JP2022116175A - 含フッ素シラン化合物 - Google Patents
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Classifications
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Abstract
Description
例えば、特許文献1には含フッ素シラン化合物として、分子内に2つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いる表面処理剤が開示されている。
例えば、非特許文献1では、種々の置換基を有するオレフィンの反応性が調べられており、非特許文献2では、ルテニウム錯体とフッ化ビニリデン(すなわち、1,1-ジフルオロエチレン)のオレフィンメタセシスが検討されている。
さらに、フッ素原子や塩素原子等、ハロゲン原子を有するオレフィンも電子不足オレフィンであるため、オレフィンメタセシスに用いた報告はほとんどなく、非特許文献2では、期待した生成物すなわちエチレン及びテトラフルオロエチレンは全く得られなかったと述べられている。
すなわち、本発明は下記<1>~<11>に関するものである。
<1>下記式(1’)で表される化合物と、下記式(2)で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式(3’)で表される化合物の製造方法。
キル基を表し、hは2以上の自然数を表し、複数存在するZ1、Z2はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、R4、Xがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。)
<4>Z1~Z4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ(メトキシメトキ
シ)基、ペルフルオロ(プロポキシプロポキシ)基、ペンタフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニルオキシ基を表す、前記<2>または<3>に記載の製造方法。
<5>下記式(3’)で表される化合物。
<8>下記式(5)で表される化合物。
<10>下記式(6)で表される化合物。
ロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表す、前記<10>に記載の化合物。
なお、本明細書において、「式(n)で表される化合物」のことを、単に「化合物(n)」と称する場合がある。
アリール基とは、芳香族化合物において芳香環を形成する炭素原子の内いずれか1つの炭素原子に結合した1つの水素原子を取り去った残基に相当する一価の基を意味し、炭素環化合物から誘導されるホモアリール基と、ヘテロ環化合物から誘導されるヘテロアリール基とを合わせた総称で用いる。
(ペル)フルオロアルキル基とは、フルオロアルキル基とペルフルオロアルキル基とを合わせた総称で用いる。すなわち該基は1個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。(ペル)フルオロアルコキシ基、(ペル)フルオロアリール基、(ペル)フルオロアリールオキシ基についても同様である。
本発明の一態様は、下記式(1)で表される化合物(化合物(1))と、下記式(2)で表される化合物(化合物(2))とをクロスメタセシス反応させることによる、下記式(3)で表される化合物(化合物(3))の製造方法に関するものである。
クロスメタセシス反応においては、式(1)における二重結合の左側カルベン部分(化合物(1)からCZ1Z2を除いた部分)と式(3)における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式(2)における二重結合の右側カルベン部分(化合物(2)からCZ3Z4を除いた部分)と式(3)における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
クロスメタセシス反応においては、式(1’)における二重結合の左側カルベン部分(化合物(1’)からCZ1Z2を除いた部分)と式(3’)における二重結合の左側カルベン部分は同一となり、式(2)における二重結合の右側カルベン部分(化合物(2)からCZ3Z4を除いた部分)と式(3’)における二重結合の右側カルベン部分は同一となる。
本発明においては、化合物(1)と化合物(2)をクロスメタセシス反応させる。
bは0または1であり、好ましくは0である。
cは0、1または2であり、好ましくは0である。
cとdの和は3である。すなわち、dは1、2または3であり、好ましくは3である。
炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、またはプロポキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基である。
1価の有機基としては、例えば、炭素数1~12のアルキル基、炭素数1~12のアルコキシ基、炭素数5~20のアリール基、炭素数5~20のアリールオキシ基、炭素数1~12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1~12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5~20の(ペル)ハロゲン化アリール基及び炭素数5~20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基が挙げられ、前記アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、(ペル)ハロゲン化アルキル基、(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、(ペル)ハロゲン化アリール基及び(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含んでもよい。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基である。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基である。
炭素数4~20のアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が挙げられる。
炭素数1~6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、フェニル基、メチル基、エチル基である。
hは2~5の自然数が好ましく、2または3がより好ましい。
Qは酸素原子を含む炭素数2~400の含フッ素有機基、酸素原子とケイ素原子を含む炭素数2~400の含フッ素有機基等が好ましい。
なお、化合物(1’)におけるZ1及びZ2は、先述した化合物(1)と化合物(2)とのクロスメタセシス反応における化合物(1)のZ1及びZ2とそれぞれ同様であり、好ましい態様も同様である。また、複数存在するZ1、Z2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
本発明のクロスメタセシスにより化合物(3)が製造される。
化合物(3)中の、a、b、c、cとdの和、X、Y、R1、R2、R3及びR4は前記定義と同様である。また、R1、R2、およびR3からなる群から選ばれる任意の2つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物(3)としては、aが0または1、bが0、cが0、dが3、Xが塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-、R1が炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基、R2がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、R3がフッ素原子、トリフルオロメチル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
化合物(3’)中の、b、c、cとdの和、X、Q、R4及びhは前記定義と同様である。
化合物(3’)の具体例としては、例えば、下記に示す化合物が挙げられる。
本発明はクロスメタセシスによる含フッ素シラン化合物の製造方法に関するものであり
、「化合物(1)及び化合物(2)」と、または「化合物(1’)及び化合物(2)」と触媒とを接触させることによってクロスメタセシスを行い、原料とは異なるオレフィン(化合物(3)または化合物(3’))を得るものである。
目的物収率向上の点で、化合物(1)、化合物(1’)及び化合物(2)は脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。化合物(1)、化合物(1’)及び化合物(2)について、前記脱気及び脱水操作は通常触媒と接触させる前に行う。
試薬として投入する場合、市販の触媒をそのまま用いてもよく、あるいは市販試薬から公知の方法で合成した市販されていない触媒を用いてもよい。
系内で発生させる場合、公知の方法で前駆体となる金属錯体から調製した触媒を本発明に用いることができる。
また、例えばAldrich社やUmicore社から市販されているルテニウム-カルベン錯体を利用することができる。
シチル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、[1,3-ビス(2-メチルフェニル)-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、[1,3-ジシクロヘキシル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ベンジリデンルテニウムジクロリド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、(1,3-ジメシチル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)エトキシメチリデンルテニウムジクロリド、(1,3-ジメシチル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン)[ビス(3-ブロモピリジン)]ベンジリデンルテニウムジクロリド、(1,3-ジメシチル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン)(2-イソプロポキシフェニルメチリデン)ルテニウムジクロリド、(1,3-ジメシチル-4,5-ジヒドロイミダゾール-2-イリデン)[(トリシクロヘキシルホスホラニル)メチリデン]ジクロロルテニウムテトラフルオロボラート、UmicoreM2、UmicoreM51、UmicoreM52、UmicoreM71SIMes、UmicoreM71SIPr、UmicoreM73SIMes、UmicoreM73SIPrが挙げられる。
また、例えばAldrich社やStrem社から市販されているモリブデン-カルベン錯体またはタングステン-カルベン錯体を利用することができる。
なお、Meとはメチル基を、i-Prとはイソプロピル基を、t-Buとはターシャリーブチル基を、Phとはフェニル基を、それぞれ意味する。
(2)の内、基準となるオレフィン1モルに対して、通常0.0001~1モル用い、好ましくは、0.001~0.2モル用いる。
ただし、反応条件において気体となるオレフィンを原料として用いる場合、これらの気体雰囲気下で行うことができる。
化合物(1)または化合物(1’)及び化合物(2)と触媒とを接触させる圧力としては、特に制限はないが、加圧下でも、常圧下でもよいし、減圧下でもよい。通常0.001~10MPa程度、好ましくは、0.01~1MPa程度である。
単離方法としては、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィー、リサイクル分取HPLCが挙げられ、必要に応じてこれらを単独または複数組み合わせて用いることができる。
また、本発明は、下記式(4)で表される化合物(化合物(4))に関するものである。
化合物(4)は化合物(3)の一例であり、化合物(1)として下記の化合物(4-1)及び化合物(2)として下記の化合物(4-2)を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い、得ることができる。
含フッ素有機基としては、例えば、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルコキシ基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは、炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、及びエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基である。
また、R11、R2、およびR3からなる群から選ばれる任意の2つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物(4)としては、cが0、dが3、Yが単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-、R11が炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基、R2がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、R3がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
また、本発明は、下記式(5)で表される化合物(化合物(5))に関するものである。
化合物(5)は化合物(3)の一例であり、化合物(1)として下記の化合物(5-1)及び化合物(2)として下記の化合物(5-2)を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
化合物(5)としては、bが0、cが0、dが3、Yが単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-、R1が炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基、R2がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、R3がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
また、本発明は、下記式(6)で表される化合物(化合物(6))に関するものである。
化合物(6)は化合物(3)の一例であり、化合物(1)として下記の化合物(6-1)及び化合物(2)として下記の化合物(6-2)を上記に記載した方法にて触媒と接触させることによってクロスメタセシス反応を行い得ることができる。
炭素数1~6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、またはプロピル基が挙げら
れる。これらの中でも、好ましくは、メチル基、エチル基である。
Z1~Z4、c、cとdの和、Y、R1、R2、R3及びR4は前記化合物(1)~(3)における定義と同様である。また、R1、R2、およびR3からなる群から選ばれる任意の2つは互いに結合して環を形成してもよい。
化合物(6)としては、cが0、dが3、Yが単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-、R1が炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基、R2がフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基、R3がフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基である化合物が好ましい。
本実施例において、触媒は、特に記載しない場合においては、市販品をそのまま反応に用いた。
溶媒(クロロホルム-d)は、Sigma-Aldrich社製「クロロホルム-d」をあらかじめ凍結脱気したあと、モレキュラーシーブ4Aで乾燥してから反応に用いた。
本実施例において、合成した化合物の構造は日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置「JNM-AL300」により1H-NMR、19F-NMR測定を行うことで同定した。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.217mmol)、トリクロロビニルシラン(10.9mmol、1.76g、5モル当量)、C8F17-CH2-CH=CH2(2.17mmol、1.00g、1モル当量)及びクロロホルム-d(3.5mL)を10mLのフラスコの中に量り入れた。
これら一連の反応を以下に示す。
1H-NMR(CDCl3、300MHz、テトラメチルシラン基準):δ(ppm)3.07(2H、dt、J=6,17Hz)、6.14(1H、d、J=18Hz)、6.61(1H、dt、J=6,18Hz).
19F-NMR(CDCl3、283MHz、トリクロロフルオロメタン基準):δ(ppm)-81.2(3F、t、J=11Hz)、-112.8(2F、t、J=17Hz)、-122.2--122.4(6F、m)、-123.2--123.4(4F、m)、-126.6(2F).
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン(1)(0.06mmol、lの平均値:20、平均分子量:4000、0.24g、1モル当量)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Bの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.003mmol)、トリクロロビニルシラン(0.15mmol、25mg、5モル当量)、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン(3)(0.03mmol、mの平均値:21、nの平均値:24、平均分子量:4800、0.15g)及び1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(0.44mL)、クロロホルム-d(0.11mL)をNMR測定管の中に量り入れた。NMR管を60℃で加熱し3時間反応させた。反応終了後、NMRを測定して化合物Dの生成を確認した。収率は56%であった。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(4)(0.06mmol、11mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Eの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(5)(0.06mmol、15mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Fの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(6)(0.06mmol、19mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Gの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(7)(0.06mmol、12mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応
終了後、NMRを測定して化合物Hの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(8)(0.06mmol、22mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Iの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(9)(0.06mmol、17mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Jの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(10)(0.06mmol、13mg)及びクロロホルム-d(0.56m
L)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Kの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、トリクロロビニルシラン(0.30mmol、48mg、5モル当量)、含フッ素オレフィン(11)(0.06mmol、18mg)及びクロロホルム-d(0.56mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Lの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmol)、ビニルトリメトキシシラン(0.30mmol、44mg、5モル当量)、C8F17-CH2-CH=CH2(0.06mmol、28mg、1モル当量)及びクロロホルム-d(0.54mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Mの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.006mmo
l)、トリクロロアリルシラン(0.30mmol、52mg、5モル当量)、C8F17-CH2-CH=CH2(0.06mmol、28mg、1モル当量)及びクロロホルム-d(0.54mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Nの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
実施例1におけるUmicoreM73SIPr触媒の使用量を0.1mol%(0.00217mmol)に変更した以外は実施例1と同様な方法により化合物Aの生成を確認する。
実施例1における溶媒を重ベンゼン(C6D6)に変更した以外は実施例1と同様な方法により化合物Aの生成を確認する。
実施例1における触媒をGrubbs第二世代触媒(10mol%、0.006mmol)に変更した以外は実施例1と同様な方法により化合物Aの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.003mmol)、トリクロロビニルシラン(0.15mmol、24mg、5モル当量)、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン(12)(0.03mmol、0.11g)及び1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(0.44mL)、クロロホルム-d(0.11mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Oの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.003mmol)、トリクロロビニルシラン(0.15mmol、24mg、5モル当量)、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン(13)(0.03mmol、55mg)及び1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(0.44mL)、クロロホルム-d(0.11mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Pの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(0.003mmol)、トリクロロビニルシラン(0.15mmol、24mg)、ペルフルオロポリエーテル基含有オレフィン(13)(0.13g)及び1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(0.44mL)、クロロホルム-d(0.11mL)をNMR測定管の中に量り入れる。NMR管を60℃で加熱し2時間反応させる。反応終了後、NMRを測定して化合物Qの生成を確認する。
これら一連の反応を以下に示す。
Claims (11)
- 下記式(1’)で表される化合物と、下記式(2)で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式(3’)で表される化合物の製造方法。
- 下記式(1)で表される化合物と、下記式(2)で表される化合物とをクロスメタセシス反応させる、下記式(3)で表される化合物の製造方法。
とdの和は3であり、Xは塩素原子または炭素数1~6のアルコキシ基を表し、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-を表し、Z1~Z4はそれぞれ独立に水素原子または1価の有機基を表し、R1はフッ素原子または1価の含フッ素有機基を表し、R2は水素原子、フッ素原子または1価の含フッ素有機基を表し、R3はフッ素原子または1価の含フッ素有機基を表し、R1、R2、およびR3からなる群から選ばれる任意の2つは互いに結合して環を形成してもよく、R4は炭素数4~20のアリール基または炭素数1~6のアルキル基を表し、R4、Xがそれぞれ同一分子内に複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。) - aは0または1であり、bは0であり、cは0であり、Xは塩素原子、メトキシ基またはエトキシ基を表し、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-を表し、R1は炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基を表し、R2はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表し、R3はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表す、請求項2に記載の製造方法。
- Z1~Z4はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、ペルフルオロ(メトキシメトキシ)基、ペルフルオロ(プロポキシプロポキシ)基、ペンタフルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニルオキシ基を表す、請求項2または3に記載の製造方法。
- cは0であり、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-を表し、R11は炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基を表し、R2はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表し、R3はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表す、請求項6に記載の化合物。
- bは0であり、cは0であり、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-を表し、R1は炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基を表し、R2はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表し、R3はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表す、請求項8に記載の化合物。
- cは0であり、Yは単結合、エーテル性酸素原子または-CH2O-を表し、R1は炭素数1~12の(ペル)フルオロアルキル基、エーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルコキシ基を表し、R2はフッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表し、R3はフッ素原子、トリフルオロメチル基またはエーテル性酸素原子を含む炭素数2~400の(ペル)フルオロアルキル基を表す、請求項10に記載の化合物。
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JPS57140788A (en) * | 1981-02-25 | 1982-08-31 | Sagami Chem Res Center | Preparation of vinylsilane having perfluoro group |
JPH04283590A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物 |
JPH04296336A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-20 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 表面処理剤 |
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JPH04283590A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | フルオロアルキル基含有有機ケイ素化合物 |
JPH04296336A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-20 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 表面処理剤 |
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