JP2008510745A - ビフェニルアミン類の製造方法 - Google Patents

ビフェニルアミン類の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008510745A
JP2008510745A JP2007528685A JP2007528685A JP2008510745A JP 2008510745 A JP2008510745 A JP 2008510745A JP 2007528685 A JP2007528685 A JP 2007528685A JP 2007528685 A JP2007528685 A JP 2007528685A JP 2008510745 A JP2008510745 A JP 2008510745A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
chlorine
fluorine
alkyl
bromine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007528685A
Other languages
English (en)
Inventor
イエールゲス,ボルフガング
ハインリヒ,イエーンス−デイートマル
ランツイヒ,ラインハルト
Original Assignee
バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト filed Critical バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト
Publication of JP2008510745A publication Critical patent/JP2008510745A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides
    • C07C233/01Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/12Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
    • C07C233/15Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/62Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by cleaving carbon-to-nitrogen, sulfur-to-nitrogen, or phosphorus-to-nitrogen bonds, e.g. hydrolysis of amides, N-dealkylation of amines or quaternary ammonium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C211/00Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C211/43Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C07C211/44Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to only one six-membered aromatic ring
    • C07C211/52Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having amino groups bound to only one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by halogen atoms or by nitro or nitroso groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C231/00Preparation of carboxylic acid amides
    • C07C231/12Preparation of carboxylic acid amides by reactions not involving the formation of carboxamide groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C233/00Carboxylic acid amides
    • C07C233/01Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C233/16Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C07C233/24Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C233/25Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms

Abstract

本発明は、置換ビフェニルアミン類の新規な製造方法、並びに新規中間体生成物及びこの製造、並びに殺菌性カルボキサミド類の製造方法に関する。

Description

本発明は、置換ビフェニルアミンの新規な製造方法、新規中間体生成物及びこの製造方法、並びに殺菌活性カルボキサミドの製造方法に関する。
ビフェニル誘導体はフェニルボロン酸とハロゲン化フェニルから鈴木カップリング反応又はStilleカップリング反応を使用して調製できることが、既知である(例えば、WO01/42223、WO02/064562、WO03/070705、Robertson and Hansen(eds.)PCBs、The University Press of Kentucky 2001、57−60参照)。
また、ビフェニル誘導体はアリールジンクハロゲニド(aryl zinc halogenides)をハロゲン化アリールと反応させることによって得ることができることが公知である(Bull.Korean Chem.Soc.2000、21、165−166)。
これらの方法の欠点は、製造コストが高いことである。ボロン酸の製造は、グリニャール反応を必要とし、また遷移金属触媒クロスカップリング反応(例えば、鈴木反応に従って)は、比較的多量のパラジウム触媒を必要とするか又は(Bull.Korean Chem.Soc.2000、21、165−166)ほぼ当量の亜鉛を必要とする。亜鉛は廃棄物として廃棄しなければならないし及び発癌性物質、ジブロモメタンが亜鉛の活性化に必要である。
際立った欠点は、ボロン酸の自己カップリングを避けることができないことであり(Robertson and Hansen(eds.)PCBs、The University Press of Kentucky 2001、57−60)、及びポリ塩化ビフェニル類(PCB類)が生成され得るという危険があることである(次の反応図参照)。
Figure 2008510745
しかし、本発明の方法では、第二のフェニル環はディールス−アルダー反応によって組み立てられる。
従って、本発明の目的は、同時に高い全収率で及びさらに高い純度でビフェニルアミンを得るための新規な経済的な方法を発明することにあった。
従って、本発明の主題は、一般式(I)
Figure 2008510745
(式中、
は水素、フッ素、塩素、C−C−アルキル、C−C−アルコキシ、C−C−アルキルチオ又はC−C−ハロゲンアルキルを表し、
はフッ素、塩素又は臭素を表し、
はフッ素、塩素又は臭素を表す)
のビフェニルアミンの製造方法において、方法Aにより、
(1)第一工程で、式(II)
Figure 2008510745
(式中、
Halは塩素、臭素又はヨウ素を表し、
は水素、C−C−アルキル又はC−C−アルコキシを表し、及び
は前記で特定された意味を有する)
のアニリドを、式(III)
Figure 2008510745
の2−メチルブタ−3−イン−2−オールと反応させ、
(2)第二工程で、このようにして得られた式(IV)
Figure 2008510745
(式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
(3)第三工程で、このようにして得られた式(V)
Figure 2008510745
(式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
のエチニルアニリドを、式(VI)
Figure 2008510745
(式中、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のチオフェンジオキシドと反応させ、及び
(4)第四工程で、このようにして得られた式(VII)
Figure 2008510745
(式中、R、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=O)R]を酸性又は塩基性条件下で分離する
ことを特徴とする前記一般式(I)のビフェニルアミンの製造方法である。
驚くべきことに、この反応順序を使用することによって、式(I)のビフェニルアミンは、安価な出発物質からグリニャール反応を使用せずに良好な収率で製造することができる。ブチノールを用いる遷移金属触媒カップリング反応は、鈴木カップリング反応に必要な量よりも少ない極めて少量の触媒を必要とするだけである。
N−(2−ブロモ−4−フルオロフェニル)アセトアミド、2−メチルブタ−3−イン−2−オール及び3,4−ジクロロチオフェン−1,1−ジオキシドを出発化合物として使用する場合には、本発明の方法Aの4つの工程全ては、次の反応工程図で説明することができる:
Figure 2008510745
本発明の方法Aは、出発化合物を使用しながら実施することが好ましい。出発化合物の示される部分それぞれは、次の意味を有する。好ましい、特に好ましい及び極めて特に好ましい意味は、それぞれの部分が存在する全ての化合物に適用される。
Halは、好ましくは塩素を表す。
Halはまた、好ましくは臭素を表す。
Halはまた、好ましくはヨウ素を表す。
Halは、特に好ましくは臭素を表す。
は、好ましくは水素を表す。
はまた、好ましくはフッ素を表し、この場合にフッ素は特に好ましくはそれぞれの化合物[例えば式(I)参照]の3位、4位又は5位に配置され、極めて特に好ましくは3位又は5位に配置され、特別には5位に配置される。
はまた、好ましくは塩素を表し、この場合に塩素は特に好ましくはそれぞれの化合物の3位又は5位に配置される。
はまた、好ましくはメチル又はiso−プロピルを表し、この場合にメチル又はiso−プロピルは特に好ましくはそれぞれの化合物の6位に配置される。
はまた、好ましくはトリフルオロメチルを表し、この場合のトリフルオロメチルは特に好ましくはそれぞれの化合物の4位又は5位に配置される。
はまた、好ましくはメトキシ又はメチルチオを表し、この場合のメトキシ又はメチルチオは特に好ましくはそれぞれの化合物の4位、5位又は6位に配置される。
は、好ましくは水素、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、メトキシ、エトキシ、iso−プロポキシ又はtert−ブトキシを表す。
は、特に好ましくはメチル、tert−ブチル、メトキシ又はtert−ブトキシを表す。
は、極めて特に好ましくはメチルを表す。
は、好ましくはフッ素を表す。
はまた、好ましくは塩素を表す。
はまた、好ましくは臭素を表す。
は、好ましくはフッ素を表す。
はまた、好ましくは塩素を表す。
はまた、好ましくは臭素を表す。
好ましくは、本発明の方法Aは、式(I−a)
Figure 2008510745
(式中、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のビフェニルアミンを生じる。このためには、式(II−a)
Figure 2008510745
(式中、Hal及びRは前記で特定された意味を有する)
のアニリドが出発化合物として用いられる。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式(II)のアニリドは、部分的に公知であるか又は公知の方法に従って得ることができる〔例えば、Synlett、2003、(14)、2231;Recl.Trav.Chim.Pay−Bas.1964、83、1142;J.Het.Chem.1969、6、243参照〕。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合に出発化合物としてさらに使用されるべき式(III)の2−メチルブタ−3−イン−2−オールは、公知であり、商業的に入手できる。
本発明の方法Aの第二工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式(IV)のアルキニルアニリドは、新規であり、本特許出願の別の主題である。式(IV)のアルキニルアニリドは、本発明の方法Aの第一工程から得られる。
本発明の方法Aの第三工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式(V)のエチニルアニリドは、部分的に新規であり(Rがフッ素を表す場合)、また本特許出願の主題である。式(V)のエチニルアニリドは、本発明の方法Aの第二工程から得られる。
本発明の方法Aの第三工程を実施する場合に出発化合物として使用されるべき式(VI)のチオフェンジオキシドは、公知である(例えば、J.Org.Chem.1961、26、346−351;J.Fluorine Chem.1998、88、143−151;J.Amer.Chem.Soc.2000、122、2440−2445参照)。
個々の反応工程に関する注釈:
第一工程
ハロゲン化アリールとアセチレンとのカップリングは、原則的に公知である。しかし、この場合には、種々の副反応が生じることができるという理由から、化合物を良好な収率で得ることには問題がある。第一の副反応は、(IV)のアルキニルアニリドの脱水反応であり、脱水反応の後には(V)のエチニルアニリドを生成させるためにアセトンを分離することができない(次の反応図参照)。
Figure 2008510745
この理由により、ブチノールがハロゲン化アリールと極めてわずかな収率で反応するだけであることが実際に公知である(例えば、Tetrahedron Lett.2004、45、1603−1606参照)。
第二の副反応は、次の反応図に従うインドールの生成である:
Figure 2008510745
この2−ハロゲンアニリドとアセチレン類からの環化反応も、文献から公知である(例えば、Tetrahedron Lett.2004、45、693−697参照)。
本発明の方法Aの第一工程は、遷移金属触媒の存在下で、好ましくはジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)の存在下で実施される。しかし、この他の触媒、例えばテトラキス(トリフェニルホスファン)パラジウム(0)もまた使用できる。
本発明の方法Aの第一工程は、好ましくは、ハロゲン化銅と、助触媒としてトリフェニルホスフィンの存在下で実施され、この場合はヨウ化銅が特に好ましい。
本発明の方法Aの第一工程はまた、原則として銅塩を存在させずに実施することができ、この場合にはパラジウム触媒の量が著しく増量される。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合には、操作は塩基の存在下で、好ましくは第二級アミン又は第三級アミンの存在下で行われる。好ましくはジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミンが使用され、特に好ましくはトリエチルアミンが使用される。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合には、希釈剤の使用は必要がない。しかし、炭酸アルカリが塩基として、例えば溶媒としてニトリル類中で使用することができる。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合には、操作は一般的には20℃から120℃の範囲内の温度、好ましくは50℃から100℃の範囲内の温度で行われる。
本発明の方法Aの第一工程を実施する場合には、式(II)のアニリド1モル当たり一般的に1モルから1.5モル、好ましくは1モルから1.1モルの式(III)の2−メチルブタ−3−イン−2−オール並びに0.01から1モル%の遷移金属触媒及び1から10モルの塩基が使用される。
驚くべきことに、遷移金属触媒について通常必要な量と異なり、本発明の反応は、極めて少量の触媒を使用する場合でも極めて良好な収率で生じることが見出された。
第二工程
本発明の方法Aの第二工程は、好ましくは、アセトンよりも高い温度で沸騰する希釈剤中で実施され、従ってアセトンは反応混合物から適当ならば減圧下で連続的に除去することができる。
塩基に関して不活性である全ての溶媒、例えば炭化水素、クロロハイドロカーボン類、エーテル類又はアミド類が考慮される。次のシクロヘキサン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、1,2−ジメトキシメタン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノンを使用することが好ましく、トルエン及びキシレンが特に好ましい。
本発明の方法Aの第二工程は、塩基の存在下で実施される。塩基として次の塩基:アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム;アルコラート類、例えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムブチラート;炭酸塩類、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが考慮される。
インドール閉環は完全には回避できない。この理由は、このインドール閉環はまた塩基触媒反応でもあるからである(例えば、Tetrahedron 2003、59、1571;J.Chem.Soc.Perkin Trans.1、2000、1045−1075参照)。しかし、これにもかかわらずインドール形成は、反応完結後に急速冷却することによりかなりの程度まで抑制することができる。
本発明の方法Aの第二工程を実施する場合には、操作は一般的に40℃から150℃の間の温度で行われる。選択される温度はできるだけ低いが、反応が十分に早く生じるのに十分に高い。
本発明の方法Aの第二工程を実施する場合には、一般的に、式(IV)のアルキニル1モル当たり0.05モルから1.0モルの塩基が使用される。
第三工程
本発明の方法Aの第三工程は、好ましくは溶媒の存在下で高められた温度で生じる。
本発明の方法Aの第三工程を実施する場合には、溶媒として次の溶媒:炭化水素、クロロハイドロカーボン類、ニトリル類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、アミド類、又はエステル類が考慮される。次の溶媒:トルエン、キシレン、メシチレン、デカリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブチロニトリル、バレロニトリル、プロピオニトリル、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、アニソール、ジメチルホルムアミド、酢酸ブチル エステルが具体的に挙げられる。次の溶媒:キシレン、ブチロニトリル又はバレロニトリルを使用することが好ましい。
本発明の方法Aの第三工程を実施する場合には、操作は一般的に80℃から200℃の間の温度で行われる。
式(VI)のチオフェンジオキシドの二量化を最小限に抑えるために、式(V)のエチニルアニリドは溶媒に入れることが好ましく、及び式(VI)のチオフェンジオキシドが高められた温度で徐々に加えられる。
完全な反応を達成するために、過剰の式(VI)のチオフェンジオキシドが用いられる。しかし、また前記の量よりも少ない量を使用することができる。式(V)のエチニルアニリド1モル当たり通常は0.9ルモルから1.5モル、好ましくは1.05モルから1.25モルの式(VI)のチオフェンジオキシドが使用される。式(V)のエチニルアニリド1モル当たり0.5モルから1.5モル、好ましくは0.9モルから1.25モルの式(VI)のチオフェンジオキシドを使用することもできる。精製は結晶化によって生じる。
第四工程
窒素上の保護基[−C(=O)R]の分離は、公知の方法に従って塩基性又は酸性条件で行なうことができる(例えば、T.W.Greene、P.G.M.Wuts、Protective Groups in Organic Synthesis、Ed.3、New York、Wiley & Sons、1999参照)。
本発明の方法Aの全ての工程は、特に示されない場合には、一般に常圧下で実施される。しかし、加圧又は減圧下で操作することもできる。
式(I)のビフェニルアミンは、殺菌活性化合物の製造に重要な中間体生成物である。
従って、式(VIII)
Figure 2008510745
〔式中、
は水素、フッ素、塩素、C−C−アルキル、C−C−アルコキシ、C−C−アルキルチオ又はC−C−ハロゲンアルキルを表し、
はフッ素、塩素又は臭素を表し、
はフッ素、塩素又は臭素を表し、
Aは下記の部分A1からA7:
Figure 2008510745
の一つを表し、
はC−C−アルキルを表し、
は水素、ハロゲン、C−C−アルキルを表すか、または1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
は水素、ハロゲン、C−C−アルキルを表し、
は水素、ハロゲン、C−C−アルキル、アミノ、モノ−又はジ(C−C−アルキル)アミノを表し、
は水素、ハロゲン、C−C−アルキルを表すか、または1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
はハロゲン、C−C−アルキルを表すか、または1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
はハロゲン、C−C−アルキルを表すか、または1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
10は水素、ハロゲン、C−C−アルキルを表すか、または1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表す〕
の殺菌活性カルボキサミド(WO03/070705参照)は、方法Bを使用して製造することができ、この場合に、
(1)第一工程で、式(II)
Figure 2008510745
(式中、Hal、R及びRは前記で特定された意味を有する)
のアニリドを、式(III)
Figure 2008510745
の2−メチルブタ−3−イン−2−オールと反応させ、
(2)第二工程で、このようにして得られた式(IV)
Figure 2008510745
(式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
(3)第三工程で、このようにして得られた式(V)
Figure 2008510745
(式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
のエチニルアニリドを、式(VI)
Figure 2008510745
(式中、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のチオフェンジオキシドと反応させ、
(4)第四工程で、このようにして得られた式(VII)
Figure 2008510745
(式中、R、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=O)R]を酸性又は塩基性条件下で分離し、及び
(5)第五工程で、このようにして得られた式(I)
Figure 2008510745
(式中、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
のビフェニルアミンを、式(IX)
Figure 2008510745
(式中、
Aは前記で特定された意味を有し及び
Yはハロゲン又はヒドロキシを表す)
のカルボン酸誘導体と、適当ならば触媒の存在下で、適当ならば縮合剤の存在下で、適当ならば酸結合剤の存在下で及び適当ならば希釈剤の存在下で反応させる。
出発化合物を使用しながら本発明の方法Bを実施することが好ましく、この場合には出発化合物の示される部分それぞれは次の意味を有する。好ましい、特に好ましい及び極めて特に好ましい定義が、それぞれの部分が存在する全ての化合物に適用される。
Hal、R、R、X及びXは、前記の好ましい、特に好ましい及びきわめて特に好ましい定義を有する。
Aは、好ましくはA1、A2、A3、A4又はA5を表す。
Aは、特に好ましくはA1又はA2を表す。
は、好ましくはメチルを表す。
は、好ましくはヨウ素、メチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
は、特に好ましくはメチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
は、好ましくは水素、フッ素、塩素又はメチルを表す。
は、特に好ましくは水素又はフッ素を表す。
は、好ましくは水素、塩素、メチル、アミノ又はジメチルアミノを表す。
は、特に好ましくはメチルを表す。
は、好ましくはメチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
は、好ましくは塩素、臭素、ヨウ素、メチル、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
は、特に好ましくはヨウ素、ジフルオロメチル又はトリフルオロメチルを表す。
は、好ましくは臭素又はメチルを表す。
は、特に好ましくはメチルを表す。
10は、好ましくはメチル又はトリフルオロメチルを表す。
10は、特に好ましくはメチル又はトリフルオロメチルを表す。
Yは、好ましくは塩素又はヒドロキシを表す。
本発明の方法Bの第一工程から第四工程は、本発明の方法Aの第一工程から第四工程に対応し、上記の記載に従って実施される。
本発明の方法Aの第五工程を実施するための出発化合物として使用されるべき式(IX)のカルボン酸誘導体は、公知である及び/又は公知の方法に従って製造することができる(WO03/066609、WO03/066610、EP−A0 545 099、EP−A0 589 301、EP−A0 589 313及びUS3,547,917参照)。
全ての不活性有機溶媒が、本発明の方法Bの第五工程を実施するための希釈剤として考慮される。好ましい例は:脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はデカリン;ハロゲン化炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタン又はトリクロロエタン;エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、メチル−t−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシメタン、1,2−ジエトキシエタン又はアニソール;ケトン類、例えばアセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノン;ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、n−もしくはi−ブチロニトリル又はベンゾニトリル;アミド類、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド;これらと水又は純水との混合物である。
本発明の方法Bの第五工程は、適当ならば適当な酸受容体の存在下で実施される。全ての慣用の無機又は有機塩基がこれ自体考慮される。好ましい例は:アルカリ土類金属又はアルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、アルコラート、酢酸塩、炭酸塩又は炭酸水素塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウム−tert−ブチレート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸アンモニウム、並びに第三級アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、N,N−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノネン(DBN)又はジアザビシクロウンデセン(DBU)である。
本発明の方法Bの第五工程は、適当ならば適当な縮合剤の存在下で行われる。これらの種類のアミド化反応に慣用される全ての縮合剤が考慮される。例として、酸ハロゲン化物形成剤、例えばホスゲン、三臭化リン、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン又は塩化チオニル;酸無水物形成剤、例えばクロロギ酸エチルエステル、クロロギ酸メチルエステル、クロロギ酸イソプロピルエステル、クロロギ酸イソブチルエステル又はメタンスルホニルクロリド;カルボジイミド類、例えばN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)又は他の慣用の縮合剤、例えば五酸化リン、ポリリン酸、N,N’−カルボニルジイミダゾール、2−エトキシ−N−エトキシカルボニル−1,2−ジヒドロキノリン(EEDQ)、トリフェニルホスフィン/四塩化炭素又はブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
本発明の方法Bの第五工程は、適当ならば触媒の存在下で実施される。例として、次の4−ジメチルアミノピリジン、1−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール又はジメチルホルムアミドが挙げられる。
本発明の方法Bの第五工程を実施する場合には、反応温度は広い範囲の中で変化させることができる。一般には、操作は0℃から150℃の温度で、好ましくは0℃から80℃の温度で行われる。
式(VIII)の化合物を製造するための本発明の方法Bの第五工程を実施するために、式(IX)のカルボン酸誘導体1モル当たり、一般的には0.8から15モル、好ましくは0.8から8モルの式(I)のビフェニルアミンが使用される。
ビフェニルアミンを製造するための本発明の方法及び殺菌活性カルボキサミドを製造するための本発明の方法を、前記の説明を例証する以下の実施例で説明する。しかし、実施例は、限定的な方法として解釈されるべきではない。
調製実施例
工程1:N−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1−イル)フェニル]アセトアミド
Figure 2008510745
トリフェニルホスフィン0.32g(1.2ミリモル、純度99%)、ビス−トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド0.085g(0.12ミリモル、純度99%)及びヨウ化銅(I)0.14g(0.72ミリモル、純度98%)を、N−(2−ブロモ−4−フルオロフェニル)アセトアミド56.8g(0.24モル、純度98%)、2−メチルブタ−3−イン−2−オール30.9g(0.264モル、純度98%)及びトリエチルアミン121.4g(1.2モル)の混合物に加え、得られた混合物を85℃で攪拌しながら6時間加熱した。過剰のトリエチルアミンを真空中で蒸留し、トルエン約170mlを加え、同量の水を加え、及びこれらの相を約70℃で分離した。
室温まで冷却した後に、所望のN−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1イル)フェニル]アセトアミド34.4gが、純度97%を有する白色固体物質としてトルエン相から結晶化する(収率:理論収量の91%)。
凝固点:120℃
工程2:N−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)アセトアミド
Figure 2008510745
30%メタノールナトリウムメチラート溶液3.2g(0.018モル)を、N−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1−イル)フェニル]アセトアミド21.7g(0.09モル、純度97.7%)と乾燥トルエン180mlとの懸濁液に加えた。得られた混合物を還流下で加熱し、約60mlの蒸留液を1時間にわたって除去した。反応を行いながら、反応混合物の熱負荷をできるだけ低く保ち(急速加熱、反応が完結した後の急速冷却)、望まれていないインドール形成を抑制した。得られた混合物をトルエンで希釈し、3回水洗し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。
これにより、N−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)アセトアミドの明るいベージュ色の結晶15.2g(収率:理論収量の76.2%)が得られ、これをキシレンから再結晶した。
融点:103℃
工程3:N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)アセトアミド
Figure 2008510745
3,4−ジクロロチオフェン−1,1−ジオキシド6.7g(0.036モル)を乾燥トルエン50mlに溶解した溶液を、乾燥キシレン30mlに溶解したN−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)アセトアミド5.3g(0.03モル)に、130℃で攪拌しながら4時間にわたって滴加した。同時に、トルエンを、130℃の内部温度を維持する様な方法で蒸留した。混合物を130℃で2時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。粗収量は10.4gに達した。
キシレンから再結晶した後に、この反応によりN−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)アセトアミド6.5g(収率:理論収量の72.7%)が得られた。
融点:138°−140℃
別法:
3,4−ジクロロチオフェン−1,1−ジオキシド7.3g(0.0396モル)を乾燥n−ブチロニトリル30mlに溶解した溶液を、乾燥n−ブチロニトリル30mlに溶解したN−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)アセトアミド5.8g(0.033モル)を還流下で攪拌しながら8時間にわたって滴加した。次いで、この混合物を還流下で6時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。粗収量は合計12.7gとなった。
キシレンから再結晶した後に、この反応によりN−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)アセトアミド7.6g(収率:理論収量の77.5%)が得られた。
融点:138°−140℃
工程4:3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−アミン
Figure 2008510745
約45%水酸化カリウム水溶液0.08モルを、N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)アセトアミド6.3g(0.02モル、純度:95%)と2−メトキシエタノール12mlとの懸濁液に加えた。これを100℃に加熱し、4時間攪拌し、冷却し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を氷水と混合し、トルエンを用いて数回抽出した。
乾燥し、トルエンを蒸留した後に、これにより3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−アミン4.8g(収率:理論収量の92%)が褐色固体物質として得られた。
融点:58℃
工程1:N−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1−イル)フェニル]−2,2−ジメチルプロパンアミド
Figure 2008510745
トリフェニルホスフィン0.12g(0.45ミリモル、純度99%)、ビス−トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド0.032g(0.045ミリモル、純度99%)及びヨウ化銅(I)0.052g(0.27ミリモル、純度98%)を、N−(2−ブロモ−4−フルオロフェニル)−2,2−ジメチル−プロパンアミド25.0g(0.09モル、純度99%)、2−メチルブタ−3−イン−2−オール11.6g(0.135モル、純度98%)及びトリエチルアミン45.5g(0.45モル)の混合物に加え、得られた混合物を85℃で攪拌しながら6時間加熱した。過剰のトリエチルアミンを真空中で蒸留し、残留物をトルエン約70mlに溶解し、それぞれ水30mlを用いて3回洗浄し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を酢酸エチルエステルに溶解し、シリカゲルを用いて濾過した。
ロータリーエバポレーターで化合物を濃縮した後に、この反応によりN−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1−イル)フェニル]−2,2−ジメチルプロパンアミド82.8%からなる赤色油状物12.8gが得られた。
工程2:N−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)−2,2−ジメチルプロパンアミド
Figure 2008510745
30%メタノールナトリウムメチラート溶液0.54g(0.003モル)を、N−[4−フルオロ−2−(3−ヒドロキシ−3−メチルブタ−1−イン−1−イル)フェニル]−2,2−ジメチルプロパンアミド5.0g(0.015モル、純度82.8%)を乾燥トルエン30mlに溶解した溶液に加えた。混合物を還流下で加熱し、約10mlの蒸留液を1時間にわたって除去した。反応を行いながら、反応混合物の熱負荷をできるだけ低く保った(急速加熱、反応が完結した後の急速冷却)、望まれていないインドール形成を抑制した。得られた混合物をトルエン15mlで希釈し、それぞれ水20mlを用いて2回洗浄し、乾燥し、溶媒を真空中で蒸留した。
この反応により、N−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)−2,2−ジメチルプロパンアミド77.3%からなる赤色油状物3.3g(収率:理論収量の77.5%)が得られた。
工程3:N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)−2,2−ジメチルプロパンアミド
Figure 2008510745
3,4−ジクロロチオフェン−1,1−ジオキシド2.0g(0.011モル)を乾燥2−メトキシエタノール15mlに溶解した溶液を、N−(2−エチニル−4−フルオロフェニル)−2,2−ジメチルプロパンアミド2.6g(0.009モル)を乾燥2−メトキシエタノール15mlに溶解した溶液(濃度77.3%)に、還流下で攪拌しながら4時間にわたって滴加した。次いで、混合物を沸点で3時間攪拌し、溶媒を真空中で蒸留した。
カラムクロマトグラフィーで精製した後に、この反応により、N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)−2,2−ジメチルプロパンアミド2.3g(収率:理論収量の74.2%)が得られた。
融点:130°−131℃
工程4:3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−アミン
Figure 2008510745
約45%の水酸化カリウム水溶液0.024モルを、N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)−2,2−ジメチルプロパンアミド2.1g(0.006モル)と2−メトキシエタノール4mlとの懸濁液に加えた。得られた混合物を100℃で4時間攪拌し、冷却し、溶媒を真空中で蒸留した。残留物を氷水と混合し、トルエンを用いて数回抽出した。
乾燥し、トルエンを蒸留した後に、この反応により3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−アミン1.4g(収率:理論収量の91%)が褐色固体物質として得られた。
融点:58℃
Figure 2008510745
3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−アミン0.333g(1.3ミリモル)及び3−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボニルクロリド0.304g(1.56ミリモル)をテトラヒドロフラン6mlに溶解し、トリエチルアミン0.36ml(2.6ミリモル)と混合した。この反応溶液を60℃で16時間攪拌した。これを分析のために濃縮し、及びシクロヘキサン/酢酸エチルエステルを用いてシリカゲル上でクロマトグラフ分離した。
この反応により、N−(3’,4’−ジクロロ−5−フルオロビフェニル−2−イル)−3−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド0.39g(理論収量の72%)及びlogP(pH2.3)=3.33が得られた。

Claims (10)

  1. 一般式(I)のビフェニルアミンの製造方法であって、
    Figure 2008510745
    (式中、
    は水素、フッ素、塩素、C−C−アルキル、C−C−アルコキシ、C−C−アルキルチオ又はC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    はフッ素、塩素又は臭素を表し、
    はフッ素、塩素又は臭素を表す)
    方法Aで、
    (1)第一工程で、式(II)
    Figure 2008510745
    (式中、
    Halは塩素、臭素又はヨウ素を表し、
    は水素、C−C−アルキル又はC−C−アルコキシを表し、及び
    は前記で特定された意味を有する)
    のアニリドを、式(III)
    Figure 2008510745
    の2−メチルブタ−3−イン−2−オールと反応させ、
    (2)第二工程で、このようにして得られた式(IV)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
    のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
    (3)第三工程で、このようにして得られた式(V)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
    のエチニルアニリドを、式(VI)
    Figure 2008510745
    (式中、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のチオフェンジオキシドと反応させ、及び
    (4)第四工程で、このようにして得られた式(VII)
    Figure 2008510745
    (式中、R、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=O)R]を酸性又は塩基性条件下で分離する
    ことを特徴とする、方法。
  2. Halが塩素、臭素又はヨウ素を表し、
    が水素、フッ素、塩素、メチル、iso−プロピル、トリフルオロメチル、メトキシ又はメチルチオを表し、
    が水素、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、メトキシ、エトキシ、iso−プロポキシ又はtert−ブトキシを表し、
    がフッ素、塩素又は臭素を表し、
    がフッ素、塩素又は臭素を表すことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 式(II−a)
    Figure 2008510745
    (式中、Hal及びRは請求項1又は2で特定された意味を有する)
    のアニリドを出発化合物として使用することを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 一般式(I)のビフェニルアミンの製造方法であって、
    Figure 2008510745
    (式中、R、X及びXは請求項1で特定された意味を有する)
    式(VII)
    Figure 2008510745
    (式中、R、R、X及びXは請求項1で特定された意味を有する)
    のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=O)R]を酸性又は塩基性条件下で分離することを特徴とする、方法。
  5. 一般式(I)のビフェニルアミンの製造方法であって、
    Figure 2008510745
    (式中、R、X及びXは請求項1で特定された意味を有する)
    式(V)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは請求項1で特定された意味を有する)
    のエチニルアニリドを、式(VI)
    Figure 2008510745
    (式中、X及びXは請求項1で特定された意味を有する)
    のチオフェンジオキシドと反応させ、
    及び、このようにして得られた式(VII)
    Figure 2008510745
    (式中、R、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=O)R]を酸性又は塩基性条件下で分離することを特徴とする、方法。
  6. 式(VIII)のカルボキサミドの製造方法であって、
    Figure 2008510745
    〔式中、
    は水素、フッ素、塩素、C−C−アルキル、C−C−アルコキシ、C−C−アルキルチオ又はC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    はフッ素、塩素又は臭素を表し、
    はフッ素、塩素又は臭素を表し、
    Aは下記の部分A1からA7:
    Figure 2008510745
    の一つを表し、
    はC−C−アルキルを表し、
    は水素、ハロゲン、C−C−アルキルまたは1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    は水素、ハロゲン又はC−C−アルキルを表し、
    は水素、ハロゲン、C−C−アルキル、アミノ、モノ−又はジ(C−C−アルキル)アミノを表し、
    は水素、ハロゲン、C−C−アルキルまたは1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    はハロゲン、C−C−アルキルまたは1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    はハロゲン、C−C−アルキルまたは1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表し、
    10は水素、ハロゲン、C−C−アルキルまたは1から7個のフッ素、塩素及び/又は臭素原子を有するC−C−ハロゲンアルキルを表す〕
    方法Bで、
    (1)第一工程で、式(II)
    Figure 2008510745
    (式中、Hal、R及びRは前記で特定された意味を有する)
    のアニリドを、式(III)
    Figure 2008510745
    の2−メチルブタ−3−イン−2−オールと反応させ、
    (2)第二工程で、このようにして得られた式(IV)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
    のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離し、
    (3)第三工程で、このようにして得られた式(V)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは前記で特定された意味を有する)
    のエチニルアニリドを、式(VI)
    Figure 2008510745
    (式中、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のチオフェンジオキシドと反応させ、
    (4)第四工程で、このようにして得られた式(VII)
    Figure 2008510745
    (式中、R、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のビフェニルアミドから窒素上の保護基[−C(=0)R]を酸性又は塩基性条件下で分離し、及び
    (5)第五工程で、このようにして得られた式(I)
    Figure 2008510745
    (式中、R、X及びXは前記で特定された意味を有する)
    のビフェニルアミンを、式(IX)
    Figure 2008510745
    (式中、
    Aは前記で特定された意味を有し及び
    Yはハロゲン又はヒドロキシを表す)
    のカルボン酸誘導体と、適当ならば触媒の存在下で、適当ならば縮合剤の存在下で、適当ならば酸結合剤の存在下で及び適当ならば希釈剤の存在下で反応させる
    ことを特徴とする、方法。
  7. 式(IV)
    Figure 2008510745
    (式中、R及びRは請求項1で特定された意味を有する)
    のアルキニルアニリド。
  8. 請求項7に記載の式(IV)のアルキニルアニリドの製造方法であって、
    式(II)
    Figure 2008510745
    (式中、Hal、R及びRは請求項1で特定された意味を有する)
    のアニリドを、式(III)
    Figure 2008510745
    の2−メチルブタ−3−イン−2−オールと反応させることを特徴とする、方法。
  9. 式(V)
    Figure 2008510745
    (式中、Rはフッ素を表し及びRは請求項1で特定された意味を有する)
    のエチニルアニリド。
  10. 請求項8に記載の式(V)のエチニルアニリドの製造方法であって、
    式(IV)
    Figure 2008510745
    (式中、Rはフッ素を表し及びRは請求項1で特定された意味を有する)
    のアルキニルアニリドからアセトンを塩基の存在下で分離することを特徴とする、方法。
JP2007528685A 2004-08-27 2005-08-13 ビフェニルアミン類の製造方法 Withdrawn JP2008510745A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004041531A DE102004041531A1 (de) 2004-08-27 2004-08-27 Verfahren zum Herstellen von Biphenylaminen
PCT/EP2005/008838 WO2006024388A1 (de) 2004-08-27 2005-08-13 Verfahren zum herstellen von biphenylaminen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008510745A true JP2008510745A (ja) 2008-04-10

Family

ID=35615542

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007528685A Withdrawn JP2008510745A (ja) 2004-08-27 2005-08-13 ビフェニルアミン類の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7750186B2 (ja)
EP (1) EP1784383A1 (ja)
JP (1) JP2008510745A (ja)
DE (1) DE102004041531A1 (ja)
TW (1) TW200621684A (ja)
WO (1) WO2006024388A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011519879A (ja) * 2008-05-09 2011-07-14 バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト 置換ビフェニルアニリド類を調製する方法
JP2013503118A (ja) * 2009-08-31 2013-01-31 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 置換ビフェニル類を調製するためのテトラアリールボレートプロセス
JP2017515808A (ja) * 2014-04-25 2017-06-15 バイエル・クロップサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト ルテニウムの触媒作用によってアニリド類からビフェニルアミン類を製造する方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006014722A1 (de) * 2006-03-30 2007-10-04 Bayer Cropscience Ag Verfahren zum Herstellen von 2-Ethinylphenylacetamiden
DE102006016462A1 (de) * 2006-04-07 2007-10-11 Bayer Cropscience Ag Verfahren zum Herstellen von Biphenylaminen über Vinylaniline
DE102006036222A1 (de) * 2006-08-03 2008-02-07 Bayer Cropscience Ag 3-Difluormethyl-pyrazolylcarboxanilide
DE102007016971A1 (de) 2007-04-10 2008-10-16 Saltigo Gmbh 2-Nitro-5-fluor-3',4'-dichlorbiphenyl sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung
EP2008991A1 (de) * 2007-06-29 2008-12-31 Bayer CropScience AG Verfahren zur Herstellung von Biarylen
JP5833663B2 (ja) 2010-11-15 2015-12-16 バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングBayer Intellectual Property GmbH 5−ハロゲノピラゾールカルボキサミド類
EP2546229A1 (de) 2011-07-15 2013-01-16 Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg Verfahren zur Synthese von Aminobiphenylen
EP2683682A1 (de) 2011-03-07 2014-01-15 Basf Se Verfahren zur synthese von aminobiphenylen
CN103619822A (zh) 2011-06-21 2014-03-05 拜耳知识产权有限责任公司 制备吡唑基甲酰苯胺类化合物的方法
EP2822924B1 (de) 2012-03-07 2019-12-04 Basf Se Verfahren zur synthese von aminobiphenylen unter verwendung von arylhydrazinen
US20200181091A1 (en) 2017-08-28 2020-06-11 Japan Finechem Company, Inc. Production method for pyrazole-4-carboxamide derivative

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3547917A (en) * 1966-12-07 1970-12-15 Uniroyal Inc 2-amino-4-methylthiazole-5-carboxamides
CA2081935C (en) * 1991-11-22 2004-05-25 Karl Eicken Anilide derivatives and their use for combating botrytis
DE4231519A1 (de) * 1992-09-21 1994-03-24 Basf Ag Cyclohex(en)ylcarbonsäureamide, Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende Mittel zur Bekämpfung von Schadpilzen
DE4231517A1 (de) * 1992-09-21 1994-03-24 Basf Ag Carbonsäureanilide, Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende Mittel zur Bekämpfung von Schadpilzen
PL354102A1 (en) 1999-12-09 2003-12-29 Syngenta Participations Agsyngenta Participations Ag Pyrazolecarboxamide and pyrazolethioamide as fungicide
GB0103258D0 (en) 2001-02-09 2001-03-28 Syngenta Participations Ag Organic compounds
DE10204391A1 (de) 2002-02-04 2003-08-14 Bayer Cropscience Ag Difluormethylthiazolylcarboxanilide
DE10204390A1 (de) 2002-02-04 2003-08-14 Bayer Cropscience Ag Disubstituierte Thiazolylcarboxanilide
DE10215292A1 (de) * 2002-02-19 2003-08-28 Bayer Cropscience Ag Disubstitutierte Pyrazolylcarbocanilide
US7186862B2 (en) * 2002-02-23 2007-03-06 Bayer Cropscience Ag Microbicidal agents on the basis of biphenylbenzamide derivatives

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011519879A (ja) * 2008-05-09 2011-07-14 バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト 置換ビフェニルアニリド類を調製する方法
JP2013503118A (ja) * 2009-08-31 2013-01-31 バイエル・クロップサイエンス・アーゲー 置換ビフェニル類を調製するためのテトラアリールボレートプロセス
JP2017515808A (ja) * 2014-04-25 2017-06-15 バイエル・クロップサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト ルテニウムの触媒作用によってアニリド類からビフェニルアミン類を製造する方法

Also Published As

Publication number Publication date
US7750186B2 (en) 2010-07-06
DE102004041531A1 (de) 2006-03-02
WO2006024388A1 (de) 2006-03-09
EP1784383A1 (de) 2007-05-16
TW200621684A (en) 2006-07-01
US20080194835A1 (en) 2008-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008510745A (ja) ビフェニルアミン類の製造方法
JP3615558B2 (ja) N−フエニルアセトアミノニトリル類
CA2619435A1 (en) Process for the synthesis of mandipropamid and derivatives thereof
KR101123745B1 (ko) 플루오로메틸-치환된 헤테로사이클의 제조방법
KR102595410B1 (ko) 3-클로로-2-비닐페닐설포네이트의 제조 방법
JPS63310865A (ja) 3−シアノ−4−アリール−ピロール類の製造方法
KR101308227B1 (ko) 니코틴산 유도체 또는 그의 염의 제조 방법
JP3937467B2 (ja) クロロメチルピリジン類の製造方法
KR20040039430A (ko) (2-니트로페닐)아세토니트릴 유도체의 제조방법 및 그합성중간체
JP2020533349A (ja) トリフロキシストロビンの改善された調製方法
JP2020537680A (ja) 除草性ピリダジノン化合物を製造するプロセス
US6831197B2 (en) Methods for producing 2-(2-hydroxyphenyl)-2-(alkoxyimino)-N-methylacetamide derivatives
US20080045727A1 (en) Chiral 3-Halophthalic Acid Derivatives
KR102477316B1 (ko) 2-(2-디아조늄-6-치환된 페닐)에탄올 염의 폐환에 의한 4-치환된 2,3-디하이드로-1-벤조푸란 유도체의 제조 방법
JP2003171359A (ja) (2−ニトロ−フェニル)アセトニトリル誘導体の製造方法及びその合成中間体
JP4013772B2 (ja) 2−ヒドロキシイミノ−3−オキソプロピオニトリル及びその製法
JP4398636B2 (ja) N−[3−(アシルアミノ)−4−オキソ−6−フェノキシ−4h−クロメン−7−イル]アルキルスルホンアミド誘導体またはその塩の製造法並びに中間体
JP2000229955A (ja) 5−アミノイソオキサゾリルイソオキサゾールおよびその製造法
JPWO2002064554A1 (ja) シアノチオアセトアミド誘導体及び製造法
MXPA97009667A (es) Procedimiento para la obtencion de 3-(1-hidroxifenil-1-alcoxiiminometil)dioxazinas
JP2003137871A (ja) 1−アルキル−5−ハイドロキシピラゾールの製造法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20081104