JP2008514364A5 - - Google Patents

Claims (64)

1. 第１および第２の光学素子を備えた眼内レンズの射出成形装置であって、
   ａ）前記第１の光学素子を形成するための第１の光学素子形成用キャビティと、
   ｂ）前記第２の光学素子を形成するための第２の光学素子形成用キャビティと、
   ｃ）前記第１の光学素子形成用キャビティに流体を伝達可能に連通している第１のサブ・ランナと、
   ｄ）前記第２の光学素子形成用キャビティに流体を伝達可能に連通している第２のサブ・ランナと、
   を備えていることを特徴とする射出成形装置。
2. 主ランナを備え、該主ランナから前記第１および第２のサブ・ランナが分岐して前記第１および第２の光学素子形成用キャビティにそれぞれ延びていることを特徴とする請求項１記載の装置。
3. 前記第１および第２のサブ・ランナがほぼ円形の断面形状を有することを特徴とする請求項１記載の装置。
4. 前記主ランナがほぼ円形の断面形状を有することを特徴とする請求項３記載の装置。
5. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティ間に延びかつ該第１および第２の光学素子形成用ャビティに流体を伝達可能に連通している１個以上のハプティック部材形成用キャビティをさらに備え、該１個以上のハプティック部材形成用キャビティは、前記第１および第２の光学素子間に延びかつ該第１および第２の光学素子にそれぞれ連結された１個以上のハプティック部材をそれぞれ形成するためのものであることを特徴とする請求項１記載の装置。
6. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティの一部をそれぞれ画成する第１および第２の光学素子形成用表面を有する１個の成形型インサートをさらに備えていることを特徴とする請求項１記載の装置。
7. 前記成形型インサートが取り付けられた１個のハンドルをさらに備え、これにより、成形サイクルの間、前記射出成形装置に対する前記成形型インサートの取付け・取外しを交互に行なうのに前記ハンドルが利用されることを特徴とする請求項６記載の装置。
8. １個の光学素子形成用表面をそれぞれ備えた第１および第２のキャビティブロックをさらに備え、該第１および第２のキャビティブロックの前記光学素子形成用表面ならびに前記成形型インサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面が共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項６記載の装置。
9. 前記第１および第２のサブ・ランナがほぼ水平に延びていることを特徴とする請求項１記載の装置。
10. 前記主ランナがほぼ水平に延びていることを特徴とする請求項９記載の装置。
11. 前記第１および第２のサブ・ランナを通じて液体レンズ材料がほぼ同時に射出されることを特徴とする請求項１記載の装置。
12. 第１および第２の射出ゲートが、前記第１の光学素子形成用キャビティと前記第１のサブ・ランナとの接合点および前記第２の光学素子形成用キャビティと前記第２のサブ・ランナとの接合点にそれぞれ画成され、前記第１および第２の射出ゲートは、前記第１および第２の光学素子形成用キャビティ内に向かってそれぞれ先細になっていることを特徴とする請求項１記載の装置。
13. 前記先細の角度が約５度と２５度の間であることを特徴とする請求項１２記載の装置。
14. 前記先細の角度が約１０度と２０度の間であることを特徴とする請求項１２記載の装置。
15. 前記先細の角度が約１５度であることを特徴とする請求項１２記載の装置。
16. 前記第１の光学素子形成用キャビティが正レンズを形成する形状を有し、前記第２の光学素子形成用キャビティが負レンズを形成する形状を有することを特徴とする請求項１記載の装置。
17. 前記第１の光学素子形成用キャビティが前記第２の光学素子形成用キャビティの下方に位置付けられていることを特徴とする請求項１６記載の装置。
18. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティの一部をそれぞれ画成する第１および第２の光学素子形成用表面を有する１個の成形型インサートをさらに備えていることを特徴とする請求項１７記載の装置。
19. 前記成形型インサートが取り付けられた１個のハンドルをさらに備え、これにより成形サイクルの間、前記射出成形装置に対する前記取付け・取外しを交互に行なうのに前記ハンドルが利用されることを特徴とする請求項１８記載の装置。
20. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティは、第１および第２のツールインサート上にそれぞれ画成された第１及び第２の光学素子形成用表面によって一部が形成されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
21. 前記第１および第２のツールインサートがそれぞれ取外し可能に取り付けられた第１および第２のキャビティブロックをさらに備えていることを特徴とする請求項２０記載の装置。
22. 第１および第２の光学素子形成用表面を備えた１個の成形型インサートをさらに備え、該第１および第２の光学素子形成用表面が前記第１および第２のツールインサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面と共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項２１記載の装置。
23. 前記成形型インサートは、第１および第２のキャビティブロックの間に取外し可能に取り付けられることを特徴とする請求項２２記載の装置。
24. 前記第１および第２のキャビティブロックの間に、前記第１および第２の光学素子形成用表面の半径方向外方に形成された少なくとも一つのハプティック部材形成用キャビティをさらに備えていることを特徴とする請求項２１記載の装置。
25. 第１および第２の光学素子形成用表面を備えた１個の成形型インサートをさらに備え、該第１および第２の光学素子形成用表面が前記第１および第２のツールインサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面と共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項２４記載の装置。
26. 前記ハプティック部材形成用キャビティは、前記成形型インサートによって一部が画成されていることを特徴とする請求項２５記載の装置。
27. 前記成形型インサートは、前記ハプティック部材形成用キャビティの少なくとも一部を画成する１個の環状表面を備えていることを特徴とする請求項２５記載の装置。
28. 前記成形型インサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面が、前記環状表面により囲まれた１個のツールインサート上に形成されていることを特徴とする請求項２７記載の装置。
29. 前記成形型インサートの前記ツールインサートが前記環状表面に接着固定されていることを特徴とする請求項２８記載の装置。
30. 前記環状表面が透孔を備え、前記ツールインサートを前記環状表面に固定するための接着剤が前記透孔を通じて注入されることを特徴とする請求項２９記載の装置。
31. 前記成形型インサートに固定されたハンドルをさらに備えていることを特徴とする請求項３０記載の装置。
32. 前記第１および第２のキャビティブロック内に形成された第１および第２の溝をさらに備え、前記第１および第２のキャビティブロックが当接関係に配置された場合に前記ハンドルが前記第１および第２の溝内に存在することを特徴とする請求項３１記載の装置。
33. 第１および第２の光学素子を備えた眼内レンズの射出成形方法であって、
    ａ）前記第１の光学素子を形成するための第１の光学素子形成用キャビティを提供し、
    ｂ）前記第２の光学素子を形成するための第２の光学素子形成用キャビティを提供し、
    ｃ）前記第１の光学素子形成用キャビティに流体を伝達可能に連通する第１のランナを提供し、
    ｄ）前記第２の光学素子形成用キャビティに流体を伝達可能に連通する第２のランナを提供する、
    諸ステップを含むことを特徴とする射出成形方法。
34. 主ランナを提供するステップをさらに含み、該主ランナから前記第１および第２のランナが分岐して前記第１および第２の光学素子形成用キャビティにそれぞれ延びていることを特徴とする請求項３３記載の方法。
35. 前記第１および第２のランナがほぼ円形の断面形状を有することを特徴とする請求項３３記載の方法。
36. 前記主ランナがほぼ円形の断面形状を有することを特徴とする請求項３５記載の方法。
37. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティ間に延びかつ該第１および第２の光学素子形成用キャビティに流体を伝達可能に連通する１個以上のハプティック部材形成用キャビティを提供するステップをさらに含み、該１個以上のハプティック部材形成用キャビティは、前記第１および第２の光学素子間に延びかつ該第１および第２の光学素子にそれぞれ連結された１個以上のハプティック部材を形成するためのものであることを特徴とする請求項３６記載の方法。
38. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティの一部をそれぞれ画成する第１および第２の光学素子形成用表面を有する１個の成形型インサートを提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項３３記載の方法。
39. 前記成形型インサートが取り付けられた１個のハンドルを提供するステップをさらに含み、これにより成形サイクルの間、射出成形装置に対する前記取付け・取外しを交互に行なうのに前記ハンドルが用いられることを特徴とする請求項３８記載の方法。
40. １個の光学素子形成用表面をそれぞれ備えた第１および第２のキャビティブロックを提供するステップをさらに含み、該第１および第２のキャビティブロックの前記光学素子形成用表面ならびに前記成形型インサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面が共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項３８記載の方法。
41. 前記第１および第２のランナがほぼ水平に延びていることを特徴とする請求項３３記載の方法。
42. 前記主ランナナがほぼ水平に延びていることを特徴とする請求項４１記載の方法。
43. 前記第１および第２のランナを通じて液体レンズ材料がほぼ同時に射出されることを特徴とする請求項３３記載の方法。
44. 第１および第２の射出ゲートが、前記第１の光学素子形成用キャビティと前記第１のランナとの接合点および前記第２の光学素子形成用キャビティと前記第２のランナとの接合点にそれぞれ画成され、前記第１および第２の射出ゲートは、前記第１および第２の光学素子形成用キャビティ内に向かってそれぞれ先細になっていることを特徴とする請求項３３記載の方法。
45. 前記先細の角度が約５度と２５度の間であることを特徴とする請求項４４記載の方法。
46. 前記先細の角度が約１０度と２０度の間であることを特徴とする請求項４４記載の方法。
47. 前記先細の角度が約１５度であることを特徴とする請求項４４記載の方法。
48. 前記第１の光学素子形成用キャビティが正レンズを形成する形状を有し、前記第２の光学素子形成用キャビティが負レンズを形成する形状を有することを特徴とする請求項３３記載の方法。
49. 前記第１の光学素子形成用キャビティが前記第２の光学素子形成用キャビティの下方に位置付けられることを特徴とする請求項４８記載の方法。
50. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティの一部をそれぞれ画成する第１および第２の光学素子形成用表面を有する１個の成形型インサートを提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項４９記載の方法。
51. 前記成形型インサートが取り付けられた１個のハンドルを提供するステップをさらに含み、これにより成形サイクルの間、射出成形装置に対する前記取付け・取外しを交互に行なうのに前記ハンドルが利用されることを特徴とする請求項５０記載の方法。
52. 前記第１および第２の光学素子形成用キャビティは、第１および第２のツールインサート上に画成された第１及び第２の光学素子形成用表面によって一部が形成されていることを特徴とする請求項３３記載の方法。
53. 前記第１および第２のツールインサートがそれぞれ取外し可能に取り付けられた第１および第２のキャビティブロックを提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５２記載の方法。
54. 第１および第２の光学素子形成用表面を備えた１個の成形型インサートを提供するステップをさらに含み、該第１および第２の光学素子形成用表面が前記第１および第２のツールインサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面と共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項５３記載の方法。
55. 前記成形型インサートは、第１および第２のキャビティブロックの間に取外し可能に取り付けられることを特徴とする請求項５４記載の方法。
56. 前記第１および第２のキャビティブロックの間に、前記第１および第２の光学素子形成用表面の半径方向外方に形成された少なくとも一つのハプティック部材形成用キャビティを提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５４記載の方法。
57. 第１および第２の光学素子形成用表面を備えた１個の成形型インサートを提供するステップをさらに含み、該第１および第２の光学素子形成用表面が前記第１および第２のツールインサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面と共に前記第１および第２の光学素子形成用キャビティをそれぞれ画成することを特徴とする請求項５６記載の方法。
58. 前記ハプティック部材形成用キャビティは、前記成形型インサートによって一部が画成されていることを特徴とする請求項５７記載の方法。
59. 前記成形型インサートは、前記ハプティック部材形成用キャビティの少なくとも一部を画成する１個の環状表面を備えていることを特徴とする請求項５７記載の方法。
60. 前記成形型インサートの前記第１および第２の光学素子形成用表面が、前記環状表面により囲まれた１個のツールインサート上に形成されることを特徴とする請求項５９記載の方法。
61. 前記成形型インサートの前記ツールインサートが前記環状表面に接着固定されていることを特徴とする請求項６０記載の方法。
62. 前記環状表面が透孔を備え、前記ツールインサートを前記環状表面に固定するための接着剤が前記透孔を通じて注入されることを特徴とする請求項６１記載の方法。
63. 前記成形型インサートに固定されたハンドルを提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項６２記載の方法。
64. 前記第１および第２のキャビティブロック内に形成された第１および第２の溝を提供するステップをさらに備え、前記第１および第２のキャビティブロックが当接関係に配置された場合に前記ハンドルが前記第１および第２の溝内に存在することを特徴とする請求項６３記載の方法。