JP2008302324A - 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 - Google Patents
透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008302324A JP2008302324A JP2007153177A JP2007153177A JP2008302324A JP 2008302324 A JP2008302324 A JP 2008302324A JP 2007153177 A JP2007153177 A JP 2007153177A JP 2007153177 A JP2007153177 A JP 2007153177A JP 2008302324 A JP2008302324 A JP 2008302324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- permeable membrane
- membrane
- treatment
- rejection rate
- blocking rate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
【解決手段】 過酸化水素水14を透過膜モジュール1の1次側3へ供給し、透過膜2を酸化処理した後、阻止率向上剤A15を供給し、必要によりさらに阻止率向上剤B16を供給して透過膜に付着させ、阻止率向上処理を行う。
【選択図】図1
Description
(1) 透過膜に酸化剤を接触させて酸化処理を行った後、
透過膜に阻止率向上剤を接触させて透過膜の阻止率を向上させる阻止率向上剤処理を行う
ことを特徴とする透過膜の阻止率向上方法。
(2) 酸化剤が過酸化物および塩素剤から選ばれるものである上記(1)記載の方法。
(3) 阻止率向上剤が、ポリアルキレングリコール鎖を有する化合物、ならびにカチオン性またはアニオン性高分子から選ばれる1種類以上のものである上記(1)または(2)記載の方法。
(4) 複数種類の阻止率向上剤を混合状態で、あるいは別々に接触させて透過膜の阻止率向上剤処理を行う上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の方法。
(5) 上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の方法により得られる透過膜。
(6) 上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の方法により得られる透過膜に被処理液を透過させて透過膜処理を行う透過膜処理方法。
(7) 上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の方法により得られる透過膜と、透過膜に被処理液を透過させて透過膜処理を行う手段を有する透過膜処理装置。
(8) 1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出す透過膜モジュールと、
モジュールの1次側に酸化剤を通液して、酸化処理を行う酸化処理装置と、
モジュールの1次側に、有機物を主成分とする阻止率向上剤を通液して、阻止率向上処理を行う阻止率向上処理装置と
を含む透過膜装置。
本発明において重量平均分子量は、高分子やポリアルキレングリコール鎖を有する化合物などの化合物の水溶液をゲル浸透クロマトグラフィーにより分析し、得られたクロマトグラムからポリエチレンオキシド標準品の分子量に換算することにより求めることができる。ポリエチレンオキシド標準品が入手し得ない高分子量の領域においては、光散乱法、超遠心法などにより重量平均分子量を求めることができる。
NaSO3−(OCXH−CYH)q−(OCH2CH2)pO(CXH−CYHO)q−SO3Na・・・[2]
H(OCH2CH2)p−O−SO3Na・・・[3]
NaSO3−(OCH2CH2)q−O−SO3Na・・・[4]
(式[1]〜式[4]において、X、Yはそれぞれ独立にHまたはCH2OH、pはそれぞれ独立に50〜150、qはそれぞれ独立に1〜100である。)
本発明の透過膜は、上記の阻止率向上方法により得られる透過膜であり、透過膜のフラックスを高くした状態で阻止率が向上し、かつその高い状態が長く維持する。
阻止率(%)=〔1−(透過液の溶質濃度×2)/(供給液の溶質濃度+濃縮液の溶質濃度)〕×100
RO装置に装填するRO膜を、日東電工(株)製ポリアミドRO膜NTR−759HRとした。TOC成分を3.5mg/L含む電子デバイス製造工場排水をpH6.0に調整し、上記RO装置を用いて、圧力1.2MPa、水温20℃の条件でRO処理を行った。フラックスは初期の0.95m/dから、100時間後は0.55m/dへと低下した。TOC阻止率は初期、100時間後とも99%以上であった。
RO装置に装填する膜を、表面改質処理した日東電工(株)製ポリアミドRO膜NTR−759HRとした。表面改質処理としては、1重量%の過酸化水素水溶液で20時間過酸化水素処理し、5mg/Lのカチオン性高分子(ポリビニルアミジン、分子量350万)で2時間阻止率向上処理し、さらに5mg/Lによるアニオン性高分子(ポリアクリル酸ナトリウム、分子量300万)で2時間阻止率向上処理した。
このRO装置を用いて、比較例1と同条件でRO処理を行った。その結果、TOC阻止率は初期、100時間後とも99%以上であった。フラックスは、初期フラックス0.88m/dに対し、100時間後のフラックスは0.80m/dであり、フラックスを高く維持することができた。
RO装置に装填する膜を、日東電工(株)製ポリアミドRO膜ES−20とした。TOC成分を1.0mg/L含む工水を、上記RO装置を用いて、圧力0.75MPa、水温20〜25℃、pHは6.5〜8.0の条件でRO処理を行った。その結果、初期フラックスは0.98m/dであったが、100時間後のフラックスは0.71m/dとなった。TOC阻止率は初期97.2%、100時間後は98.3%であった。
RO装置に装填する膜を、表面改質処理した日東電工(株)製ポリアミドRO膜ES−20とした。表面改質処理は、1重量%の過酸化水素水溶液で10時間過酸化水素処理した。このRO装置を用いて、比較例2−1と同条件でRO処理を行った。その結果、初期フラックスは1.14m/dであったが、100時間後のフラックスは0.98m/dとなった。フラックスは高く維持されたが、TOC阻止率は初期96.5%、100時間後は97.0%と低かった。
RO装置に装填する膜を、表面改質処理した日東電工(株)製ポリアミドRO膜ES−20とした。表面改質処理としては、1重量%の過酸化水素水溶液で10時間過酸化水素処理し、1mg/Lのポリエチレングリコール(分子量3000)で2時間阻止率向上処理した。このRO装置を用いて、比較例2−1と同条件でRO処理を行った。その結果、初期フラックスは0.94m/dであったが、100時間後のフラックスは0.88m/dとなった。TOC阻止率は初期98.4%、100時間後は98.7%と高かった。
RO装置に装填する膜を、表面改質処理した日東電工(株)製ポリアミドRO膜ES−20とした。表面改質処理としては、1mg/Lのポリエチレングリコール(分子量3000)で2時間阻止率向上処理した。このRO装置を用いて、比較例2−1と同条件でRO処理を行った。その結果、初期フラックスは0.77m/dであったが、100時間後のフラックスは0.64m/dとなった。TOC阻止率は初期98.6%、100時間後は99.0%であった。
RO装置に装填する膜を、表面改質処理した日東電工(株)製ポリアミドRO膜ES−20とした。表面改質処理としては実施例2−1と同じ表面改質処理とした。
このRO装置を用い、被処理水に分散剤として3−アリロキシ−ヒドロキシプロパンスルホン酸とアクリル酸を10〜30:70〜90のモノマー比で共重合させた高分子を2mg/L添加した他は、比較例2−1と同条件でRO処理を行った。その結果、初期フラックスは0.94m/dであったが、100時間後のフラックスは0.91m/dとなった。その時のTOC阻止率は初期98.5%、100時間後は98.7%であった。
2 RO膜
3 1次側
4 2次側
11 被処理水タンク
12 処理水タンク
13 酸・アルカリ性洗浄液用タンク
14 過酸化水素水溶液用タンク
15 阻止率向上剤A水溶液用タンク
16 阻止率向上剤B水溶液用タンク
Claims (8)
- 透過膜に酸化剤を接触させて酸化処理を行った後、
透過膜に阻止率向上剤を接触させて透過膜の阻止率を向上させる阻止率向上剤処理を行う
ことを特徴とする透過膜の阻止率向上方法。 - 酸化剤が過酸化物および塩素剤から選ばれるものである請求項1記載の方法。
- 阻止率向上剤が、ポリアルキレングリコール鎖を有する化合物、ならびにカチオン性またはアニオン性高分子から選ばれる1種類以上のものである請求項1または2記載の方法。
- 複数種類の阻止率向上剤を混合状態で、あるいは別々に接触させて透過膜の阻止率向上剤処理を行う請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載の方法により得られる透過膜。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載の方法により得られる透過膜に被処理液を透過させて透過膜処理を行う透過膜処理方法。
- 請求項1ないし4のいずれかに記載の方法により得られる透過膜と、透過膜に被処理液を透過させて透過膜処理を行う手段を有する透過膜処理装置。
- 1次側に被処理液を通液し、2次側から透過液を取り出す透過膜モジュールと、
モジュールの1次側に酸化剤を通液して、酸化処理を行う酸化処理装置と、
モジュールの1次側に、有機物を主成分とする阻止率向上剤を通液して、阻止率向上処理を行う阻止率向上処理装置と
を含む透過膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007153177A JP4872813B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | 透過膜の阻止率向上方法および透過膜処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007153177A JP4872813B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | 透過膜の阻止率向上方法および透過膜処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008302324A true JP2008302324A (ja) | 2008-12-18 |
JP4872813B2 JP4872813B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=40231502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007153177A Expired - Fee Related JP4872813B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | 透過膜の阻止率向上方法および透過膜処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4872813B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020032358A (ja) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 学校法人 中央大学 | ろ過膜、ろ過膜の製造方法及び表面処理剤 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5113388A (en) * | 1974-07-24 | 1976-02-02 | Kurita Water Ind Ltd | Hantomakuno seinokaizenhoho |
JPS6219208A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 疎水性多孔質膜の親水化方法 |
JPH05323115A (ja) * | 1992-05-25 | 1993-12-07 | Matsushita Electron Corp | 固体撮像装置カラーフィルターの製造方法 |
JPH10305219A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-11-17 | Kurita Water Ind Ltd | 多孔質分離膜の性能回復方法 |
JP2000334280A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | Nitto Denko Corp | 複合逆浸透膜の製造方法 |
JP2002521343A (ja) * | 1998-07-23 | 2002-07-16 | ソシエテ・ドゥ・コンセイユ・ドゥ・ルシェルシュ・エ・ダプリカーション・シャンティフィック・エス・ア・エス | 水溶性ペプチドのカプセル化 |
JP2003105552A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Seiren Co Ltd | 無電解メッキの前処理方法及びそれを用いてなる導電性材料 |
JP2005103342A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | 透過膜の処理方法 |
JP2006110520A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Kurita Water Ind Ltd | 透過膜の阻止率向上剤、阻止率向上方法、透過膜及び水処理方法 |
JP2006224048A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Japan Organo Co Ltd | 分離膜の改質方法および装置並びにその方法により改質された分離膜 |
-
2007
- 2007-06-08 JP JP2007153177A patent/JP4872813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5113388A (en) * | 1974-07-24 | 1976-02-02 | Kurita Water Ind Ltd | Hantomakuno seinokaizenhoho |
JPS6219208A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 疎水性多孔質膜の親水化方法 |
JPH05323115A (ja) * | 1992-05-25 | 1993-12-07 | Matsushita Electron Corp | 固体撮像装置カラーフィルターの製造方法 |
JPH10305219A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-11-17 | Kurita Water Ind Ltd | 多孔質分離膜の性能回復方法 |
JP2002521343A (ja) * | 1998-07-23 | 2002-07-16 | ソシエテ・ドゥ・コンセイユ・ドゥ・ルシェルシュ・エ・ダプリカーション・シャンティフィック・エス・ア・エス | 水溶性ペプチドのカプセル化 |
JP2000334280A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | Nitto Denko Corp | 複合逆浸透膜の製造方法 |
JP2003105552A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Seiren Co Ltd | 無電解メッキの前処理方法及びそれを用いてなる導電性材料 |
JP2005103342A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Kurita Water Ind Ltd | 透過膜の処理方法 |
JP2006110520A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Kurita Water Ind Ltd | 透過膜の阻止率向上剤、阻止率向上方法、透過膜及び水処理方法 |
JP2006224048A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Japan Organo Co Ltd | 分離膜の改質方法および装置並びにその方法により改質された分離膜 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020032358A (ja) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 学校法人 中央大学 | ろ過膜、ろ過膜の製造方法及び表面処理剤 |
JP7239140B2 (ja) | 2018-08-29 | 2023-03-14 | 学校法人 中央大学 | ろ過膜、ろ過膜の製造方法及び表面処理剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4872813B2 (ja) | 2012-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009022886A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 | |
TWI425976B (zh) | 奈米過濾膜或逆浸透膜之阻止率提昇劑、阻止率提昇方法、奈米過濾膜或逆浸透膜、水處理方法及水處理裝置 | |
JP2008132421A (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP5099045B2 (ja) | 逆浸透膜分離方法 | |
TWI478763B (zh) | Through the membrane to prevent the rate of lifting methods and through the membrane | |
TWI415800B (zh) | Reverse osmosis membrane treatment | |
TW200819399A (en) | Method of heavy metal removal from industrial wastewater using submerged ultrafiltration or microfiltration membranes | |
JP2010104919A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 | |
JP2008161818A (ja) | 純水の製造方法及び装置 | |
JP2009056406A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜および透過膜装置 | |
JPWO2008059824A1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP2016128142A (ja) | 半透膜の阻止率向上方法 | |
JP4968027B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜を用いる水処理方法および透過膜装置 | |
JP6379571B2 (ja) | 造水方法および造水装置 | |
JP6648695B2 (ja) | 半透膜分離装置の運転方法 | |
JP2009172531A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 | |
JP4770633B2 (ja) | 逆浸透膜処理方法 | |
JP5018306B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、透過膜処理方法および装置 | |
JP4872813B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法および透過膜処理方法 | |
JP2008036605A (ja) | 純水製造装置および純水製造方法 | |
WO2016111372A1 (ja) | 半透膜の阻止性能向上方法、半透膜、半透膜造水装置 | |
JP2008246448A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 | |
JP2008238121A (ja) | 透過膜の阻止率向上方法、阻止率向上透過膜、透過膜処理方法および装置 | |
JP5333124B2 (ja) | 透過膜の阻止率向上方法及び透過膜 | |
JP2015097990A (ja) | 逆浸透膜の阻止率向上方法、逆浸透膜、及び水処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100405 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111025 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111107 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |