JP2008504260A5

JP2008504260A5 -

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Publication number: JP2008504260A5
Application number: JP2007518127A
Authority: JP
Filing date: 2005-06-16
Publication date: 2008-08-07

Description

実施例６０
錯体５Ａ−ｏを用いた、ベンゾイル酢酸エチルのエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの水素化
実施例１７からの錯体５Ａ−ｏ（２．７ｍｇ；０．００２５ミリモル；０．００５当量）及びベンゾイル酢酸エチル（８６μＬ；０．５ミリモル）を反応器中に入れ、これについて、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行った。アルゴンによって脱ガスされたエタノール（５ｍＬ）を添加し、反応混合物について、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、次いでこれを水素で２０．７ｂａｒｇ（３００ｐｓｉｇ）まで加圧し、周囲温度で６時間撹拌した。この反応器をガス抜きし、次いで、アルゴンによる加圧及びガス抜きを５回行い、この溶液を¹ＨＮＭＲによって分析すると、キラルＨＰＬＣによると８０．２％ｅｅであるエチル（Ｓ）−３−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートへの９９％の転化を示した。
以下、本発明の態様を列挙する。
１．前記式１を有するルテニウム化合物と前記式２［式中、Ｒ、Ｒ ² 及びＲ ³ は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
Ｒ ¹ は置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルコキシ、置換又は非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換又は非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルコキシ、置換又は非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール、置換又は非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキレン、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子を含んでなるルテニウム錯体化合物。
２．Ｘがクロライドであり、Ｒ ³ がフェニルであり且つ（Ｒ） ₂ Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ ² ）Ｐ（Ｒ ¹ ） ₂ が前記構造３又は４［式中、Ｒ ⁴ 、Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール、又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を表す態様１に記載の錯体化合物。
３．Ｒがアリールであり；Ｒ ¹ がアリール、アリールオキシ、Ｃ ₂ 〜Ｃ ₆ アルキル又はＣ ₃ 〜Ｃ ₆ シクロアルキルであり；Ｒ ² が水素、Ｃ ₁ 〜 ₆ アルキル又はアリールであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムである態様２に記載の錯体化合物。
４．Ｒがフェニルであり；Ｒ ¹ がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ ² が水素、メチル、エチル又はイソプロピルであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；且つＭが鉄である態様２に記載の錯体化合物。
５．前記式５［式中、Ｒ、Ｒ ² 及びＲ ³ は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
Ｒ ¹ は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；且つ
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキレン、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する化合物。
６．Ｘがクロライドであり、Ｒ ³ がフェニルであり且つ（Ｒ） ₂ Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ ² ）Ｐ（Ｒ ¹ ） ₂ が前記構造３又は４［式中、Ｒ ⁴ 、Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を表す態様５に記載の錯体化合物。
７．Ｒがアリールであり；Ｒ ¹ がアリール、アリールオキシ、Ｃ ₂ 〜Ｃ ₆ アルキル又はＣ ₃ 〜Ｃ ₆ シクロアルキルであり；Ｒ ² が水素、Ｃ ₁ 〜 ₆ アルキル又はアリールであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムである態様６に記載の錯体化合物。
８．Ｒがフェニルであり；Ｒ ¹ がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ ² が水素、メチル、エチル又はイソプロピルであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；且つＭが鉄である態様６に記載の錯体化合物。
９．前記式１を有するルテニウム錯体と前記式２を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、不活性溶媒中で接触させることを含む態様１に記載のルテニウム錯体化合物の製造方法。
１０．前記式１を有するルテニウム錯体と前記式３又は４［式中、Ｒ及びＲ ² は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
Ｒ ¹ は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリールオキシであり；
Ｒ ³ はフェニルであり；
Ｒ ⁴ 、Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ ₁ 〜Ｃ ₂₀ アルキル、置換若しくは非置換のＣ ₃ 〜Ｃ ₈ シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ ₆ 〜Ｃ ₂₀ 炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ ₄ 〜Ｃ ₂₀ ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する、実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、ハロカーボン溶媒、双極性非プロトン溶媒、環状若しくは非環状エーテル溶媒、ケトン溶媒又は芳香族炭化水素から選ばれた不活性溶媒中で−５０℃〜溶媒の沸点の温度で接触させることを含んでなる態様５に記載の化合物の製造方法。
１１．前記不活性溶媒がジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はそれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；Ｒがアリールであり；Ｒ ¹ がアリール、アリールオキシ、Ｃ ₂ 〜Ｃ ₆ アルキル又はＣ ₃ 〜Ｃ ₆ シクロアルキルであり；Ｒ ² が水素、Ｃ ₁ 〜 ₆ アルキル又はアリールであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；Ｘがクロライドであり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムであり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する態様１０に記載の方法。
１２．前記不活性溶媒がジクロロメタン又はトルエンから選ばれ；Ｒがフェニルであり；Ｒ ¹ がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ ² が水素、メチル又はエチルであり；Ｒ ⁴ が水素又はＣ ₁ 〜Ｃ ₆ アルキルであり；Ｒ ⁵ 及びＲ ⁶ が水素であり；且つＭが鉄であり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する態様１０に記載の方法。
１３．不活性有機溶媒中、態様１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、１，３−ジカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法。
１４．不活性有機溶媒中、態様２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体化合物の量が、１，３−ジカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
１５．前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである態様１４に記載の方法。
１６．不活性有機溶媒中、態様１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、α―ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応する１，２−ジオール化合物を生成するためのα−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法。
１７．不活性有機溶媒中、態様２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数３〜２０のα−ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応する１，２−ジオール化合物を生成するための、前記α−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体の量が、α−ヒドロキシカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
１８．前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである態様１７に記載の方法。
１９．不活性有機溶媒中、態様１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、β―ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させることを含んでなる、対応する１，３−ジオール化合物を生成するための、β−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法。
２０．不活性有機溶媒中、態様２に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなる、対応する１，３−ジオール化合物を生成するための、炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物の不斉水素化方法であって、前記ルテニウム錯体の量が、β−ヒドロキシカルボニル反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
２１．前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである態様２０に記載の方法。

Claims

式１：
［（Ｒ³）₃Ｐ］₃ＲｕＸ₂ １
を有するルテニウム化合物と式２：
（Ｒ）₂Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ²）Ｐ（Ｒ¹）₂ ２
［式中、Ｒ、Ｒ²及びＲ³は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリールであり；
Ｒ¹は置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換又は非置換の、分岐鎖又は直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルコキシ、置換又は非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換又は非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルコキシ、置換又は非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール、置換又は非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレン、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子を含んでなるルテニウム錯体化合物。
式５：

［式中、Ｒ、Ｒ²及びＲ³は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリールであり；
Ｒ¹は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリールオキシであり；
Ｘはフルオライド、クロライド、ブロマイド又はヨーダイドであり；且つ
Ｌは置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレン、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキレン、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリーレン、１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリーレン又は置換若しくは非置換のメタロセニルメチレンであり、Ｌは実質的にエナンチオマーとして純粋である］
を有する化合物。
Ｘがクロライドであり、Ｒ³がフェニルであり且つ（Ｒ）₂Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ²）Ｐ（Ｒ¹）₂が構造３又は４：

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を表す請求項１又は２に記載の錯体化合物。
Ｒがアリールであり；Ｒ¹がアリール、アリールオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキル又はＣ₃〜Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｒ²が水素、Ｃ₁〜₆アルキル又はアリールであり；Ｒ⁴が水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ⁵及びＲ⁶が水素であり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項３に記載の錯体化合物。
Ｒがフェニルであり；Ｒ¹がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ²が水素、メチル、エチル又はイソプロピルであり；Ｒ⁴が水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ⁵及びＲ⁶が水素であり；且つＭが鉄である請求項３に記載の錯体化合物。
式１：
［（Ｒ³）₃Ｐ］₃ＲｕＸ₂ １
を有するルテニウム錯体と式２：
（Ｒ）₂Ｐ−Ｌ−Ｎ（Ｒ²）Ｐ（Ｒ¹）₂ ２
を有する実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、不活性溶媒中で接触させることを含む請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の製造方法。
式１：
［（Ｒ³）₃Ｐ］₃ＲｕＸ₂ １
を有するルテニウム錯体と式３又は４：

［式中、Ｒ及びＲ²は、独立して、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリールであり；
Ｒ¹は置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルコキシ、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルコキシ、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリールオキシであり；
Ｒ³はフェニルであり；
Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、独立して、水素、置換若しくは非置換の、分岐鎖若しくは直鎖Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル、置換若しくは非置換のＣ₃〜Ｃ₈シクロアルキル、置換若しくは非置換のＣ₆〜Ｃ₂₀炭素環式アリール又は１〜３個のヘテロ原子（前記ヘテロ原子は硫黄、窒素及び酸素から選ばれる）を有する置換若しくは非置換のＣ₄〜Ｃ₂₀ヘテロアリールであり；
ｎは０〜３であり；
ｍは０〜５であり；そして
Ｍは第ＩＶＢ族、第ＶＢ族、第ＶＩＢ族、第ＶＩＩＢ族又は第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する、実質的にエナンチオマーとして純粋なキラル配位子とを、ハロカーボン溶媒、双極性非プロトン溶媒、環状若しくは非環状エーテル溶媒、ケトン溶媒又は芳香族炭化水素から選ばれた不活性溶媒中で−５０℃〜溶媒の沸点の温度で接触させることを含んでなる請求項２に記載の化合物の製造方法。
前記不活性溶媒がジクロロメタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン又はそれらの任意の２種若しくはそれ以上の混合物であり；Ｒがアリールであり；Ｒ¹がアリール、アリールオキシ、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキル又はＣ₃〜Ｃ₆シクロアルキルであり；Ｒ²が水素、Ｃ₁〜₆アルキル又はアリールであり；Ｒ⁴が水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ⁵及びＲ⁶が水素であり；Ｘがクロライドであり；且つＭが鉄、ルテニウム又はオスミウムであり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する請求項７に記載の方法。
前記不活性溶媒がジクロロメタン又はトルエンから選ばれ；Ｒがフェニルであり；Ｒ¹がフェニル、３−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、４−フルオロフェニル、３，５−ジフルオロフェニル又は３，４−ジクロロフェニルであり；Ｒ²が水素、メチル又はエチルであり；Ｒ⁴が水素又はＣ₁〜Ｃ₆アルキルであり；Ｒ⁵及びＲ⁶が水素であり；且つＭが鉄であり；且つ前記方法を２０〜４０℃の温度で実施する請求項７に記載の方法。
不活性有機溶媒中、請求項１に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、前記反応体化合物を水素と接触させることを含んでなる、（ａ）対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、１，３−ジカルボニル化合物の
（ｂ）対応する１，２−ジオール化合物を生成するためのα−ヒドロキシカルボニル化合物の、又は
（ｃ）対応する１，３−ジオール化合物を生成するためのβ−ヒドロキシカルボニル化合物の、不斉水素化方法。
（ａ）対応するヒドロキシカルボニル化合物を生成するための、炭素数５〜２０の１，３−ジカルボニル化合物の
（ｂ）対応する１，２−ジオール化合物を生成するための、炭素数３〜２０のα−ヒドロキシカルボニル化合物の、又は
（ｃ）対応する１，３−ジオール化合物を生成するための炭素数４〜２０のβ−ヒドロキシカルボニル化合物の、不斉水素化方法であって、請求項３に記載のルテニウム錯体化合物の溶液の存在下で、前記反応体化合物を水素と接触させて反応混合物を形成することを含んでなり、前記ルテニウム錯体化合物の量が、前記反応体化合物に基づき、０．００００５〜０．５当量であり；且つ前記方法を０．０７〜１３７．９バール（ゲージ）の水素圧において周囲温度〜反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点の温度で実施する方法。
前記水素圧が３．４５〜６９ｂａｒｇである請求項１１に記載の方法。