−(−OSiGb(R1)2-b)m−O−SiG3-a(R1)a
(式中、Gは、水素、フェニル、ヒドロキシ、又はC1〜C8アルキル;aは、0又は1〜3の値を有する整数;nは、0〜1,999の数;mは、0〜1,999の整数;n及びmの合計は、1〜2,000の数;aとmとが、両方共に0ではない;R1は、一般式CqH2qLに従う一価のラジカルであり、式中、qは、2〜8の値を有する整数であり、Lは、以下の基から選択される:−N(R2)CH2−CH2−N(R2)2;−N(R2)2;−N(R2)3A-;−N(R2)CH2−CH2−NR2H2A-;式中、R2は、水素、フェニル、ベンジル又は飽和炭化水素ラジカル;A-は、ハロゲン化物イオン)を有するアミノシリコーンである、請求項18に記載のヘアコンディショニング組成物。 - 前記アミノシリコーンが、非極性、揮発性炭化水素類、揮発性環状シリコーン類、不揮発性線状シリコーン類及びこれらの混合物から成る群から選択される低粘度を有する溶媒と混合される、請求項19に記載のヘアコンディショニング組成物。
- 前記シリコーン化合物が、(i)25℃にて、約100,000mPa.s〜約30,
000,000mPa.sの粘度を有する第一シリコーンと、(ii)25℃にて、約5
mPa.s〜約10,000mPa.sの粘度を有する第二シリコーンとの混合物である、請求項18に記載のヘアコンディショニング組成物。 - (i)毛髪をシャンプーした後、該毛髪をコンディショニングするため、請求項1に記載のコンディショニング組成物の有効量を該毛髪に適用する工程;及び
(ii)その後、該毛髪をすすぐ工程
を含む、毛髪をコンディショニングする方法。
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