JP2008311658A - 多重量子ウェル構造の活性領域を有する発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この発光ダイオードは、N型化合物半導体層57と隣接する第1障壁層59b及びP型化合物半導体層63と隣接する第n障壁層59bに比べて相対的に広いバンドギャップを有する中間障壁層59cを含む。中間障壁層は、第1障壁層と第n障壁層との間に位置する。これにより、多重量子ウェル構造内で電子と正孔が結合し、光を放出する位置を調節することができ、発光効率を向上させることができる。さらに、バンドギャップエンジニアリングまたは不純物ドープ技術を利用して発光効率を向上させた発光ダイオードが提供される。
【選択図】 図5
Description
ここで、窒化ガリウム系の半導体層で形成された活性領域は、ピエゾ電場によって分極が発生するので、分極を考慮して、図3の(b)には、ウェル層19aのバンドが障壁層19bのバンドと異なる方向に傾斜するものとして示した。
図4を参照すれば、前記発光ダイオードに順方向電圧Vfが印加される場合、N型半導体層17のバンドが上方に移動する。順方向電圧がP型半導体層23のバンドギャップに相当する電圧と類似するか、またそれよりさらに高い電圧で印加される場合、前記N型半導体層17の伝導帯Ecは、前記P型半導体層23の伝導帯Ecよりさらに高く位置するようになる。この時、前記活性領域内の障壁層19bの各伝導帯は、図示のように、N型半導体層17に近いほど、高く位置する。このような障壁層19bのバンド配置は、N型半導体層17から注入されたキャリアが活性領域19内で再結合を経ることなく、P型半導体層23に流入することができる駆動力をキャリアに提供し、したがって、点線矢印で示すようなキャリアオーバーフローを発生させる。このようなキャリアオーバーフローの過多発生は、電子−正孔の再結合率を低下させ、発光効率を減少させる。
また、一般照明分野など発光ダイオードの適用分野が拡大されるに伴って、発光ダイオードに印加される順方向電圧Vfが既存の3V内外に限定されず、次第に増加している。したがって、高電圧(または高電流)下で動作し得る発光ダイオードにおいて、ブロッキング層21以外にキャリアオーバーフローを防止することができる新しい技術が要求される。
本発明の他の目的は、多重量子ウェル構造内で電子と正孔の再結合する位置を調節し、発光効率を改善した発光ダイオードを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、キャリアオーバーフローを減少させて、電子−正孔の再結合率を向上させることができる発光ダイオードを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、ピエゾ電場による分極を緩和し、電子と正孔の再結合率を向上させると共に、結晶品質に優れた多重量子ウェル構造の活性領域を提供することにある。
一方、前記中間障壁層または前記他の中間障壁層は、相対的に狭いバンドギャップを有する層の間に相対的に広いバンドギャップを有する層が介在された積層構造であってもよい。ここで、前記積層構造の全体バンドギャップは、前記相対的に広いバンドギャップにより定義される。このような積層構造は、相対的に広いバンドギャップを有する層と隣接するウェル層の間の格子不整合を緩和し、結晶欠陥の発生を防止する。
前記障壁層の一面は、前記P型化合物半導体層に対向し、前記障壁層の他面は、前記N型化合物半導体層に対向し得る。また、前記第1領域は、前記障壁層の一面に近いほど、ドープされた不純物濃度を高くすることができる。
前記第2領域の厚さは、前記第1領域の厚さの1.5倍乃至20倍であることができる。
前記第2領域の厚さは、前記第1領域の厚さの1.5倍乃至20倍であり得る。
図5を参照すれば、基板51上にN型化合物半導体層57が位置する。また、基板51とN型化合物半導体層57との間にバッファ層を介在させることができ、前記バッファ層は、低温バッファ層53及び高温バッファ層55を含むことができる。前記基板51は、特に限定されず、例えば、サファイア、スピネル、炭化ケイ素基板などであってもよい。一方、低温バッファ層53は、一般に、AlxGa1−xN(0≦x≦1)で形成されることができ、前記高温バッファ層55は、例えば、アンドープされたGaN層またはN型不純物がドープされたN型GaN層であってもよい。
図7を参照すれば、図6を参照して説明したように、第1障壁層59b−1と第n障壁層59b−nとの間にこれらの障壁層に比べて相対的に広いバンドギャップを有する中間障壁層59cが位置する。これに加えて、第1障壁層59b−1及び第n障壁層59b−nに比べて相対的に広いバンドギャップを有する他の中間障壁層59c’がこれらの間に位置する。前記他の中間障壁層59c’は、第1障壁層と中間障壁層59cとの間に位置することができる。
本実施形態において、第1障壁層及び第n障壁層は、同一のバンドギャップを有するが、これに限定されるものではなく、互いに異なるバンドギャップを有してもよい。また、前記多重量子ウェル構造の活性領域59は、第1障壁層及び第n障壁層以外に障壁層をさらに含むことができ、また、前記中間障壁層または他の中間障壁層以外に中間障壁層をさらに含むこともできる。
図13は、本発明の第3実施形態に係る多重量子ウェル構造の活性領域を有する発光ダイオードを説明するための断面図である。本実施形態に係る発光ダイオードは、図5を参照して説明した発光ダイオードとほぼ同一の積層構造を有するので、これについて簡略に説明し、その相違点について詳しく説明する。
図14は、前記第3実施形態に係る発光ダイオードの活性領域を示す断面図であり、図15は、前記第3実施形態に係る発光ダイオードの障壁層のドープ状態を示す図である。
図16は、本発明の第3実施形態の変形例に係る発光ダイオードの活性領域を示す断面図であり、図17は、前記第3実施形態の変形例に係る発光ダイオードの障壁層のドープ状態を示す図である。
図20を参照すれば、まず、基板110が用意され、基板110上にN型半導体層120が形成される。基板110の材料としては、サファイアや炭化ケイ素(SiC)など多様な物質を使用することができる。
53 低温バッファ層
55 高温バッファ層
57 N型化合物半導体層
59 活性領域
61 ブロッキング層
63 P型化合物半導体層
59a ウェル層
59b 障壁層
59c 中間障壁層
79a ウェル層
79b、79c、79d 障壁層
110 基板
120、220、320 N型半導体層
130、230、330 活性領域
131、231、331 ウェル層
132、232、332 障壁層
140、240、340 P型半導体層
150 p−電極
160 n−電極
232a、232c、332b、332c、332d 第1領域
232b 第2領域
Claims (28)
- 窒化ガリウム系のN型化合物半導体層と、
窒化ガリウム系のP型化合物半導体層と、
前記N型化合物半導体層と前記P型化合物半導体層との間に介在され、ウェル層と障壁層が交互に積層された多重量子ウェル構造の活性領域と、
前記N型化合物半導体層と隣接する第1障壁層と前記P型化合物半導体層と隣接する第n障壁層との間に位置し、前記第1障壁層及び第n障壁層に比べて相対的に広いバンドギャップを有する中間障壁層と、
を含むことを特徴とする発光ダイオード。 - 前記中間障壁層は、前記第1障壁層と前記第n障壁層との間の中央部に位置することを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
- 前記第1障壁層と前記中間障壁層との間に位置し、前記第1障壁層及び前記第n障壁層に比べて相対的に広いバンドギャップを有する他の中間障壁層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
- 前記中間障壁層及び他の中間障壁層に比べて相対的に狭いバンドギャップを有する少なくとも一つの障壁層が、前記中間障壁層と前記他の中間障壁層との間に位置することを特徴とする請求項3に記載の発光ダイオード。
- 前記他の中間障壁層は、前記中間障壁層に比べて相対的に狭いバンドギャップを有することを特徴とする請求項3に記載の発光ダイオード。
- 前記第1及び第n障壁層は、InxAlyGazN(0<x<1、0≦y<1、0<z<1)またはGaNで形成され、
前記中間障壁層は、AlGaNで形成されることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。 - 前記中間障壁層は、相対的に狭いバンドギャップを有する層の間に相対的に広いバンドギャップを有する層が介在された積層構造であることを特徴とする請求項1または3に記載の発光ダイオード。
- 前記相対的に狭いバンドギャップを有する層の各々は、InxAlyGazN(0<x<1、0≦y<1、0<z<1)またはGaNで形成された層であり、
前記相対的に広いバンドギャップを有する層は、AlGaNで形成された層であることを特徴とする請求項7に記載の発光ダイオード。 - 前記障壁層のうち少なくとも一つは、n型不純物でドープされた第1領域と、アンドープされた第2領域とを含むことを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面と隣接して形成され、前記第2領域は、前記障壁層の他面と隣接して形成されることを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオード。
- 前記障壁層の一面ば、前記P型化合物半導体層に対向し、前記障壁層の他面は、前記N型化合物半導体層に対向することを特徴とする請求項10に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面に近いほど、ドープされた不純物濃度が高いことを特徴とする請求項11に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面及び他面と隣接して形成され、前記第2領域は、前記第1領域の間に形成されることを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオード。
- 前記第2領域の厚さは、前記第1領域の厚さの1.5倍乃至20倍であることを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオード。
- 前記P型化合物半導体層と隣接し、前記第1領域及び第2領域を有する前記第n障壁層と、
前記第n障壁層以外に前記第1領域及び第2領域を有する障壁層と、を含み、
前記第n障壁層の第1領域は、前記第1領域及び第2領域を有する障壁層の第1領域に比べて不純物濃度が低いことを特徴とする請求項9に記載の発光ダイオード。 - 窒化ガリウム系のN型化合物半導体層と、
窒化ガリウム系のP型化合物半導体層と、
前記N型化合物半導体層と前記P型化合物半導体層との間に介在され、ウェル層と障壁層が交互に積層された多重量子ウェル構造の活性領域とを含み、
前記活性領域内の障壁層は、前記N型化合物半導体層に近いほど、さらに狭いバンドギャップを有することを特徴とする発光ダイオード。 - 前記障壁層は、AlxInyGa1−x−yN(0≦x、y<1、0≦x+y<1)で形成されることを特徴とする請求項16に記載の発光ダイオード。
- 前記ウェル層は、InGaNで形成されることを特徴とする請求項17に記載の発光ダイオード。
- 前記P型化合物半導体層と前記活性領域との間にブロッキング層をさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の発光ダイオード。
- 前記ブロッキング層は、AlGaNで形成されることを特徴とする請求項19に記載の発光ダイオード。
- 順方向の動作電圧が印加される場合、前記障壁層の伝導帯がほぼ同一のエネルギーレベルに位置することを特徴とする請求項16に記載の発光ダイオード。
- 前記障壁層のうち少なくとも一つは、n型不純物でドープされた第1領域と、アンドープされた第2領域とを含むことを特徴とする請求項16に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面と隣接して形成され、前記第2領域は、前記障壁層の他面と隣接して形成されることを特徴とする請求項22に記載の発光ダイオード。
- 前記障壁層の一面は、前記P型化合物半導体層に対向し、前記障壁層の他面は、前記N型化合物半導体層に対向することを特徴とする請求項23に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面に近いほど、ドープされた不純物濃度が高いことを特徴とする請求項24に記載の発光ダイオード。
- 前記第1領域は、前記障壁層の一面及び他面と隣接して形成され、前記第2領域は、前記第1領域の間に形成されることを特徴とする請求項22に記載の発光ダイオード。
- 前記第2領域の厚さは、前記第1領域の厚さの1.5倍乃至20倍であることを特徴とする請求項22に記載の発光ダイオード。
- 前記P型化合物半導体層と隣接し、第1及び第2領域を有する第1障壁層と、
前記第1障壁層以外に第1領域及び第2領域を有する第2障壁層とを含み、
前記第1障壁層の第1領域は、前記第2障壁層の第1領域に比べて不純物濃度が低いことを特徴とする請求項22に記載の発光ダイオード。
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JP2010067709A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びウェーハ |
WO2011021264A1 (ja) * | 2009-08-17 | 2011-02-24 | 株式会社 東芝 | 窒化物半導体発光素子 |
JP2011135072A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子、発光素子パッケージ及び照明システム |
JP2011176240A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
JP2012019218A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-26 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子 |
JP4881491B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2012-02-22 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
WO2014167965A1 (ja) * | 2013-04-08 | 2014-10-16 | 学校法人名城大学 | 窒化物半導体多層膜反射鏡とそれを用いた発光素子 |
JP2016149399A (ja) * | 2015-02-10 | 2016-08-18 | ウシオ電機株式会社 | 半導体発光素子 |
KR20170082830A (ko) * | 2016-01-07 | 2017-07-17 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
JP2017143152A (ja) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP2018500762A (ja) * | 2015-01-05 | 2018-01-11 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス部品 |
JP2018501667A (ja) * | 2014-12-31 | 2018-01-18 | コンスタンテク カンパニー リミテッドConstantec Co.,Ltd. | 高電圧駆動発光素子及びその製造方法 |
JP2018531514A (ja) * | 2015-10-08 | 2018-10-25 | オステンド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 琥珀色〜赤色の発光(>600nm)を有するIII族窒化物半導体発光デバイス及びこれを作製するための方法 |
JP2019004160A (ja) * | 2018-08-08 | 2019-01-10 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP2019054236A (ja) * | 2018-08-23 | 2019-04-04 | 日機装株式会社 | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
WO2020095826A1 (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-14 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2020077874A (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-21 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
US11329191B1 (en) | 2015-06-05 | 2022-05-10 | Ostendo Technologies, Inc. | Light emitting structures with multiple uniformly populated active layers |
US11444222B2 (en) | 2017-09-12 | 2022-09-13 | Nikkiso Co., Ltd. | Nitride semiconductor light-emitting element and production method for nitride semiconductor light-emitting element |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5335228B2 (ja) * | 2006-12-27 | 2013-11-06 | キヤノン株式会社 | 新規化合物および有機半導体素子の製造方法 |
KR101459752B1 (ko) * | 2007-06-22 | 2014-11-13 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 발광소자 및 그 제조방법 |
JP4655103B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2011-03-23 | ソニー株式会社 | GaN系半導体発光素子、発光素子組立体、発光装置、GaN系半導体発光素子の駆動方法、及び、画像表示装置 |
JP5196160B2 (ja) * | 2008-10-17 | 2013-05-15 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体発光素子 |
US20110101301A1 (en) * | 2009-11-04 | 2011-05-05 | The Regents Of The University Of California | Light emitting device with a coupled quantum well structure |
TWI416762B (zh) | 2010-08-23 | 2013-11-21 | Univ Nat Sun Yat Sen | 同質異相量子井 |
WO2012078849A2 (en) * | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Light emitting device with varying barriers |
US8362458B2 (en) * | 2010-12-27 | 2013-01-29 | Industrial Technology Research Institute | Nitirde semiconductor light emitting diode |
JP5737111B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2015-06-17 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子 |
KR20120138080A (ko) * | 2011-06-14 | 2012-12-24 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
US8379684B1 (en) * | 2011-08-16 | 2013-02-19 | Corning Incorporated | Hole blocking layers in non-polar and semi-polar green light emitting devices |
JP5522147B2 (ja) * | 2011-11-02 | 2014-06-18 | 住友電気工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子、及び、窒化物半導体発光素子の作製方法 |
US8723189B1 (en) * | 2012-01-06 | 2014-05-13 | Trustees Of Boston University | Ultraviolet light emitting diode structures and methods of manufacturing the same |
KR102246648B1 (ko) * | 2014-07-29 | 2021-04-30 | 서울바이오시스 주식회사 | 자외선 발광 다이오드 |
US9029830B2 (en) | 2012-05-07 | 2015-05-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Multi-quantum well LED structure with varied barrier layer composition |
US8975616B2 (en) | 2012-07-03 | 2015-03-10 | Liang Wang | Quantum efficiency of multiple quantum wells |
JP2014067893A (ja) * | 2012-09-26 | 2014-04-17 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体発光素子 |
KR101992152B1 (ko) * | 2012-11-16 | 2019-06-25 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 및 발광 소자 패키지 |
CN103117341A (zh) * | 2013-01-31 | 2013-05-22 | 武汉迪源光电科技有限公司 | 一种提高GaN基LED发光效率的多量子阱结构 |
KR102019858B1 (ko) * | 2013-07-18 | 2019-09-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 및 조명시스템 |
DE102013107969B4 (de) | 2013-07-25 | 2020-04-09 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronischer Halbleiterchip |
KR102098937B1 (ko) | 2014-01-27 | 2020-04-08 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광소자 |
KR102238195B1 (ko) | 2014-11-07 | 2021-04-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 자외선 발광소자 및 조명시스템 |
CN104617174A (zh) * | 2015-01-12 | 2015-05-13 | 西安神光皓瑞光电科技有限公司 | 一种光电器件的插入层结构 |
JP6666626B2 (ja) * | 2017-01-31 | 2020-03-18 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子検出器及び荷電粒子線装置 |
JP6955172B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2021-10-27 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子とその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07170022A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2003204122A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体素子 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05102604A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2905034B2 (ja) * | 1993-05-21 | 1999-06-14 | シャープ株式会社 | 量子井戸構造体 |
JP3438648B2 (ja) * | 1999-05-17 | 2003-08-18 | 松下電器産業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JP2002270894A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 半導体発光素子 |
KR100643262B1 (ko) | 2004-12-29 | 2006-11-10 | 나이트라이드 세마이컨덕터스 코포레이션, 리미티드 | 질화갈륨계 발광장치 |
-
2008
- 2008-06-12 US US12/137,708 patent/US7649195B2/en active Active
- 2008-06-12 JP JP2008154309A patent/JP5349849B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-11 JP JP2013048467A patent/JP5542226B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07170022A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-07-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2003204122A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-18 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体素子 |
Cited By (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010067709A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びウェーハ |
US8692228B2 (en) | 2008-09-09 | 2014-04-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor light emitting device and wafer |
US8324611B2 (en) | 2008-09-09 | 2012-12-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor light emitting device and wafer |
JPWO2011021264A1 (ja) * | 2009-08-17 | 2013-01-17 | 株式会社東芝 | 窒化物半導体発光素子 |
WO2011021264A1 (ja) * | 2009-08-17 | 2011-02-24 | 株式会社 東芝 | 窒化物半導体発光素子 |
JP5044692B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2012-10-10 | 株式会社東芝 | 窒化物半導体発光素子 |
JPWO2011027417A1 (ja) * | 2009-09-01 | 2013-01-31 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
JP4881491B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2012-02-22 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
US8558215B2 (en) | 2009-12-22 | 2013-10-15 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device, light emitting device package, method of manufacturing light emitting device and lighting system |
JP2011135072A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子、発光素子パッケージ及び照明システム |
JP2011176240A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Toshiba Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
JP2012019218A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-26 | Lg Innotek Co Ltd | 発光素子 |
JPWO2014167965A1 (ja) * | 2013-04-08 | 2017-02-16 | 学校法人 名城大学 | 窒化物半導体多層膜反射鏡とそれを用いた発光素子 |
WO2014167965A1 (ja) * | 2013-04-08 | 2014-10-16 | 学校法人名城大学 | 窒化物半導体多層膜反射鏡とそれを用いた発光素子 |
US10593831B2 (en) | 2013-04-08 | 2020-03-17 | Meijo University | Nitride semiconductor multilayer film reflector and light-emitting device using the same |
JP2018501667A (ja) * | 2014-12-31 | 2018-01-18 | コンスタンテク カンパニー リミテッドConstantec Co.,Ltd. | 高電圧駆動発光素子及びその製造方法 |
JP2018500762A (ja) * | 2015-01-05 | 2018-01-11 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス部品 |
JP2016149399A (ja) * | 2015-02-10 | 2016-08-18 | ウシオ電機株式会社 | 半導体発光素子 |
WO2016129493A1 (ja) * | 2015-02-10 | 2016-08-18 | ウシオ電機株式会社 | 半導体発光素子 |
US11335829B2 (en) | 2015-06-05 | 2022-05-17 | Ostendo Technologies, Inc. | Multi-color light emitting structures with controllable emission color |
US11329191B1 (en) | 2015-06-05 | 2022-05-10 | Ostendo Technologies, Inc. | Light emitting structures with multiple uniformly populated active layers |
JP2018531514A (ja) * | 2015-10-08 | 2018-10-25 | オステンド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 琥珀色〜赤色の発光(>600nm)を有するIII族窒化物半導体発光デバイス及びこれを作製するための方法 |
JP2022071179A (ja) * | 2015-10-08 | 2022-05-13 | オステンド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 琥珀色~赤色の発光を有するiii族窒化物半導体発光led |
KR20170082830A (ko) * | 2016-01-07 | 2017-07-17 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
KR102464031B1 (ko) * | 2016-01-07 | 2022-11-07 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 발광 소자 |
JP2017143152A (ja) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
US11444222B2 (en) | 2017-09-12 | 2022-09-13 | Nikkiso Co., Ltd. | Nitride semiconductor light-emitting element and production method for nitride semiconductor light-emitting element |
JP2019004160A (ja) * | 2018-08-08 | 2019-01-10 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JP2021192457A (ja) * | 2018-08-23 | 2021-12-16 | 日機装株式会社 | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP2019054236A (ja) * | 2018-08-23 | 2019-04-04 | 日機装株式会社 | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP7194793B2 (ja) | 2018-08-23 | 2022-12-22 | 日機装株式会社 | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
WO2020095826A1 (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-14 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2020077874A (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-21 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 |
US11984535B2 (en) | 2018-11-05 | 2024-05-14 | Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | III-nitride semiconductor light-emitting device comprising barrier layers and well layers and method of producing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5349849B2 (ja) | 2013-11-20 |
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